本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光基板及其形成方法。

背景技術(shù)：

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)液晶顯示器能夠?qū)崿F(xiàn)對各個像素的獨立精確控制，得到廣泛關(guān)注。

彩色濾光基板(Color Filter，CF)是TFT液晶顯示器的重要組成部件。在彩色濾光基板的制備過程中，由于配向膜制備工藝的需要，彩色濾光基板的額緣區(qū)增加與開口區(qū)類似的畫素。

圖1至圖7是現(xiàn)有技術(shù)一種彩色濾光基板形成方法的各步驟示意圖。

請參考圖1，提供基板100，所述基板100包括，黑色矩陣形成區(qū)a和位于黑色矩陣形成區(qū)a周圍的邊緣區(qū)b。

參考圖2和圖3，圖2是圖1方框1內(nèi)區(qū)域的局部放大圖，圖3是圖2沿2-2’線的剖視圖。在基板100的黑色矩陣形成區(qū)a形成黑色矩陣120。所述黑色矩陣120包括具有開口110的開口區(qū)A和位于開口區(qū)A周圍的額緣區(qū)，所述額緣區(qū)包括用于形成間隔柱的第一額緣區(qū)B。所述黑色矩陣120用于防止顯示器背景光泄露，提高顏色顯示的對比度。

請參考圖4，在所述黑色矩陣120(如圖3所示)和露出的基板100上涂布光阻劑。

請參考圖5和圖6，對所述光阻劑進(jìn)行圖形化，形成彩色光阻層130。所述彩色光阻層130用于使相應(yīng)顏色的背景光透過，起到濾光的作用。

重復(fù)圖4和圖5所示的步驟，形成全部彩色光阻層130。

請參考圖7，在所述彩色光阻層130上形成間隔柱140。

然而，現(xiàn)有技術(shù)形成的彩色濾光基板會導(dǎo)致顯示器周邊顏色顯示不均的 問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明解決的問題是提供一種彩色濾光基板及其形成方法，用于改善濾光片基板周邊顏色顯示不均的效果，改善顯示器的顯示效果。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種彩色濾光基板的形成方法，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩陣，所述黑色矩陣包括形成有多個開口的開口區(qū)和位于開口區(qū)周圍的額緣區(qū)，所述額緣區(qū)包括用于形成間隔柱的第一額緣區(qū)；在所述黑色矩陣和所述開口露出的基板上涂布彩色光阻劑，在第一額緣區(qū)涂布的光阻劑厚度小于在開口區(qū)涂布的光阻劑厚度；圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層；在所述彩色光阻層上形成間隔柱，所述間隔柱形成于所述第一額緣區(qū)與所述開口區(qū)相應(yīng)位置處。

可選的，在所述黑色矩陣和露出的基板上涂布光阻劑的步驟包括：采用狹縫涂布機(jī)在所述黑色矩陣上涂布光阻劑；

在涂布過程中，所述狹縫涂布機(jī)中狹縫的延伸方向與第一額緣區(qū)的延伸方向相同。

可選的，在所述黑色矩陣和露出的基板上涂布光阻劑的步驟中，所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)和開口區(qū)的涂布速度相同，在第一額緣區(qū)的光阻吐出量小于在開口區(qū)的光阻吐出量。

可選的，第一額緣區(qū)的光阻吐出量為1800～3500μL/s；開口區(qū)的光阻吐出量為1500～2500μL/s。

可選的，在所述黑色矩陣和所述開口露出的基板上涂布光阻劑的步驟中，所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)和開口區(qū)的光阻吐出量相同，在第一額緣區(qū)的涂布速度大于在開口區(qū)的涂布速度。

可選的，第一額緣區(qū)的涂布速度為90～150mm/s；開口區(qū)的涂布速度為80～140mm/s。

可選的，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層的步驟包括：使形成于所述開口區(qū)間隔柱下方的彩色光阻層的厚度大于或等于所述第一額緣區(qū)彩色光阻 層的厚度。

可選的，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層的步驟包括：使開口區(qū)彩色光阻層的厚度為1.5～3.5μm，第一額緣區(qū)彩色光阻層的厚度為1.5～2.5μm。

可選的，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層的步驟包括：在開口區(qū)形成填充于開口中的多個彩色光阻；所述多個彩色光阻呈條形、馬賽克型或三角型排列。

