本實用新型涉及制版機設備技術領域，尤其涉及一種柔性制版機曝光裝置。

背景技術：

印刷行業(yè)對我國國民經濟有著重要的影響行業(yè)，制版印刷技術在我國已經有兩千年的悠久歷史了，最早采用的是凸字刻板及活字印刷，目前印刷行業(yè)的出版方式有很多種，現在基本采用的是機器制版。

現有的制版機曝光裝置一般都是將版材直接放置在雙面膠粘連板上或通過抽真空裝置對版材進行吸附，但是這種方法很容易對版材的表面造成刮傷和變形，影響版材曝光的質量，且曝光過程需要大量的曝光燈同時工作進行曝光，資源浪費嚴重。

技術實現要素：

為解決上述問題，本實用新型提供能減少版材與曝光基臺之間的摩擦，提高版材曝光質量，同時節(jié)省能源，降低生產投入的一種柔性制版機曝光裝置。

本實用新型所采用的技術方案是：一種柔性制版機曝光裝置，包括曝光基臺和曝光燈組件，所述曝光燈組件設置于曝光基臺上方，所述曝光基臺設置有若干個噴氣孔和壓力感應器，所述噴氣孔連接有用于控制噴氣孔噴出氣流大小的氣流控制系統，所述氣流控制系統包括控制器和壓縮機，所述控制器與壓力感應器和壓縮機電連接，所訴曝光燈組件包括LED曝光燈和分光機構，所述分光機構設置有若干個光射通道。

本技術方案的進一步改進為，還包括移動單元，所述移動單元包括伺服電機、絲桿、進給螺母座，所述曝光燈組件設置于進給螺母座。

本技術方案的進一步改進為，還包括密閉箱體，所述曝光基臺、曝光燈組件和移動單元均設置于密閉箱體內。

本技術方案的進一步改進為，所述密閉箱體內設置有充氮機構。

本技術方案的進一步改進為，所述密閉箱體內設置有光照測試儀。

本實用新型的有益效果為:

本實用新型通過壓力感應器感應放置于曝光基臺表面曝光基臺所承受的壓力，即版材的重力反饋到控制器，控制器發(fā)送信息到氣流控制系統，氣流控制系統調節(jié)從壓縮機中輸出氣流的氣流壓力，使空氣從噴氣孔中噴出，當噴出的氣流壓力與版材的重力相等時，版材懸浮于曝光基臺上方，控制器控制曝光基臺上方的曝光燈組件打開，LED曝光燈發(fā)出的光線經過分光機構從分光機構折射成多道射線射出，照射于版材上對版材進行曝光，本實用新型結構簡單，使曝光過程中版材與曝光基臺零摩擦、不會造成刮傷變形，同時通過分光機構使光源擴散，無需安裝大量光源，節(jié)省能源，減少生產投入。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型曝光基臺的立體結構圖；

圖3為本實用新型曝光基臺的結構示意圖；

圖4為本實用新型曝光燈組件的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本實用新型作進一步的說明。

如圖1～4所示，一種柔性制版機曝光裝置，包括曝光基臺1和曝光燈組件2，曝光燈組件2設置于曝光基臺1上方，曝光基臺1設置有若干個噴氣孔11和壓力感應器12，噴氣孔11連接有用于控制噴氣孔11噴出氣流大小的氣流控制系統3，氣流控制系統3包括控制器和壓縮機，控制器與壓力感應器12和壓縮機電連接，所訴曝光燈組件2包括LED曝光燈21和分光機構22，分光機構22設置有若干個光射通道221。本實用新型通過壓力感應器12感應放置于曝光基臺1表面曝光基臺1所承受的壓力，即版材的重力反饋到控制器，控制器發(fā)送信息到氣流控制系統3，氣流控制系統3調節(jié)從壓縮機中輸出氣流的氣流壓力，使空氣從噴氣孔11中噴出，當噴出的氣流壓力與版材的重力相等時，版材懸浮于曝光基臺1上方，控制器控制曝光基臺1上方的曝光燈組件2打開，LED曝光燈21發(fā)出的光線經過分光機構22從分光機構22折射成多道射線射出，照射于版材上對版材進行曝光，本實用新型結構簡單，使曝光過程中版材與曝光基臺1零摩擦、不會造成刮傷變形，同時通過分光機構22使光源擴散，無需安裝大量光源，節(jié)省能源，減少生產投入。

還包括移動單元4，移動單元4包括伺服電機41、絲桿42、進給螺母座43，曝光燈組件2設置于進給螺母座43，在版材的面積較大時，可通過移動單元4移動安裝于進給螺母座43的曝光燈組件2，使光線照射于版材的不同位置，適應性更強，提高設備適用范圍。

還包括密閉箱體5，曝光基臺1、曝光燈組件2和移動單元4均設置于密閉箱體5內，在密閉箱體5中曝光，減少空氣對曝光的影響，提高曝光穩(wěn)定性。

密閉箱體5內設置有充氮機構6，將密閉箱體5中的空氣排出，進一步提高曝光的穩(wěn)定性。

密閉箱體5內設置有光照測試儀7，實時監(jiān)控曝光燈組件2發(fā)出的光源的強弱，及時更換光源，防止光源老化造成曝光質量下降，提高了曝光質量的穩(wěn)定性。

以上所述實施例僅表達了本實用新型的一種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本實用新型專利的保護范圍應以所附權利要求為準。