本實用新型涉及光刻制造工藝中的設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光刻膠供應(yīng)裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的晶圓加工行業(yè)中黃光使用機臺大部分為ACT8track機臺，在光刻膠使用上是在機臺發(fā)生報警提示光刻膠已使用完，制造人員直接進行更換。但在實際操作過程中，光刻膠桶底部的光刻膠將有殘余，在光刻膠無法完全利用的狀態(tài)下更換膠桶，造成光刻膠的浪費。而光刻膠屬于高成本物料，無法利用的光刻膠在一定程度上增加了生產(chǎn)成本，降低了光刻膠的利用率，同時殘留的光刻膠也會造成環(huán)境的污染。

特別地，當(dāng)光刻膠桶內(nèi)的光刻膠稀少的情況下，會造成大量氣泡進入管路，而空氣殘留于光刻膠中會影響光刻工藝，例如可能造成光刻膠涂覆不均勻，而使得最終形成的器件圖形扭曲，造成一定的損失。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)光刻膠的使用中利用率低、浪費嚴(yán)重、污染環(huán)境且影響光刻產(chǎn)品質(zhì)量的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，包括：用于存儲光刻膠的光刻膠桶；用于暫存光刻膠的暫存容器；以及連通所述光刻膠桶和所述暫存容器的導(dǎo)流管，所述供應(yīng)裝置還包括：承載盤，所述承載盤包括底盤和側(cè)壁，所述底盤的邊緣嵌于所述側(cè)壁底部的內(nèi)側(cè)并可相對于所述側(cè)壁滑動；所述承載盤內(nèi)承載所述光刻膠桶，且所述承載盤與所述光刻膠桶光滑接觸；重量感應(yīng)器，所述重量感應(yīng)器與所述底盤連接并偵測所述光刻膠桶的重量；控制裝置，所述控制裝置包括控制器和馬達，所述控制器與所述重量感應(yīng)器連接并接收所述重量感應(yīng)器的信息以控制所述馬達動作，所述馬達與所述底盤連接并帶動所述底盤轉(zhuǎn)動。

于本實用新型的一實施方式中，所述側(cè)壁底部的內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈環(huán)形導(dǎo)軌，所述底盤的邊緣設(shè)有多個滑塊，所述滑塊位于所述環(huán)形導(dǎo)軌內(nèi)并可在環(huán)形導(dǎo)軌內(nèi)滑動。

于本實用新型的一實施方式中，所述馬達通過聯(lián)軸器與所述底盤軸連接。

于本實用新型的一實施方式中，還包括L形結(jié)構(gòu)的安裝支架，所述安裝支架的上端固定于所述側(cè)壁的外側(cè)，所述安裝支架的下端固定安裝所述馬達。

于本實用新型的一實施方式中，所述承載盤及所述光刻膠桶均與水平面呈一傾角，所述傾角的范圍為45°～60°。

于本實用新型的一實施方式中，還包括多個偵測感應(yīng)器，所述偵測感應(yīng)器由上至下設(shè)置于所述暫存容器內(nèi)的不同位置，適于偵測所述暫存容器內(nèi)光刻膠的液位。

于本實用新型的一實施方式中，所述偵測感應(yīng)器設(shè)置有三個，分別為高液位偵測感應(yīng)器、中液位偵測感應(yīng)器和低液位偵測感應(yīng)器。

于本實用新型的一實施方式中，所述高液位偵測感應(yīng)器與所述暫存容器的頂部之間設(shè)有間距，適于在所述暫存容器內(nèi)的光刻膠即將用完時預(yù)留氣泡空間。

于本實用新型的一實施方式中，所述高液位偵測感應(yīng)器與所述重量感應(yīng)器連接，適于在所述暫存容器內(nèi)的光刻膠液位低于所述高液位偵測感應(yīng)器時觸發(fā)所述重量感應(yīng)器啟動。

于本實用新型的一實施方式中，所述暫存容器頂部還設(shè)有排氣管，適于排除在光刻膠桶內(nèi)光刻膠稀少的時候產(chǎn)生的氣泡。

如上所述，本實用新型的光刻膠供應(yīng)裝置，具有以下有益效果：

1、通過可旋轉(zhuǎn)的承載盤設(shè)計，使導(dǎo)流管與光刻膠桶全方位接觸，充分吸走光刻膠，提高光刻膠的利用率，降低成本，減少污染。

2、通過對暫存容器的改良，提高了晶圓的光刻膠涂覆質(zhì)量，同時減少了排泡時光刻膠的損失。

附圖說明

圖1為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置的承載盤的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置的馬達與底盤的連接示意圖。

