技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種補償由光刻鏡頭散射光導(dǎo)致曝光誤差的方法，其通過量測每個曝光區(qū)域內(nèi)受到散射光影響的特征尺寸CD大小，從而計算出該曝光區(qū)域內(nèi)由于光刻鏡頭霧化產(chǎn)生的散射光在整個曝光區(qū)域內(nèi)的分布情況，換算補償?shù)綄崟r曝光時該區(qū)域所對應(yīng)的曝光劑量中，通過補償曝光劑量來減少由于散射光造成的特征尺寸CD的過大差異，從而減少曝光誤差。

技術(shù)研發(fā)人員：張煜;鄭海昌;朱駿
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
文檔號碼：201710170252
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.21
技術(shù)公布日：2017.05.31