本發(fā)明的實(shí)施例涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)和有機(jī)發(fā)光顯示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)均包括用于濾光的彩膜基板和設(shè)置有TFT像素陣列的陣列基板。

為了保證在彩膜基板和陣列基板完成對(duì)盒工藝后它們之間的盒厚均一，即保證彩膜基板和陣列基板之間的垂直距離在對(duì)盒后處處相等，需要在彩膜基板和陣列基板上設(shè)置對(duì)位標(biāo)識(shí)。在進(jìn)行對(duì)盒工藝之前，對(duì)位標(biāo)識(shí)可以用于監(jiān)測(cè)襯底基板的形變，例如內(nèi)縮、外擴(kuò)等，以對(duì)襯底基板發(fā)生的形變進(jìn)行及時(shí)的修正；在對(duì)盒工藝的過(guò)程中，對(duì)位標(biāo)識(shí)可以幫助彩膜基板和陣列基板之間準(zhǔn)確對(duì)盒。

為了保證對(duì)盒工藝后的彩膜基板和陣列基板之間的盒厚一致，在彩膜基板和襯底基板之間設(shè)置一定高度的隔墊物用于支撐彩膜基板。隔墊物既可以形成于彩膜基板上，又可以形成于陣列基板上。隔墊物分布在彩膜基板或陣列基板的顯示區(qū)域(AA區(qū)域)和外圍區(qū)域(dummy區(qū)域)，以保證彩膜基板的AA區(qū)域和dummy區(qū)域均能得到隔墊物的支撐。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板，包括：襯底基板；位于所述襯底基板上的顯示區(qū)域和位于所述顯示區(qū)域周邊的外圍區(qū)域；其中，所述外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置有朝著所述襯底基板凹入的填充區(qū)域，所述填充區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)識(shí)和透明的填充材料，所述填充材料用于填充所述填充區(qū)域使其與所述外圍區(qū)域的除所述填充區(qū)域以外的區(qū)域的表面平齊。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述顯示基板為彩膜基板，所述顯示區(qū)域和所述外圍區(qū)域的除所述填充區(qū)域以外的區(qū)域均包括疊層設(shè)置的黑矩陣、彩色樹脂層、介質(zhì)保護(hù)層，所述填充區(qū)域包括對(duì)位標(biāo)識(shí)和介質(zhì)保護(hù)層。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述填充材料與所述隔墊物的材料相同。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述填充材料與所述隔墊物的材料可為密胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、尿素樹脂。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述對(duì)位標(biāo)識(shí)在所述襯底基板上的垂直投影的形狀包括十字形、圓弧形、環(huán)形或Z字形。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述顯示基板為陣列基板，所述顯示區(qū)域和所述外圍區(qū)域的除所述填充區(qū)域以外的區(qū)域均包括疊層設(shè)置的第一金屬層、絕緣層和鈍化層，所述填充區(qū)域包括對(duì)位標(biāo)識(shí)、所述絕緣層和所述鈍化層。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述顯示區(qū)域和所述外圍區(qū)域的除所述填充區(qū)域以外的區(qū)域在所述疊層上還設(shè)置有平坦層，所述填充材料與所述平坦層的材料相同。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板中，所述填充材料與所述平坦層在同一工藝步驟中形成。

本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例提供一種顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上設(shè)置顯示區(qū)域和外圍區(qū)域，其中，所述外圍區(qū)域設(shè)置在所述顯示區(qū)域的周邊；在所述外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置朝著所述襯底基板凹入的填充區(qū)域；在所述填充區(qū)域內(nèi)形成對(duì)位標(biāo)識(shí)和填充材料，使所述填充區(qū)域與所述外圍區(qū)域的除所述填充區(qū)域以外的區(qū)域的表面平齊。

本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括上述任一實(shí)施例中的顯示基板。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本發(fā)明的一些實(shí)施例，而非對(duì)本發(fā)明的限制。