圖4為現(xiàn)有技術(shù)中暫存容器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置中暫存容器的結(jié)構(gòu)示意圖。

元件標(biāo)號說明

1 光刻膠桶

2 暫存容器

3 導(dǎo)流管

4 承載盤

41 底盤

42 側(cè)壁

43 滑塊

44 固定軸

5 重量感應(yīng)器

6 馬達

7 聯(lián)軸器

8 偵測感應(yīng)器

81 高液位偵測感應(yīng)器

82 中液位偵測感應(yīng)器

83 低液位偵測感應(yīng)器

9 氣泡空間

10 排氣管

11 涂布單元

12 安裝支架

具體實施方式

以下由特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。

請參閱圖1至圖5。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實用新型可實施的限定條件，故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達成的目的下，均應(yīng)仍落在本實用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實用新型可實施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實用新型可實施的范疇。

請參閱圖1，本實用新型提供一種光刻膠供應(yīng)裝置，包括：用于存儲光刻膠的光刻膠桶1；用于暫存光刻膠的暫存容器2；以及連通所述光刻膠桶1和所述暫存容器2的導(dǎo)流管3，所述供應(yīng)裝置還包括：承載盤4，所述承載盤4包括底盤41和側(cè)壁42，所述底盤41的邊緣嵌于所述側(cè)壁42底部的內(nèi)側(cè)并可相對于所述側(cè)壁42滑動；所述承載盤4內(nèi)承載所述光刻膠桶1，且所述承載盤4與所述光刻膠桶1光滑接觸；重量感應(yīng)器5，所述重量感應(yīng)器5與所述底盤41連接并偵測所述光刻膠桶1的重量；控制裝置，所述控制裝置包括控制器(未示出)和馬達6，所述控制器與所述重量感應(yīng)器5連接并接收所述重量感應(yīng)器5的信息以控制所述馬達6動作，所述馬達6與所述底盤41連接并帶動所述底盤41轉(zhuǎn)動。

需要注意的是，光刻膠桶1內(nèi)的光刻膠通過加入一定氣壓的氮氣將光刻膠壓入所述暫存容器2中的，當(dāng)然，也可以使用泵進行抽取光刻膠至所述暫存容器2中。所述暫存容器2的光刻膠出口處連接涂布單元11，所述涂布單元11用于對晶圓進行光阻涂覆。

請參閱圖2，為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置的承載盤4的結(jié)構(gòu)示意圖。所述側(cè)壁42底部的內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈環(huán)形導(dǎo)軌(未示出)，所述底盤41的邊緣設(shè)有多個滑塊43，所述滑塊43位于所述環(huán)形導(dǎo)軌內(nèi)并可在環(huán)形導(dǎo)軌內(nèi)滑動。

請參閱圖3，為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置的馬達6與底盤41的連接示意圖。作為示例，所述馬達6通過聯(lián)軸器7與所述底盤41軸連接。這里，所述底盤41下固定設(shè)有固定軸44，所述馬達6的輸出端通過所述聯(lián)軸器7與所述底盤41下的固定軸44進行軸連接，這樣，所述馬達6轉(zhuǎn)動就會帶動所述底盤41一起轉(zhuǎn)動，又由于所述承載盤4與所述光刻膠桶1光滑接觸，所以，所述光刻膠桶1不會隨底盤41轉(zhuǎn)動，但是，所述光刻膠桶1內(nèi)光刻膠的液位會隨著所述底盤41的轉(zhuǎn)動而不斷變化，也即達到了所述導(dǎo)流管3與所述光刻膠桶1的底部全面接觸。

需要注意的是，由于所述底盤41轉(zhuǎn)動的目的只是為了讓導(dǎo)流管3與不同液位的光刻膠接觸，所以，馬達6的轉(zhuǎn)速不需要很快。

作為示例，所述光刻膠供應(yīng)裝置還包括L形結(jié)構(gòu)的安裝支架12，所述安裝支架12的上端固定于所述承載盤4側(cè)壁42的外側(cè)，所述安裝支架12的下端固定安裝所述馬達6，也即所述安裝支架12用于支撐所述馬達6。

作為示例，所述承載盤4及所述光刻膠桶1均與水平面呈一傾角，所述傾角的范圍為45°～60°。所述承載盤4及所述光刻膠桶1均與水平面呈一傾角的目的是，在光刻膠剩余量不多的情況下使光刻膠聚集在光刻膠桶1底的最低處，便于收集和吸取光刻膠，減少浪費。