可選的，其特征在于，在基板上形成黑色矩陣的步驟包括：

在基板上形成多個黑色矩陣，所述黑色矩陣的開口區(qū)為長方形結(jié)構(gòu)，所述額緣區(qū)為圍繞所述長方形結(jié)構(gòu)的方環(huán)形，所述第一額緣區(qū)為所述方環(huán)形中與長方形結(jié)構(gòu)長邊相鄰的區(qū)域；所述多個黑色矩陣沿長方形結(jié)構(gòu)長邊方向和短邊方向排布，形成一陣列結(jié)構(gòu)；

在所述黑色矩陣和露出的基板上涂布光阻劑的步驟包括：采用狹縫涂布機(jī)通過狹縫涂布的方法在所述黑色矩陣和露出的基板上涂布光阻劑，且在涂布過程中，所述狹縫涂布機(jī)的狹縫涂布頭沿長方形結(jié)構(gòu)的長邊方向延伸且沿寬邊方向移動。

相應(yīng)的，本發(fā)明還提供一種彩色濾光基板，其特征在于，包括：基板；位于基板上的黑色矩陣，所述黑色矩陣包括形成有多個開口的開口區(qū)和位于開口區(qū)周圍的額緣區(qū)，所述額緣區(qū)包括用于形成間隔柱的第一額緣區(qū)；位于所述黑色矩陣和所述開口所露出基板上的彩色光阻層；位于所述彩色光阻層和第一額緣區(qū)上的間隔柱；所述開口區(qū)間隔柱下方的彩色光阻層的厚度大于或等于所述第一額緣區(qū)彩色光阻層的厚度。

可選的，開口區(qū)彩色光阻層的厚度為1.5～3.5μm，第一額緣區(qū)彩色光阻層的厚度為1.5～2.5μm。

可選的，所述開口區(qū)間隔柱頂端相對于基板表面的高度與所述第一額緣區(qū)間隔柱頂端相對于基板表面的高度相差0～0.4μm。。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：

本發(fā)明的形成方法中，在形成彩色光阻層的過程中，在基板的第一額緣 區(qū)和開口區(qū)涂布不同厚度的光阻劑，在第一額緣區(qū)涂布的光阻劑的厚度小于開口區(qū)光阻劑的厚度，從而使所述額緣區(qū)光阻劑經(jīng)過圖形化形成的彩色光阻層的厚度較薄。這樣在所述額緣區(qū)形成間隔柱時，間隔柱下方的彩色光阻層較薄，而額緣區(qū)的間隔柱的高度較大，從而使額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱頂端相對于基板表面的高度相當(dāng)，進(jìn)而可以提高顯示的均勻度。

附圖說明

圖1至圖9是現(xiàn)有技術(shù)一種彩色濾光基板的形成方法的各步驟示意圖；

圖10至圖16是本發(fā)明的彩色濾光基板的形成方法一實施例的各步驟結(jié)構(gòu)示意圖；

圖17是本發(fā)明彩色濾光基板的形成方法另一實施例中光阻劑涂布過程示意圖；

圖18至圖20是本發(fā)明彩色濾光基板一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

現(xiàn)有技術(shù)中彩色濾光基板容易引起顯示器出現(xiàn)周邊顯示不均的問題。結(jié)合圖4、圖7至圖9分析周邊顯示不均的原因：

圖8示出了圖7所示彩色濾光基板開口區(qū)A(即沿3-3’線)的側(cè)面剖視圖，圖9示出了額緣區(qū)B(即沿4-4’線)的側(cè)面剖視圖。

結(jié)合參考圖4、圖7至圖9，在黑色矩陣120和露出的基板100上涂布光阻劑的步驟中，現(xiàn)有技術(shù)通過狹縫涂布機(jī)涂布所述光阻劑。在涂布的過程中，所述涂布機(jī)在開口區(qū)A和第一額緣區(qū)B的光阻吐出量和光阻吐出速度相同。因此在開口區(qū)A和第一額緣區(qū)B涂布的光阻劑厚度相同。然而，如圖8所示，開口區(qū)A具有開口，在對所述光阻劑進(jìn)行圖形化的過程中，由于光阻劑的流動性，開口區(qū)A黑色矩陣120上的光阻劑會向開口處流淌，導(dǎo)致形成彩色光阻層130后，黑色矩陣120上方的彩色光阻層130的厚度較小。

