清潔刮板、清潔刮板的制造方法、處理盒和電子照相設備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及清潔刮板、清潔刮板的制造方法、處理盒和電子照相設備。一種聚氨酯橡膠清潔刮板，其中清潔刮板的與被清潔構件接觸的接觸部的表面具有10mgf/μm2以上且400mgf/μm2以下的楊氏模量(Y0)，清潔刮板的距所述接觸部的表面為50μm的內部位置的楊氏模量(Y50)與楊氏模量(Y0)的比例(Y50/Y0)為0.5以下，和清潔刮板的從所述表面到距所述表面為20μm的內部位置的楊氏模量的平均變化率大于或等于清潔刮板的從距所述表面為20μm的內部位置到清潔刮板的距所述表面為50μm的內部位置的楊氏模量的平均變化率。
【專利說明】清潔刮板、清潔刮板的制造方法、處理盒和電子照相設備

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及清潔刮板、該清潔刮板的制造方法以及各自包括該清潔刮板的處理盒和電子照相設備。

【背景技術】
[0002]通常，即使在電子照相感光構件(下文中也簡稱為〃感光構件")表面(外周面)上形成的調色劑圖像被轉印到轉印介質或中間轉印構件之后，或即使在調色劑圖像被從中間轉印構件進一步轉印到轉印介質之后，部分調色劑也易于殘留在感光構件和/或中間轉印構件上。因此，在感光構件或中間轉印構件上的殘留調色劑必須例如用清潔刮板除去?，F(xiàn)有的清潔刮板可具有板狀形狀，且可具有Imm以上且3mm以下的厚度?，F(xiàn)有清潔刮板的與被清潔構件(例如感光構件或中間轉印構件)相對的表面的縱向長度可以大于厚度。
[0003]清潔刮板可以被固定到電子照相設備的金屬支架，使得清潔刮板的邊緣(前端棱線部)與被清潔構件接觸。
[0004]通常在清潔刮板中使用聚氨酯橡膠，這是因為其高耐磨耗性和抗永久變形性。
[0005]已經(jīng)被開發(fā)以滿足目前對高圖像質量需求的一種已知調色劑具有小的粒徑和高的球形度(接近于球形)。這種具有小粒徑和高球形度的調色劑有利地具有相對高的轉印效率，并且可以滿足對高圖像質量的需求。
[0006]然而，很難用清潔刮板從被清潔構件表面完全除去具有小粒徑和高球形度的調色齊U，因此經(jīng)常導致不良清潔。這是因為:具有小粒徑和高球形度的調色劑與其它調色劑相t匕，更易于在清潔刮板和被清潔構件之間滑動。
[0007]提高接觸壓力并減少在清潔刮板與被清潔構件之間的間隙，對防止調色劑的滑過是有效的。
[0008]然而，在清潔刮板和被清潔構件之間更高的接觸壓力，易于導致在清潔刮板和被清潔構件之間形成更高的摩擦力。在清潔刮板和被清潔構件之間更高的摩擦力，增加了清潔刮板沿被清潔構件表面的移動方向被拉伸(drawn)以及清潔刮板的邊緣在被清潔構件表面上掛住(catches)(翅起)的可能性。當清潔刮板對抗拉伸力(drawing force)而回到其原始位置時，清潔刮板可能發(fā)出異常噪音。用具有翹起邊緣的清潔刮板連續(xù)清潔，易于導致在清潔刮板邊緣附近(距離邊緣幾微米至幾十微米)局部磨損。進一步的連續(xù)清潔增加局部磨損，因此不能完全除去調色劑。
[0009]從清潔刮板和被清潔構件的長壽命化和節(jié)約能源的觀點來看，必須減小被清潔構件在清潔期間的旋轉扭矩(扭矩減小)。對于扭矩減小，減少清潔刮板與被清潔構件的接觸部的表面上的摩擦是有效的。
[0010]關于扭矩減小，日本專利特開2008-268670公開了在與被清潔構件接觸的聚氨酯橡膠(聚氨酯彈性體)清潔刮板的表面層中包括具有3μπι以下的平均粒徑的細顆粒的技術。
[0011]日本專利特開2012-150203公開了如下技術:設置具有比清潔刮板的基層更高的硬度的表面層的與被清潔構件接觸的清潔刮板的接觸部。
[0012]日本專利特開2009-025451公開了如下技術:連續(xù)增加與被清潔構件接觸的清潔刮板的接觸部的從接觸部的內部到表面的氮濃度。
[0013]日本專利特開2001-075451公開了如下技術:與聚氨酯橡膠(聚氨酯彈性體)清潔刮板的邊緣的內部的異氰脲酸酯基濃度相比，增加在邊緣的表面上的異氰脲酸酯基的濃度。
[0014]然而，本發(fā)明人的研究表明，現(xiàn)有技術的這些技術具有下列問題。