為了避免在桶內(nèi)光刻膠稀少的情況下，造成大量氣泡進入管路，本實用新型的光刻膠供應(yīng)裝置還對暫存容器2進行了改進，將現(xiàn)有技術(shù)中暫存容器2的上下兩個偵測感應(yīng)器8(如圖4)，改為上中下三個偵測感應(yīng)器8，將最上邊偵測感應(yīng)器8的位置適當(dāng)下調(diào)，預(yù)留一部分氣泡空間9。

具體請參閱圖5，其為本實用新型光刻膠供應(yīng)裝置中暫存容器2的結(jié)構(gòu)示意圖。

作為示例，所述光刻膠供應(yīng)裝置還包括多個偵測感應(yīng)器8，所述偵測感應(yīng)器8由上至下設(shè)置于所述暫存容器2內(nèi)的不同位置，適于偵測所述暫存容器2內(nèi)光刻膠的液位，防止當(dāng)光刻膠桶1中的光刻膠被抽空時光刻膠供應(yīng)裝置繼續(xù)工作。

作為示例，所述偵測感應(yīng)器8設(shè)置有三個，分別為高液位偵測感應(yīng)器81、中液位偵測感應(yīng)器82和低液位偵測感應(yīng)器83。所述高液位偵測感應(yīng)器81位于所述暫存容器2的光刻膠入口處，所述低液位偵測感應(yīng)器83位于所述暫存容器2的光刻膠出口處，所述中液位偵測感應(yīng)器82設(shè)置于所述暫存容器2的中部。

作為示例，所述高液位偵測感應(yīng)器81與所述暫存容器2的頂部之間設(shè)有間距，適于在所述暫存容器2內(nèi)的光刻膠即將用完時預(yù)留氣泡空間9。

因為如果不預(yù)留氣泡空間9，在光刻膠桶1內(nèi)光刻膠越來越少直至導(dǎo)流管3吸取不到光刻膠時，就會有氣泡進入導(dǎo)流管3中，進而影響后續(xù)涂布單元11的工藝制程，同時，在排放氣泡時，殘余的光刻膠也會隨氣體排出造成損失。

作為示例，所述高液位偵測感應(yīng)器81與所述重量感應(yīng)器5連接，適于在所述暫存容器2內(nèi)的光刻膠液位低于所述高液位偵測感應(yīng)器81時觸發(fā)所述重量感應(yīng)器5啟動。

所述光刻膠供應(yīng)裝置的工作過程為：首先，設(shè)置光刻膠空桶時的重量作為設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)值，當(dāng)光刻膠液位達到所述高液位偵測感應(yīng)器81時觸發(fā)所述重量感應(yīng)器5，所述重量感應(yīng)器5對光刻膠桶1進行重量偵測，如果偵測結(jié)果≦設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)值，說明光刻膠桶1內(nèi)已經(jīng)沒有光刻膠，所述重量感應(yīng)器5發(fā)送信號給所述控制器，所述控制器啟動報警裝置，提醒換桶；如果偵測結(jié)果＞設(shè)定標(biāo)準(zhǔn)值時，說明光刻膠桶1內(nèi)還有殘液沒用使用完畢，且所述重量感應(yīng)器5發(fā)送信號給所述控制器，所述控制器控制馬達6旋轉(zhuǎn)，通過馬達6的旋轉(zhuǎn)帶動底盤41，使導(dǎo)流管3與光刻膠桶1有一個無死角接觸，這樣可以充分吸走光刻膠。

需要注意的是，當(dāng)光刻膠液位達到所述中液位偵測感應(yīng)器82時，機臺暫時停止向涂布單元11傳輸晶圓；當(dāng)光刻膠液位達到所述低液位偵測感應(yīng)器83時，即所述低液位偵測感應(yīng)器83偵測到氣泡產(chǎn)生，機臺報警，整體停止運作。

作為示例，所述暫存容器2頂部還設(shè)有排氣管10，適于排除在光刻膠桶1內(nèi)光刻膠稀少的時候產(chǎn)生的氣泡。

綜上所述，本實用新型的光刻膠供應(yīng)裝置，通過設(shè)計可旋轉(zhuǎn)的承載盤，使導(dǎo)流管與光刻膠桶有一個無死角接觸，這樣可以充分吸走光刻膠，提高光刻膠的利用率，降低成本，減少了排出的光刻膠廢液，從而減輕了對環(huán)境的污染；通過對暫存容器的偵測感應(yīng)器的改良，提高了晶圓的光刻膠涂覆質(zhì)量，同時減少了排泡時的損失。

上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。