如圖9所示，第一額緣區(qū)B不具有開口，在對光阻劑進(jìn)行圖形化的過程中，光阻劑不流動，因此形成的彩色光阻層130厚度較大。

因此，結(jié)合參考圖8和圖9，現(xiàn)有技術(shù)形成的彩色濾光基板中第一額緣區(qū)B 彩色光阻層130的厚度大于開口區(qū)A黑色矩陣120上方彩色光阻層130的厚度。相應(yīng)的，在開口區(qū)A形成間隔柱140的過程中，由于光阻劑的流動性，導(dǎo)致第一額緣區(qū)B的間隔柱140高度大于開口區(qū)A間隔柱140高度。因此第一額緣區(qū)B彩色濾光基板的厚度大于開口區(qū)A彩色濾光基板的厚度，從而導(dǎo)致成盒后液晶顯示器液晶單元間隙(Cell Gap)在第一額緣區(qū)和開口區(qū)不相同，直接導(dǎo)致周邊顏色顯示不均勻的問題。

為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種彩色濾光基板的形成方法，在形成彩色光阻層的過程中，在基板的第一額緣區(qū)和開口區(qū)涂布不同厚度的光阻劑，第一額緣區(qū)的所述光阻劑的厚度小于開口區(qū)所述光阻劑的厚度。所述光阻劑經(jīng)過圖形化在第一額緣區(qū)形成的彩色光阻層的厚度較薄。這樣在所述第一額緣區(qū)形成間隔柱時，間隔柱下方的彩色光阻層較薄，而第一額緣區(qū)的間隔柱的高度較大，從而使第一額緣區(qū)和開口區(qū)間隔柱頂端相對于基板表面的高度相當(dāng)，進(jìn)而可以提高顯示的均勻度。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例做詳細(xì)的說明。

圖10至圖16是本發(fā)明彩色濾光基板的形成方法一實施例各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖。

請參考圖10，提供基板200，所述基板200包括：黑色矩陣形成區(qū)x和位于黑色矩陣形成區(qū)x周圍的邊緣區(qū)y。所述基板200用于彩色濾光基板的支撐。

本實施例中，所述基板200的材料為透光的石英玻璃。但是，本發(fā)明對所述基板200的形狀和材料不做限定，所述基板的材料還可以為塑料板。

本實施例中，所述基板200為長方形，但是本發(fā)明對此不做限定，所述基板還可以為正方形。

請參考圖11和圖12，圖11是圖10方框1區(qū)域內(nèi)的放大圖，圖12是圖11沿ii-ii’線的剖視圖。在基板200的黑色矩陣形成區(qū)x上形成黑色矩陣220，所述黑色矩陣220用于防止顯示器背景光泄露，提高顏色顯示的對比度，防止混色和增加顏色的純度。

所述黑色矩陣220包括形成有多個開口210的開口區(qū)I和位于開口區(qū)I周 圍的額緣區(qū)，所述額緣區(qū)包括用于形成間隔柱的第一額緣區(qū)II。

本實施例中，所述開口210底部露出所述基板200，用于使背景光透過。所述黑色矩陣220在額緣區(qū)覆蓋第一額緣區(qū)II的基板200。

本實施例中，所述開口210為呈矩陣式排列的長方形結(jié)構(gòu)開口，但是本發(fā)明對所述開口210的排列方式和所述開口210的形狀不做限定，所述開口210還可以為成三角型排列的方形結(jié)構(gòu)開口210。

本實施例中，所述額緣區(qū)為圍繞所述長方形結(jié)構(gòu)的方環(huán)形，所述第一額緣區(qū)II為所述方環(huán)形中與長方形結(jié)構(gòu)長邊相鄰的區(qū)域；所述多個黑色矩陣220沿長方形結(jié)構(gòu)長邊方向和短邊方向排布，形成一陣列結(jié)構(gòu)。

本實施例中，所述黑色矩陣220的材料為黑色樹脂，黑色樹脂具有成本低且環(huán)保的優(yōu)點。但是，本發(fā)明對所述黑色矩陣220的材料不做限制，所述黑色矩陣220的材料還可以是鎳或鉻。