[0015]如在日本專利特開2008-268670和2012-150203中描述的具有表面層和基層的此類雙層清潔刮板中，當清潔刮板與被清潔構件接觸時，表面層和基層行為不同。因此，由于在被清潔構件表面上的凹凸(一般為Iym以上且2 μπι以下)或異物導致表面層有時剝離或碎裂。在日本專利特開2008-268670中描述的技術中，很難在表面層中均勻地分散細顆粒。細顆粒的不均勻分散，有時引起在接觸部中特性的變化、局部破碎或不良清潔。
[0016]在日本專利特開2009-025451中描述的技術，增加與被清潔構件接觸的聚氨酯橡膠(聚氨酯彈性體)清潔刮板的接觸部的表面上的交聯(lián)濃度，以形成硬鏈段。然而，該技術有時不充分地減小扭矩。
[0017]在日本專利特開2001-075451中描述的技術，包括向模具的內表面涂布異氰酸酯化合物和異氰脲酸酯化催化劑的液體混合物，以增加在聚氨酯橡膠(聚氨酯彈性體)清潔刮板的表面上的異氰脲酸酯基濃度。為了在清潔刮板的表面附近獲得基本穩(wěn)定的硬度和充分的扭矩減小而增加異氰脲酸酯基濃度，有時導致對被清潔構件的表面上的凹凸或異物的差的追隨性。對被清潔構件表面上的凹凸或異物的差的追隨性，易于導致調色劑的滑過。
[0018]在現(xiàn)有技術的這些技術中，清潔刮板通常對在清潔刮板與被清潔構件之間的調色劑顆?；蚓哂姓{色劑顆粒尺寸的顆粒具有不足的追隨性。更具體地說，清潔刮板的與被清潔構件接觸的接觸部，有時在清潔刮板與被清潔構件之間的顆粒上以非常大的曲率半徑改變其形狀。因此，該顆粒周圍的調色劑顆粒有時在清潔刮板和被清潔構件之間滑過。


【發(fā)明內容】

[0019]本發(fā)明提供一種清潔刮板，其使得與被清潔構件的摩擦減少，并且對在被清潔構件的表面上的凹凸或異物具有良好的追隨性。本發(fā)明還提供該清潔刮板的制造方法。本發(fā)明還提供各自包括這樣的清潔刮板的處理盒和電子照相設備。
[0020]本發(fā)明提供一種聚氨酯橡膠清潔刮板，其配置為與被清潔構件接觸并清潔被清潔構件的表面，其中
[0021]清潔刮板的與被清潔構件接觸的接觸部的表面具有1mgf/μ m2以上且400mgf/μ m2以下的楊氏模量(Y。)；
[0022]清潔刮板的距接觸部的表面為50μπι的內部位置的楊氏模量(Y5tl)與楊氏模量(Y0)的比例(Υ50/Υ0)為0.5以下，和
[0023]從接觸部的表面到清潔刮板的距接觸部的表面為20μπι的內部位置的楊氏模量的平均變化率[{(Y0-Y20) /YJ / (20-0)]，大于或等于從清潔刮板的距接觸部的表面為20 μ m的內部位置到清潔刮板的距接觸部的表面為50 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率[{(Y20-Y50) /YcJ / (50-20)]，其中Ytl表示接觸部的表面的楊氏模量，且Y20和Y50分別表示距接觸部的表面20和50 μ m的清潔刮板的內部位置的楊氏模量。
[0024]本發(fā)明還提供一種可拆卸地安裝到電子照相設備主體的處理盒，該處理盒配置為一體化地支承清潔刮板和作為要用清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件。
[0025]本發(fā)明還提供一種電子照相設備，其包括清潔刮板和作為要用清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件和/或中間轉印構件。
[0026]本發(fā)明還提供一種制造清潔刮板的方法，
[0027]其中聚氨酯橡膠是聚酯系聚氨酯橡膠，該方法包括:
[0028](a)將多異氰酸酯、脂族聚酯系多元醇和聚氨酯形成催化劑混合以制備混合物，所述脂族聚酯系多元醇的摩爾數(shù)為所述多異氰酸酯的摩爾數(shù)的30%以上且40%以下，
[0029](b)向模具的內表面涂布異氰脲酸酯化催化劑，和
[0030](c)將(a)中制備的混合物裝入(b)中涂布有異氰脲酸酯化催化劑的模具中，并加熱該模具。
[0031]本發(fā)明提供一種清潔刮板，其使得與被清潔構件的摩擦減少，并且對被清潔構件表面上的凹凸或異物具有良好的追隨性。本發(fā)明還提供該清潔刮板的制造方法。本發(fā)明還提供各自包括該清潔刮板的處理盒和電子照相設備。
[0032]參照附圖，從示例性實施方案的以下描述，本發(fā)明進一步的特征將變得顯而易見。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0033]圖1A和IB是顯示實施例Al結果的圖。
[0034]圖2A是顯示實施例A2至A7結果的圖。