圖1為一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為制作圖1中的顯示基板的隔墊物所用到的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為對(duì)圖1中的顯示基板改進(jìn)后的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之前的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之后的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為制作圖4中顯示基板的隔墊物所用到的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖及局部放大圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之前的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之后的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法總體流程示意圖。

附圖標(biāo)記：

100-顯示基板；200-彩膜基板；300-陣列基板；101-襯底基板；102-顯示區(qū)域；103-外圍區(qū)域；104-填充區(qū)域；1051-第一對(duì)位標(biāo)識(shí)；1052-第二對(duì)位標(biāo)識(shí)；106-黑矩陣；107-彩色樹脂層；108-介質(zhì)保護(hù)層；109-隔墊物；110-第一金屬層；111-絕緣層；112-鈍化層；113-平坦層；114-豁口。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于所描述的本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在無(wú)需創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

除非另外定義，本公開使用的技術(shù)術(shù)語(yǔ)或者科學(xué)術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語(yǔ)并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來(lái)區(qū)分不同的組成部分?！鞍ā被蛘摺鞍钡阮愃频脑~語(yǔ)意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件?！斑B接”或者“相連”等類似的詞語(yǔ)并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對(duì)位置關(guān)系，當(dāng)被描述對(duì)象的絕對(duì)位置改變后，則該相對(duì)位置關(guān)系也可能相應(yīng)地改變。

在顯示基板的制作過(guò)程中，通常在顯示基板的外圍區(qū)域(dummy區(qū)域)內(nèi)設(shè)置向襯底基板凹入的豁口，在豁口內(nèi)設(shè)置對(duì)位標(biāo)識(shí)。但是，這樣會(huì)在外圍區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)段差。而該段差的存在會(huì)導(dǎo)致在彩膜基板或陣列基板的表面涂覆的配向膜不均勻，然后在不均勻的配向膜上進(jìn)行摩擦工藝實(shí)現(xiàn)液晶分子取向，則會(huì)造成液晶分子不能沿正確的方向排列，最終造成顯示面板在工作時(shí)顯示不均，造成顯示品質(zhì)欠佳。

例如，圖1為一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。例如，如圖1所示，顯示基板100包括襯底基板101，襯底基板101上設(shè)置有顯示區(qū)域102和位于顯示區(qū)域102周邊的外圍區(qū)域103，外圍區(qū)域103內(nèi)設(shè)置有朝向襯底基板101凹入的豁口114，在豁口114內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)識(shí)(第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052)。如果在對(duì)顯示基板100的表面涂覆配向膜后，在豁口114處的配向膜不均勻，則在圖1中對(duì)配向膜進(jìn)行摩擦工藝時(shí)，在不均勻的配向膜的表面上形成的溝槽也是不均勻的，這將會(huì)導(dǎo)致液晶分子的取向不正確或不均勻。圖2為制作圖1中的顯示基板的隔墊物所用到的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖。從圖2中可以看出，通過(guò)該掩模板形成的隔墊物不會(huì)形成于豁口114所在的位置處。

對(duì)于彩膜基板，通常在其制作過(guò)程中會(huì)用到5套掩膜板，分別用于形成黑矩陣、彩色樹脂層(R、G、B)和隔墊物，讓填充區(qū)域形成在非顯示區(qū)所對(duì)應(yīng)的位置處。例如，圖3為對(duì)圖1中的顯示基板改進(jìn)后的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。例如，對(duì)位標(biāo)識(shí)移到了顯示區(qū)域外，即使這樣，在某些情況下仍不能將所有的顯示區(qū)對(duì)應(yīng)的填充區(qū)域移至非顯示區(qū)。而且，即使移到了非顯示區(qū)，由于填充區(qū)域距離顯示區(qū)的距離非常近，也會(huì)因?yàn)轱@示基板的一點(diǎn)形變而導(dǎo)致液晶分子的取向不正確，從而最終造成顯示面板在工作時(shí)顯示不均，造成顯示品質(zhì)欠佳。