本實施例中，所述在基板200上形成黑色矩陣220的步驟還包括：在所述基板200上涂布黑色樹脂，通過曝光、顯影、硬烤在基板200上形成所述黑色矩陣220。

請參考圖13，在所述黑色矩陣220(如圖12所示)和露出的基板200上涂布光阻劑，在第一額緣區(qū)II涂布的光阻劑的厚度小于在開口區(qū)I涂布的光阻劑的厚度。

本實施例中，在所述黑色矩陣220上涂布光阻劑的步驟包括：通過狹縫涂布機(jī)在黑色矩陣220和所述開口210(如圖12所示)露出的基板200上涂布光阻劑。所述狹縫涂布機(jī)包括狹縫涂布頭m，所述狹縫涂布頭m具有狹縫，用于吐出光阻劑進(jìn)行涂布。所述狹縫涂布頭m的延伸方向與所述第一額緣區(qū)II的延伸方向相同。

本實施中，在所述黑色矩陣220和所述開口210露出的基板200上涂布光阻劑的步驟中，所述狹縫涂布機(jī)的涂布頭m沿所述長方形結(jié)構(gòu)開口的長邊方向延伸且沿寬邊方向移動。

本實施例中，所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II和開口區(qū)I的光阻吐出速度 相同，在第一額緣區(qū)II的光阻吐出量小于在開口區(qū)I的光阻吐出量，從而使所述第一額緣區(qū)II涂布的光阻劑厚度小于開口區(qū)I所涂布的光阻劑厚度。

具體的，如果所述光阻吐出速度過快，會影響涂布光阻劑的控制，如果所述涂布速度過小，會降低涂布的效率。因此所述涂布速度為90～120mm/s。

此外，如果所述狹縫涂布機(jī)在開口區(qū)I的光阻吐出量過小，則形成的彩色光阻層的厚度過小，難以起到濾光的作用，如果所述狹縫涂布機(jī)在開口區(qū)I的光阻吐出量過大，會增加所形成的彩色光阻層的厚度而導(dǎo)致彩色濾光基板的厚度增加。因此所述狹縫涂布機(jī)在開口區(qū)I的光阻吐出量為1800～3500μL/s。

如果所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II的光阻吐出量過小會限制畫素從第一額緣區(qū)II到開口區(qū)I的過渡，導(dǎo)致開口區(qū)I發(fā)生顏色顯示不均的問題，如果所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II的光阻吐出量過大會導(dǎo)致間隔柱被抬高，導(dǎo)致液晶成盒后，盒厚不均勻。因此所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II的光阻吐出量為1500～2500μL/s。

本實施例中，所述方環(huán)形額緣區(qū)中與長方形結(jié)構(gòu)開口短邊相鄰的區(qū)域為第二額緣區(qū)z。所述第一額緣區(qū)II和第二額緣區(qū)z構(gòu)成所述額緣區(qū)。本實施例中，所述第二額緣區(qū)z的光阻吐出速度和光阻吐出量與開口區(qū)I相同。所述基板200邊緣區(qū)y的光阻吐出量和光阻吐出速度也與開口區(qū)I相同。但是，本發(fā)明對此不做限定所述第二額緣區(qū)z和基板200邊緣區(qū)y的光阻吐出量和光阻吐出速度也可以為與開口區(qū)I不相同的其他值。

本實施例中，在涂布所述光阻劑之前，進(jìn)行光阻著色。具體的，通過燃料分散法將燃料分散在液體樹脂中，形成著色光阻，所述著色光阻即所述光阻劑。

請參考圖14，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層230，所述彩色光阻層230用于使相同顏色的背景光透過，起到濾光的作用。

需要說明的是，在圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層230時，從所述涂布著色光阻到曝光有一段時間間隔，由于著色光阻的流動性，開口區(qū)I黑色矩陣220上的著色光阻會向開口210處流淌，導(dǎo)致開口區(qū)I黑色矩陣220上的彩色光阻層230的厚度減小，然而本實施例中，開口區(qū)I所涂布的光阻劑厚度大于額緣區(qū)II所涂布的光阻劑厚度。因此，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層230后， 形成于第一額緣區(qū)II的彩色光阻層230的厚度不大于開口區(qū)I黑色矩陣220上的彩色光阻層230的厚度。

