技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種中紅外雙層納米金屬光柵的制備方法及利用該方法制備獲得的中紅外雙層納米金屬光柵。包括如下步驟：制作壓印模板，采用熱壓印工藝復(fù)制軟模板，將鎳硬模板上納米線柵結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移復(fù)制到軟模板上，得到與原鎳硬模板結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的納米線柵結(jié)構(gòu)；提供一作為光柵基底的透紅外材料；采用滴膠旋涂方式在基底表面旋涂光柵壓印膠介質(zhì)層；轉(zhuǎn)移納米圖案，采用紫外曝光納米壓印工藝，將前述軟模板壓印到壓印膠介質(zhì)層，使納米線柵結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到光柵壓印膠介質(zhì)層上；利用垂直熱蒸鍍工藝在上述光柵壓印膠介質(zhì)層納米線柵結(jié)構(gòu)凸起和凹槽部位沉積金屬，完成中紅外雙層納米金屬光柵的制備。

技術(shù)研發(fā)人員：褚金奎;康維東;曾祥偉;張然;關(guān)樂;樊元義
受保護(hù)的技術(shù)使用者：大連理工大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.07.07
技術(shù)公布日：2017.10.24