本發(fā)明至少一實(shí)施例提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。該顯示基板，包括：襯底基板；位于襯底基板上的顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域周邊的外圍區(qū)域；其中，外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置有朝著襯底基板凹入的填充區(qū)域，填充區(qū)域內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)識(shí)和透明的填充材料，填充材料用于填充該填充區(qū)域使其與外圍區(qū)域的除填充區(qū)域以外的區(qū)域的表面平齊。該顯示基板用填充材料將填充區(qū)域處填充，來(lái)減小或消除填充區(qū)域處的段差，進(jìn)而避免由于該段差在摩擦工藝中所導(dǎo)致的液晶分子的取向不正確，最終避免顯示面板顯示效果下降。

本發(fā)明至少一實(shí)施例提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。該顯示基板上設(shè)置有填充區(qū)域，填充區(qū)域內(nèi)設(shè)置有用于監(jiān)測(cè)襯底基板形變和在對(duì)盒工藝中作為對(duì)位標(biāo)定物的對(duì)位標(biāo)識(shí)。該顯示基板可以為彩膜基板或陣列基板。當(dāng)該顯示基板為彩膜基板時(shí)，可以在后續(xù)形成隔墊物的工藝過(guò)程中完成對(duì)填充區(qū)域的填充，以消除填充區(qū)域處的段差，從而避免顯示面板的由于填充區(qū)域處的段差帶來(lái)的顯示不均的問題，同時(shí)節(jié)省了工藝步驟和生產(chǎn)成本；當(dāng)該顯示基板為陣列基板時(shí)，可以在后續(xù)形成絕緣層、鈍化層、平坦層或隔墊物的工藝過(guò)程中完成對(duì)填充區(qū)域的填充，以消除填充區(qū)域處的段差，從而避免顯示面板的由于填充區(qū)域處的段差帶來(lái)的顯示不均的問題，同時(shí)節(jié)省了工藝步驟和生產(chǎn)成本。

下面通過(guò)幾個(gè)實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。

實(shí)施例一

本實(shí)施例提供一種顯示基板，如圖4所示，為本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。該顯示基板100包括：襯底基板101；位于襯底基板101上的顯示區(qū)域102和位于顯示區(qū)域102周邊的外圍區(qū)域103；其中，外圍區(qū)域103內(nèi)設(shè)置有朝著襯底基板101凹入的填充區(qū)域104，填充區(qū)域104內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)識(shí)和透明的填充材料，對(duì)位標(biāo)識(shí)分為第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052，填充材料用于填充該填充區(qū)域使其與外圍區(qū)域的除該填充區(qū)域以外的區(qū)域的表面平齊。

例如，填充材料用于填充該填充區(qū)域104從而使填充后的填充區(qū)域的上表面與外圍區(qū)域103的上表面平齊或基本平齊。這樣就可以消除填充區(qū)域處的段差，使涂覆的配向膜在填充區(qū)域所在的位置變得均勻，從而有利于液晶分子的正確取向。

例如，對(duì)位標(biāo)識(shí)(第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052)在襯底基板101上的垂直投影面積小于填充區(qū)域104的底部面積。例如，如圖4所示，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051用來(lái)檢測(cè)襯底基板的形變，例如內(nèi)縮和外擴(kuò)等，第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052用來(lái)檢測(cè)顯示基板對(duì)位時(shí)是否偏移。例如，對(duì)位標(biāo)識(shí)在襯底基板101上的垂直投影的形狀包括十字形、圓弧形、環(huán)形或Z字形等。例如，如圖4所示，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051在襯底基板上的垂直投影并未覆蓋整個(gè)填充區(qū)域104的底面，在第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和除填充區(qū)域104以外的外圍區(qū)域103之間有透明區(qū)域，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和填充區(qū)域104的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)并無(wú)直接接觸，從圖4可以看出第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051形成于外圍區(qū)域103的斷開處；第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052在襯底基板101上的垂直投影也并未覆蓋整個(gè)填充區(qū)域104的底面，但第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052和填充區(qū)域104的左右兩側(cè)均直接接觸，即第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052形成于外圍區(qū)域103的有填充區(qū)域但并未斷開的地方，這樣可以與第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051進(jìn)行區(qū)分。例如，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051也可以與填充區(qū)域104的左右兩側(cè)均直接接觸，第二對(duì)位標(biāo)識(shí)1052也可以與填充區(qū)域104的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)無(wú)直接接觸。