具體的，形成于開口區(qū)I黑色矩陣220上的彩色光阻層230的厚度為1.5～3.5μm，形成于所述第一額緣區(qū)II的彩色光阻層230的厚度為1.5～2.5μm。

本實施例中，圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層230的步驟包括：所述光阻劑經(jīng)曝光、顯影和硬烤在開口區(qū)I形成厚度不相等的不等厚光阻層，所述不等厚光阻層包括：填充于開口210中的彩色光阻和位于所述黑色矩陣220上方的彩色光阻層230。

本實施例中，所述開口區(qū)I的不等厚光阻層為沿所述長方形結(jié)構(gòu)開口長邊方向延伸的長條型結(jié)構(gòu)不等厚光阻層。所述彩色光阻為填充于長方形結(jié)構(gòu)開口210中的長方形結(jié)構(gòu)彩色光阻。所述額緣區(qū)II的彩色光阻層為與開口區(qū)I長條型結(jié)構(gòu)不等厚光阻層位置對應(yīng)，且延伸方向相同的條形光阻層。

請參考圖15，重復(fù)所述涂布光阻劑和圖形化所述光阻劑形成彩色光阻層230的步驟，形成所有的彩色光阻層230。

具體的，本實施例中，所述形成所有的彩色光阻層230的步驟至少包括：

在所述黑色矩陣220和所述開口210(如圖14所示)露出的基板200上涂布紅色光阻劑，通過圖形化在所述開口區(qū)I形成紅色不等厚光阻層231并在所述額緣區(qū)II形成紅色光阻層。相應(yīng)的，在形成所述紅色不等厚光阻層231的過程中，在開口區(qū)I開口210中形成紅色光阻。

在所述黑色矩陣220和露出的基板200上涂布綠色光阻劑，通過光刻在所述開口區(qū)I形成綠色不等厚光阻層232并在所述額緣區(qū)II形成綠色光阻層。相應(yīng)的，在形成所述綠色不等厚光阻層232的過程中，在開口區(qū)I開口210中形成綠色光阻。

在所述黑色矩陣220和露出的基板200上涂布藍(lán)色光阻劑，通過圖形化在所述開口區(qū)I形成藍(lán)色不等厚光阻層233并在所述額緣區(qū)II形成藍(lán)色光阻層。相應(yīng)的，在形成所述藍(lán)色不等厚光阻層233的過程中，在開口區(qū)I開口210中形成藍(lán)色光阻。

本實施例中，所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻排列成條型，但是本發(fā)明對所述紅色光阻、綠色光阻和藍(lán)色光阻的排列方式不作限定，所述排列方式還可以為馬賽克型或三角型排列。

需要說明的是，本實施中，由于紅色光阻劑、綠色光阻劑藍(lán)色光阻劑的材料限制，要形成相同厚度的紅色光阻層、綠色光阻層和藍(lán)色光阻層，則所涂布的紅色光阻劑、綠色光阻劑和藍(lán)色光阻劑的厚度不同。所述狹縫涂布機(jī)在開口區(qū)I的紅色光阻劑吐出量為2900～3500μL/s，綠色光阻劑吐出量為2300～2800μL/s，藍(lán)色光阻劑吐出量為2400～3000μL/s，形成于開口區(qū)I黑色矩陣220上的彩色光阻層230的厚度為1.2～2.7μm。所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II的紅色光阻劑吐出量為2200～2700μL/s，綠色光阻劑吐出量為1800～2100μL/s，藍(lán)色光阻劑吐出量為1800～2200μL/s，形成于第一額緣區(qū)II的彩色光阻層230的厚度為1.8～2.3μm。具體的，本實施例中，形成于開口區(qū)I黑色矩陣220上的彩色光阻層230的厚度為2.5μm；形成于第一額緣區(qū)II的彩色光阻層230的厚度為2.1μm。

請參考圖16，在所述彩色光阻層230上形成間隔柱240，所述間隔柱240形成于所述第一額緣區(qū)II與所述開口區(qū)I對應(yīng)位置處，所述開口區(qū)I間隔柱240形成于所述開口210(請參考圖14)之間黑色矩陣220上的彩色光阻層230上。所述間隔柱240用于支撐上下兩片基板200，為液晶提供空間。