[0035]圖2B是顯示比較例Al至A3結果的圖。
[0036]圖3A是顯示比較例A4至A6結果的圖。
[0037]圖3B是顯示比較例A7和A8結果的圖。
[0038]圖4A和4B是在清潔刮板和被清潔構件之間的接觸部及其附近的示意圖。
[0039]圖5A至5C是清潔刮板與被清潔構件接觸的示意圖。
[0040]圖6A和6B是當將調色劑顆粒放置在清潔刮板和被清潔構件之間時清潔刮板的形狀變化的示意圖。
[0041]圖7A是清潔刮板的示意圖，其中通過顏色的濃淡表示楊氏模量的差異。
[0042]圖7B是測試清潔刮板的楊氏模量的部分的示意圖。
[0043]圖8A和8B是顯示實施例BI結果的圖。
[0044]圖9A是顯示實施例B2至B7結果的圖。
[0045]圖9B是顯示比較例BI至B3結果的圖。
[0046]圖1OA是顯示比較例B4和B5結果的圖。
[0047]圖1OB是顯示比較例B6和B7結果的圖。
[0048]圖11是說明計算平均傾斜角Θ a的方法的示意圖。
[0049]圖12A和12B分別是〃反(counter) 〃方式和〃順(with) 〃方式的清潔刮板的接觸狀態(tài)的示意圖。
[0050]圖13A和13B分別是〃反〃方式和〃順〃方式的接觸部的附近的狀態(tài)的示意圖。
[0051]圖14A和14B是顯示實施例Cl中距清潔刮板的接觸部的表面的距離與楊氏模量之間關系的圖。
[0052]圖15A和15B分別是〃順〃方式和〃反〃方式的清潔設備的示意圖。
[0053]圖16A和16B是在清潔刮板的前端的接觸狀態(tài)的示意圖。
[0054]圖17是電子照相設備的示意圖。
[0055]圖18A是顯示實施例Cl至C4中距清潔刮板的接觸部的表面的距離與楊氏模量之間關系的圖。
[0056]圖18B是顯示比較例Cl至C3中距清潔刮板的接觸部的表面的距離與楊氏模量之間關系的圖。

【具體實施方式】
[0057]作為廣泛研究的結果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，可以通過適當?shù)乜刂平佑|部的表面和內部的楊氏模量來制造如下的清潔刮板:在其與被清潔構件接觸的接觸部(下文也稱作"清潔刮板的接觸部"或簡稱為"接觸部〃)具有低摩擦表面且對被清潔構件表面上的凹凸或異物具有良好的追隨性(下文也簡稱為"對凹凸或異物的追隨性〃)并且在其邊緣幾乎不破碎。
[0058]更具體地說，清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Y。)可以為lOmgf/μπι2以上，以減少清潔刮板的接觸部的表面上的摩擦。清潔刮板的接觸部變得耐變形。
[0059]清潔刮板的接觸部的表面上摩擦減少的貌似合理的理由大概是在清潔刮板和被清潔構件之間的摩擦中涉及的微觀接觸點(實際接觸面積)的減少。在清潔刮板的接觸部的表面上減少的摩擦和清潔刮板的接觸部的增加的抗變形性防止清潔刮板翹起。清潔刮板的接觸部的表面上減少的摩擦和清潔刮板的接觸部的增加的抗變形性，也使得更加容易維持如下所述的高清潔角β。它們還使清潔刮板的接觸部的寬度穩(wěn)定化。這可以防止清潔刮板震動或者制造異常噪音。
[0060]通過控制接觸部的聚氨酯橡膠的分子結構，可以有效地增加聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的楊氏模量。
[0061]可以使用多異氰酸酯、多元醇、擴鏈劑(例如，多官能的多元醇)和聚氨酯橡膠合成催化劑來合成聚氨酯橡膠。
[0062]在聚酯系聚氨酯橡膠的合成中，多元醇可以為聚酯系多元醇。在脂族聚酯系聚氨酯橡膠的合成中，多元醇可以為脂族聚酯系多元醇。
[0063]更具體地說，通過改變聚氨酯橡膠的交聯(lián)度或者控制聚氨酯橡膠的原料的分子量，可以增加聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的楊氏模量。在一個合適的方法中，通過增加聚氨酯橡膠的異氰脲酸酯基濃度，可以增加聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的楊氏模量。聚氨酯橡膠的異氰脲酸酯基可源自多異氰酸酯，其是聚氨酯橡膠的原料。