當(dāng)該顯示基板100為彩膜基板200時(shí)，例如，圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之前的截面結(jié)構(gòu)示意圖。顯示區(qū)域102和外圍區(qū)域103的除填充區(qū)域104以外的區(qū)域均包括疊層設(shè)置的黑矩陣106、彩色樹脂層107、介質(zhì)保護(hù)層108，填充區(qū)域104包括對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和介質(zhì)保護(hù)層108。形成黑矩陣106和彩色樹脂層107的先后順序不限，并不限于圖5中所示的結(jié)構(gòu)，可以包括兩種方式。方式一：在襯底基板上先形成黑矩陣106，在形成有黑矩陣106的襯底基板上形成彩色樹脂層107。方式二：在襯底基板上先形成彩色樹脂層107，在形成有彩色樹脂層107的襯底基板上形成黑矩陣106。彩色樹脂層至少包括同層設(shè)置的紅色樹脂層、綠色樹脂層和藍(lán)色樹脂層。介質(zhì)保護(hù)層108可以為透明的氮化硅、氧化硅或氮氧化硅，該介質(zhì)保護(hù)層108通過(guò)鍍膜工藝形成，其厚度處處相等。

例如，黑矩陣106的厚度為1.0μm至2.0μm，例如為1.15μm；彩色樹脂層107的厚度為2.5μm至3.5μm，例如為3.0μm；介質(zhì)保護(hù)層108的厚度為1.0μm至2.0μm，例如為1.5μm。由此可以看出，彩色樹脂層107的厚度占到了將近整個(gè)疊層的厚度的一半，而填充區(qū)域104內(nèi)設(shè)置有對(duì)位標(biāo)識(shí)(第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051或第二對(duì)位標(biāo)識(shí))和介質(zhì)保護(hù)層108，對(duì)位標(biāo)識(shí)與黑矩陣106同層同材料形成。例如，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和填充區(qū)域104的左右兩側(cè)均無(wú)直接接觸，在整個(gè)填充區(qū)域104內(nèi)均填充有介質(zhì)保護(hù)層108。例如，在第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051上對(duì)應(yīng)設(shè)置的介質(zhì)保護(hù)層108至外圍區(qū)域103表面的距離為h₁，h₁為彩色樹脂層107的厚度。填充區(qū)域104內(nèi)第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051以外的區(qū)域也設(shè)置有介質(zhì)保護(hù)層108，填充區(qū)域104內(nèi)非第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)介質(zhì)保護(hù)層108至外圍區(qū)域103表面的距離為h₂，h₂為彩色樹脂層107的厚度和第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051的厚度之和。因此，填充區(qū)域處的段差很明顯，為了防止該段差對(duì)后續(xù)工藝產(chǎn)生不良影響，很有必要對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充來(lái)消除段差。

例如，圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之后的截面結(jié)構(gòu)示意圖。該彩膜基板200的顯示區(qū)域102和外圍區(qū)域103內(nèi)還設(shè)置有多個(gè)隔墊物109。例如，該多個(gè)隔墊物109的厚度(高度)均為2.8μm至3.8μm，多個(gè)隔墊物109均勻的排布于顯示基板之上。填充材料與隔墊物109在同一工藝步驟中形成，這樣在形成隔墊物109的同時(shí)對(duì)填充區(qū)域104進(jìn)行填充，可以節(jié)省工藝步驟。