本實施例中，在所述彩色光阻層230上形成間隔柱240的步驟包括：在彩色光阻層230上涂布用于形成間隔柱240的光阻劑，所述用于形成間隔柱240的光阻劑經(jīng)曝光、顯影和后烤形成所述間隔柱240。

本實施例中，在從涂布所述用于形成間隔柱240的光阻劑到曝光的過程中，所述開口區(qū)I具有所述開口210，填充于開口210中的所述彩色光阻層230高度低于所述黑色矩陣220上方的彩色光阻層230的高度，由于涂布的用于形成間隔柱240的光阻劑的流動性，所述彩色光阻層230上涂布的用于形成所述間隔柱240的光阻劑會向所述開口210處流淌，導(dǎo)致形成的所述開口區(qū)I間隔柱240的高度降低。

需要說明的是，如果所述間隔柱240的高度過小，很難為液晶提供足夠的 空間，影響顯示器的顯示效果，如果所述間隔柱240的高度過大會增加濾光片的厚度。因此，所述間隔柱240的高度為2～4.5μm。具體地，本實施例中，形成于所述開口區(qū)I的間隔柱240的高度為2μm，形成于所述第一額緣區(qū)II的間隔柱240的高度為2.8μm。

本實施例中，所述開口區(qū)I間隔柱240頂端相對于基板200上表面的高度與第一額緣區(qū)II間隔柱240頂端相對于基板200上表面的高度差可以通過調(diào)節(jié)狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)II的光阻吐出量進(jìn)行調(diào)節(jié)。所述開口區(qū)I間隔柱240頂端相對于基板200上表面的高度與第一額緣區(qū)II間隔柱240頂端相對于基板200上表面的高度差為0～0.4μm。具體的，本實施例中，由狹縫涂布機(jī)的光阻吐出量和光阻劑的流動性決定的所述高度差為0.4μm。

圖17是本發(fā)明的彩色濾光基板形成方法另一實施例中光阻劑涂布過程示意圖。

請參考圖17，本實施例與前一實施例的相同之處在此不做贅述，不同之處包括：在黑色矩陣和開口處露出的基板上涂布光阻劑的步驟中，所述狹縫涂布機(jī)在開口區(qū)M和第一額緣區(qū)N的光阻吐出量相同，在第一額緣區(qū)N的光阻吐出速度大于開口區(qū)M的光阻吐出速度。所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)N和開口區(qū)M的光阻吐出量為900～3500μL/s，所述狹縫涂布機(jī)在第一額緣區(qū)N的光阻吐出速度為90～150mm/s；在開口區(qū)M的光阻吐出速度為80～140mm/s。

相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種彩色濾光基板。本發(fā)明彩色濾光基板可以由本發(fā)明彩色濾光基板的形成方法形成，但是本發(fā)明對彩色濾光基板是否由本發(fā)明形成方法形成不做限制。

圖18至圖20是本發(fā)明彩色濾光基板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖19是圖18沿iii-iii’線(即開口區(qū))的剖視圖；圖20是圖18沿iv-iv’線(即第一額緣區(qū))的剖視圖。

請參考圖18至圖20，所述彩色濾光基板包括：

基板300，用于為彩色濾光基板提供支撐。本實施例中，所述基板300的材料為透明的石英玻璃。但是本發(fā)明對此不做限定，所述基板300的材料還可以為塑料。

位于基板300上的黑色矩陣320，所述黑色矩陣320包括形成有多個開口的開口區(qū)X和位于開口區(qū)X周圍的額緣區(qū)，所述額緣區(qū)包括用于形成間隔柱的第一額緣區(qū)Y。所述開口用于使背景光透過。

本實施例中，所述開口為長方形結(jié)構(gòu)開口。

本實施例中，所述開口底部露出所述基板300，且多個所述長方形結(jié)構(gòu)開口沿所述長方形結(jié)構(gòu)開口的長邊方向和短邊方向成矩陣式排列。但是本發(fā)明對所述開口的形狀和排列方式不作限定，所述開口還可以為多行錯開排列的正方形結(jié)構(gòu)開口。

