1.一種掩模板，其特征在于，包括：基板，以及位于所述基板上的對位區(qū)域；其中，
所述對位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對位標記和對位標尺；
所述第一對位標記的圖形與將要對位的膜層上的第二對位標記的圖形相匹配；
所述對位標尺經(jīng)過所述第一對位標記與所述第二對位標記相對應(yīng)的區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第一對位標記的尺寸大于所述第二對位標記的尺寸；
所述對位標尺包括：位于所述第一對位標記的圖形內(nèi)部的水平標尺和豎直標尺。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述水平標尺和所述豎直標尺與所述第一對位標記的幾何中心的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的掩模板。其特征在于，所述第一對位標記的尺寸小于所述第二對位標記的尺寸；
所述對位標尺包括：經(jīng)過所述第一對位標記的圖形或位于所述第一對位標記的圖形的邊緣的水平標尺和豎直標尺；
所述水平標尺的長度大于所述第二對位標記在水平方向上的長度，所述豎直標尺的長度大于所述第二對位標記在豎直方向上的長度。
5.如權(quán)利要求1-4任一項所述的掩模板，其特征在于，所述對位標尺的最小刻度的寬度范圍為3μm-7μm。
6.一種對位方法，其特征在于，包括：
采用如權(quán)利要求1-5任一項所述的掩模板在襯底基板上制作第一膜層；
在制作所述第一膜層之上的第二膜層時，根據(jù)所述第一膜層上的對位標尺得到對位數(shù)據(jù)；
根據(jù)所述對位數(shù)據(jù)移動制作所述第二膜層的掩模板。
7.一種對位方法，其特征在于，包括：
在襯底基板上制作第一膜層；
采用如權(quán)利要求1-5任一項所述的掩模板在所述第一膜層之上制作第二膜層，并根據(jù)所述掩模板上的對位標尺得到對位數(shù)據(jù)；
根據(jù)所述對位數(shù)據(jù)移動所述掩模板。
8.一種顯示面板，其特征在于，包括：襯底基板，以及位于所述襯底基板上的對位區(qū)域；其中，
所述對位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對位標記和對位標尺；
所述第一對位標記的圖形與將要對位的對向基板上的第二對位標記的圖形相匹配；
所述對位標尺經(jīng)過所述第一對位標記與所述第二對位標記相對應(yīng)的區(qū)域。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求8所述的顯示面板。
10.一種權(quán)利要求9所述的顯示裝置的對盒方法，其特征在于，包括：
在對盒過程中，根據(jù)顯示面板上的對位標尺，確定對位數(shù)據(jù)；
根據(jù)所述對位數(shù)據(jù)移動所述顯示面板和/或所述顯示面板的對向基板。