例如，也可以在形成隔墊物109之后形成填充材料。

例如，該填充材料為透明材料，其與隔墊物109在同一工藝步驟中形成時(shí)，該填充材料與隔墊物的材料相同；在形成隔墊物109之后對(duì)填充區(qū)域104進(jìn)行填充時(shí)，填充材料與隔墊物的材料可以不同。

例如，該填充材料與該隔墊物的材料為透明樹脂材料，例如，密胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、尿素樹脂，或者負(fù)性光刻膠、正性光刻膠的材料。例如，在彩膜基板上涂覆透明的負(fù)性光刻膠后，進(jìn)行曝光，被曝光的負(fù)性光刻膠保留，未被曝光的負(fù)性光刻膠被去除。例如，圖7為制作圖4中顯示基板的隔墊物所用到的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖及局部放大圖。使用圖7所示的掩膜板進(jìn)行掩膜工藝時(shí)，白色區(qū)域?yàn)槠毓鈪^(qū)，曝光區(qū)內(nèi)的負(fù)性光刻膠被保留形成隔墊物，同時(shí)對(duì)填充區(qū)域處進(jìn)行了填充。

例如，如圖6所示，填充材料的遠(yuǎn)離襯底基板101的表面與顯示區(qū)域102中的介質(zhì)保護(hù)層108的遠(yuǎn)離襯底基板的表面平齊，或者填充材料填充了該填充區(qū)域104并且凸出地設(shè)置于填充區(qū)域104上，使其遠(yuǎn)離襯底基板的表面與顯示區(qū)域102中的隔墊物的遠(yuǎn)離襯底基板的表面平齊(圖中未示出)。

該隔墊物的形狀不限，例如，該隔墊物的形狀可以為柱狀或其他形狀。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明中顯示基板的外圍區(qū)域至少包括顯示基板上靠近顯示區(qū)域的外圍區(qū)域，該部分外圍區(qū)域在顯示基板進(jìn)行對(duì)盒工藝后保留，遠(yuǎn)離顯示區(qū)域的外圍區(qū)域在顯示基板進(jìn)行對(duì)盒工藝時(shí)被切割，以保證與其對(duì)置的基板上部分或全部的外圍電路露出，或者該外圍區(qū)域?yàn)轱@示基板上所有除顯示區(qū)域之外的區(qū)域。下述實(shí)施例中的外圍區(qū)域也做此解釋。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供一種顯示基板，該顯示基板為陣列基板300，例如，圖8為本發(fā)明一實(shí)施例提供的陣列基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之前的截面結(jié)構(gòu)示意圖。

例如，該顯示區(qū)域102和外圍區(qū)域103的除填充區(qū)域以外的區(qū)域均包括疊層設(shè)置的第一金屬層110、絕緣層111和鈍化層112，填充區(qū)域104包括對(duì)位標(biāo)識(shí)1051、絕緣層111和鈍化層112。填充區(qū)域104包含兩部分，第一部分為設(shè)置有第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051、絕緣層111和鈍化層112的層疊結(jié)構(gòu)，第二部分為只包括絕緣層111和鈍化層112的透明區(qū)域。

例如，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051在襯底基板101上的垂直投影的形狀包括十字形、圓弧形、環(huán)形或Z字形等。

例如，如圖8所示，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051在襯底基板上的垂直投影并未覆蓋整個(gè)填充區(qū)域104的底面，在填充區(qū)域104中還存在透明區(qū)域，第一對(duì)位標(biāo)識(shí)1051和填充區(qū)域104的左右兩側(cè)中的至少一側(cè)無(wú)直接接觸。

例如，如圖8所示，由于絕緣層111和鈍化層112均由透明材料形成，且會(huì)沉積在整個(gè)襯底基板上，所以段差主要在于填充區(qū)域104的內(nèi)部，如圖8所示，段差的高度為h₃，h₃為第一金屬層110的厚度(高度)。