所述黑色矩陣320在第一額緣區(qū)Y覆蓋第一額緣區(qū)Y的基板300，用于防止顯示器背景光泄露，提高顏色顯示的對比度，防止混色和增加顏色的純度。

本實施例中，所述黑色矩陣320的材料為黑色樹脂，黑色樹脂具有成本低且環(huán)保的優(yōu)點。但是，本發(fā)明對所述黑色矩陣320的材料不做限定，所述黑色矩陣320的材料還可以是鎳或鉻。

需要說明的是，如果所述黑色矩陣320的厚度過大會增加彩色濾光基板的厚度，不利于集成化，如果所述黑色矩陣320的厚度過小會出現(xiàn)漏光現(xiàn)象。因此，所述黑色矩陣320的厚度為0.8～1.2μm，具體的，本實施例中，所述黑色矩陣320的厚度為1μm。

位于所述黑色矩陣320和所述開口露出的基板300上的彩色光阻層330。所述開口區(qū)X間隔柱下方的彩色光阻層330的厚度大于或等于所述第一額緣區(qū)Y彩色光阻層330的厚度。

需要說明的是，如果所述第一額緣區(qū)Y的彩色光阻層330的厚度過小會限制畫素從第一額緣區(qū)Y到開口區(qū)X的過渡，導(dǎo)致開口區(qū)X發(fā)生顏色顯示不均的問題，如果所述第一額緣區(qū)Y的彩色光阻層330的厚度過大會導(dǎo)致間隔柱被抬高，導(dǎo)致液晶成盒后，盒厚不均勻。因此所述第一額緣區(qū)Y的彩色光阻層330的厚度為1.5～2.5μm。具體的，本實施例中，所述第一額緣區(qū)Y的彩色光阻層330厚度為2.1μm。

本實施例中，所述彩色光阻層330包括紅色光阻層，綠色光阻層和藍(lán)色 光阻層。相應(yīng)的所述開口區(qū)X的彩色光阻層330包括：填充于開口中的紅色光阻，綠色光阻和藍(lán)色光阻。但是本發(fā)明對此不做限定，所述彩色光阻層330還可以包括白色光阻層和藍(lán)色光阻層。

本實施例中，所述紅色光阻，綠色光阻和藍(lán)色光阻排列成條型。但是本發(fā)明對所述紅色光阻，綠色光阻和藍(lán)色光阻的排列形式不做限定，所述紅色光阻，綠色光阻和藍(lán)色光阻還可以成三角型或馬賽克型排列。

位于所述彩色光阻層330和第一額緣區(qū)Y上的間隔柱340。所述第一額緣區(qū)Y的間隔柱340形成于與開口區(qū)X間隔柱340位置對應(yīng)的位置處。所述間隔柱340用于支撐濾光片的上下兩塊基板300并為液晶提供空間。

需要說明的是，在形成所述間隔柱340的過程中，由于形成間隔柱340的光阻劑的流動性。形成于開口區(qū)X的間隔柱340高度小于形成于第一額緣區(qū)Y的間隔柱340高度。

如果所述間隔柱340的高度過小，很難為液晶提供足夠的空間，影響顯示器的顯示效果，如果所述間隔柱340的高度過大會增加濾光片的厚度。因此，所述間隔柱340的高度為2～4.5μm。具體地，本實施例中，形成于所述開口區(qū)X的間隔柱340的高度為2μm，形成于所述第一額緣區(qū)Y的間隔柱340的高度為2.8μm。

由以上分析，所述開口區(qū)X與第一額緣區(qū)Y的間隔柱340的頂端到基板300上表面的高度差在0～0.4μm的范圍內(nèi)。具體的，本實施中，所述開口區(qū)X與第一額緣區(qū)Y的間隔柱340的頂端到基板300上表面的高度差為0.4μm。

綜上，本發(fā)明通過改變彩色光阻層形成過程中，所涂布的光阻劑的厚度，使第一額緣區(qū)的光阻劑厚度小于開口區(qū)光阻劑的厚度，從而使形成于第一額緣區(qū)的彩色光阻層的厚度小于形成于開口區(qū)黑色矩陣上的彩色光阻層厚度。從而減小在形成彩色光阻層和間隔柱的過程中，由于光阻劑的流動性引起的間隔柱頂端到基板上表面的高度差，改善顯示器顯色顯示的均勻性。

雖然本發(fā)明披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。