例如，絕緣層111和鈍化層112可以為透明的氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。

例如，圖9為本發(fā)明一實(shí)施例提供的陣列基板的對(duì)其填充區(qū)域填充之后的截面結(jié)構(gòu)示意圖。例如，顯示區(qū)域102和外圍區(qū)域103內(nèi)還設(shè)置有平坦層113，填充材料與平坦層113在同一工藝步驟中形成，這樣在形成平坦層113的同時(shí)對(duì)填充區(qū)域104進(jìn)行填充可以節(jié)省工藝步驟。例如，也可以在形成平坦層113之后形成填充材料。

例如，該填充材料為透明材料，其與平坦層113在同一工藝步驟中形成時(shí)，該填充材料與平坦層113的材料相同；在形成平坦層113之后對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充時(shí)，填充材料與平坦層113的材料可以不同。

需要說(shuō)明的是，也可以在形成絕緣層111或鈍化層112時(shí)對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充。即填充材料與絕緣層111或鈍化層112在同一工藝步驟中形成，這樣在形成絕緣層111或鈍化層112的同時(shí)對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充可以節(jié)省工藝步驟。

對(duì)于陣列基板也可以包括在形成平坦層后形成隔墊物，在形成平坦層之前不完成對(duì)填充區(qū)域的填充，填充材料與隔墊物在同一工藝步驟中形成，這樣在形成隔墊物的同時(shí)完成對(duì)填充區(qū)域的填充可以節(jié)省工藝步驟。具體地，可以參見實(shí)施例一。

實(shí)施例三

本實(shí)施例提供一種顯示基板的制作方法，圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法總體流程示意圖，參見圖10，該方法包括以下步驟：

S11、在襯底基板上設(shè)置顯示區(qū)域和外圍區(qū)域，其中，外圍區(qū)域設(shè)置在顯示區(qū)域的周邊；

S12、在外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置朝著襯底基板凹入的填充區(qū)域；

S13、在填充區(qū)域內(nèi)形成對(duì)位標(biāo)識(shí)和透明的填充材料，使填充區(qū)域與外圍區(qū)域的除該填充區(qū)域以外的區(qū)域的表面平齊。

例如，填充材料用于填充該填充區(qū)域使其與外圍區(qū)域的遠(yuǎn)離襯底基板的表面平齊，從而消除填充區(qū)域與外圍區(qū)域主體部分的段差。

例如，對(duì)位標(biāo)識(shí)在襯底基板上的垂直投影面積小于填充區(qū)域的靠近襯底基板一面的面積。對(duì)位標(biāo)識(shí)具有顏色，如果對(duì)位標(biāo)識(shí)在襯底基板上的垂直投影面積為填充區(qū)域的底面積，在顯示基板對(duì)位時(shí)，填充區(qū)域處就很難與外圍區(qū)域的主體部分進(jìn)行區(qū)分，從而無(wú)法實(shí)現(xiàn)作為對(duì)位標(biāo)識(shí)的效果。

例如，當(dāng)該顯示基板為彩膜基板時(shí)，該方法可以包括：在顯示區(qū)域和外圍區(qū)域的除填充區(qū)域以外的區(qū)域內(nèi)設(shè)置疊層黑矩陣、彩色樹脂層、介質(zhì)保護(hù)層的疊層，填充區(qū)域內(nèi)設(shè)置對(duì)位標(biāo)識(shí)和介質(zhì)保護(hù)層。該方法還可以包括：在顯示區(qū)域和外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置多個(gè)隔墊物，填充材料與隔墊物在同一工藝步驟中形成或在形成隔墊物后填充該填充材料。

例如，該填充材料為透明材料，其與隔墊物在同一工藝步驟中形成時(shí)，該填充材料與隔墊物的材料相同；在形成隔墊物之后對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充時(shí)，填充材料與隔墊物的材料可以不同。

例如，該填充材料與該隔墊物的材料可均為負(fù)性光刻膠。在彩膜基板上涂覆透明的負(fù)性光刻膠后，對(duì)負(fù)性光刻膠進(jìn)行曝光，被曝光的負(fù)性光刻膠保留，未被曝光的負(fù)性光刻膠被去除。

例如，黑矩陣和對(duì)位標(biāo)識(shí)可在同一工藝過(guò)程中形成，其形成過(guò)程包括在顯示區(qū)域和外圍區(qū)域形成等厚度(高度)的覆蓋整個(gè)襯底基板的金屬薄膜，對(duì)顯示區(qū)域和外圍區(qū)域中的金屬薄膜進(jìn)行曝光、顯影、刻蝕等工藝步驟，形成位于顯示區(qū)域、外圍區(qū)域主體內(nèi)的黑矩陣和填充區(qū)域處的對(duì)位標(biāo)識(shí)。

例如，當(dāng)該顯示基板為陣列基板時(shí)，該方法可以包括：在顯示區(qū)域和外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置第一金屬層、絕緣層和鈍化層，填充區(qū)域形成在該疊層中。還包括：在顯示區(qū)域和外圍區(qū)域內(nèi)設(shè)置平坦層，填充材料與平坦層在同一工藝步驟中形成或在形成平坦層后完成對(duì)填充區(qū)域的填充。

例如，該填充材料為透明材料，其與平坦層在同一工藝步驟中形成時(shí)，該填充材料與平坦層的材料相同；在形成平坦層之后對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充時(shí)，填充材料與平坦層的材料可以不同。

例如，也可以在形成絕緣層或鈍化層時(shí)對(duì)填充區(qū)域進(jìn)行填充。即填充材料與絕緣層或鈍化層在同一工藝步驟中形成，這樣在形成絕緣層或鈍化層的同時(shí)填充材料可以節(jié)省工藝步驟。

例如，對(duì)于陣列基板也可以包括在形成平坦層后形成隔墊物，在形成平坦層之前不完成對(duì)填充區(qū)域的填充，填充材料與隔墊物在同一工藝步驟中形成，這樣在形成隔墊物的同時(shí)完成對(duì)填充區(qū)域的填充可以節(jié)省工藝步驟。

實(shí)施例四

本實(shí)施例提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括實(shí)施例一或?qū)嵤├械娜我伙@示基板。例如，該顯示裝置可以為液晶顯示器、電子紙、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)顯示器等顯示器件以及包括這些顯示器件的電視、數(shù)碼相機(jī)、手機(jī)、手表、平板電腦、筆記本電腦、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或者部件。

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種具有以下至少一項(xiàng)有益效果：

(1)用填充材料填充填充區(qū)域處，可以消除填充區(qū)域處的段差，使后續(xù)的配向膜涂覆均勻，進(jìn)而避免液晶分子的取向不正確，最終避免顯示面板得顯示不均和顯示不良。

(2)當(dāng)顯示基板為彩膜基板時(shí)，可以在形成隔墊物的工藝步驟中完成對(duì)填充區(qū)域的填充，可以節(jié)省工藝步驟和生產(chǎn)成本。

(3)當(dāng)顯示基板為陣列基板時(shí)，可以在形成絕緣層、鈍化層、平坦層或隔墊物的任一工藝步驟中完成對(duì)填充區(qū)域的填充，可以節(jié)省工藝步驟和生產(chǎn)成本。

有以下幾點(diǎn)需要說(shuō)明：

(1)本發(fā)明實(shí)施例附圖只涉及到與本發(fā)明實(shí)施例涉及到的結(jié)構(gòu)，其他結(jié)構(gòu)可參考通常設(shè)計(jì)。

(2)為了清晰起見，在用于描述本發(fā)明的實(shí)施例的附圖中，層或區(qū)域的厚度被放大或縮小，即這些附圖并非按照實(shí)際的比例繪制?？梢岳斫猓?dāng)諸如層、膜、區(qū)域或基板之類的元件被稱作位于另一元件“上”或“下”時(shí)，該元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中間元件。

(3)在不沖突的情況下，本發(fā)明的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合以得到新的實(shí)施例。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。