[0064]根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以是由具有異氰脲酸酯基的聚氨酯橡膠制得的清潔刮板。容易控制由具有異氰脲酸酯基的聚氨酯橡膠制得的清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量。通過增加在接觸部的聚氨酯橡膠表面(及其附近)的異氰脲酸酯基含量，可以增加這樣的清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量。更具體地說，在聚酯系聚氨酯橡膠的情況下，采用μ ATR法測量在接觸部的聚酯系聚氨酯橡膠的表面的IR光譜。在聚酯系聚氨酯橡膠中，源自異氰脲酸酯基的C-N峰強度(Isi)與源自酯基的C = O峰強度(Ise)的比例(WIse)可以為0.50以上。C-N峰出現(xiàn)在HllcnT1，且C = O峰出現(xiàn)在1726CHT1。比例(Isi/Ise)以源自不受異氰脲酸酯基的量影響的酯基的C = O峰強度為基準。通過比較源自異氰脲酸酯基的C-N峰強度與該基準，可以由比例(ISI/ISE)定性地確定異氰脲酸酯基的量。
[0065]圖4A和4B是在清潔刮板和被清潔構件之間的接觸部及其附近的示意圖。
[0066]清潔刮板801的接觸部803與被清潔構件802在預定的接觸壓力下以清潔角β接觸。對調色劑顆粒移動進入接觸部803后面的楔形部分的阻止，取決于接觸壓力和清潔角β。清潔角β越高，導致在越低的接觸壓力下調色劑顆粒的阻止(blockage)。在圖4A中與圖4B中相比，清潔角β更高，并且調色劑顆粒被強地阻止。
[0067]如在圖4Α和4Β中所示，沿被清潔構件802的表面的移動方向(圖4Α和4Β中箭頭的方向)向清潔刮板801施加的負荷,起到引起清潔刮板的接觸部變形的負荷的作用。
[0068]圖5Α至5C是清潔刮板與被清潔構件接觸的示意圖。
[0069]當清潔刮板801與被清潔構件802接觸時，如在圖5Α中所示，清潔刮板801的邊緣可與被清潔構件802接觸。可選地，如在圖5C中所示，清潔刮板801的邊緣可漂浮在空中，且清潔刮板801的與被清潔構件802相對的面可與被清潔構件802接觸?？蛇x地，如在圖5Β中所示，可以存在圖5Α和5C中所示的狀態(tài)之間的中間狀態(tài)。在本發(fā)明中，在這些狀態(tài)的任一個中，清潔刮板與被清潔構件接觸的部分被稱作接觸部。
[0070]因為在被清潔構件表面上的凹凸或局部形成的圖像，所以沿清潔刮板的縱向或者沿被清潔構件的表面的移動方向的接觸部的表面狀態(tài)不必需是均勻的。例如，當由于某種原因將調色劑顆粒804放置在接觸部803和被清潔構件802之間時，清潔刮板801用清潔刮板的彈性改變它的形狀并保持該調色劑顆粒。清潔刮板801的表面傾向于追隨調色劑顆粒804的形狀。當將調色劑顆粒804放置在清潔刮板801的接觸部803與被清潔構件802之間時，沿將清潔刮板801向上推動的方向和沿被清潔構件802的表面的移動的方向(圖4Α和4Β中箭頭的方向)施加力。
[0071]圖6Α和6Β是當將調色劑顆粒(異物的一種)放置在清潔刮板和被清潔構件之間時，清潔刮板形狀變化的示意圖。圖6Α和6Β是圖4Α和4Β的左側視圖。
[0072]當清潔刮板801的表面具有低楊氏模量時，如在圖6Α中所示，清潔刮板801可容易地追隨調色劑顆粒804的形狀。當清潔刮板801的表面具有過高的楊氏模量時，清潔刮板801難以追隨調色劑顆粒804的形狀。當清潔刮板801難以追隨調色劑顆粒804的形狀時，不僅清潔刮板801的與調色劑顆粒804相對的表面部分，而且清潔刮板801的與調色劑顆粒804的周圍相對的表面部分都被上推，從而導致具有大曲率半徑的變形，如在圖6Β中所示。如在圖6Β中所示的具有大曲率半徑的變形，使得調色劑顆粒滑過調色劑顆粒804周圍的空隙。因此，根據(jù)本發(fā)明的實施方案的清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量為400mgf/μ m2以下，優(yōu)選344mgf/μ m2以下，更優(yōu)選250mgf/μ m2以下。
[0073]如上所述，根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板由具有異氰脲酸酯基的聚氨酯橡膠制得。為了將聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Ytl)減少到某種程度(400mgf/μ m2以下)，在接觸部的聚氨酯橡膠表面(及其附近)的異氰脲酸酯基含量可以減少到某種程度。更具體地說，比例(WIse)可以為1.55以下。為了將楊氏模量(Y0)減少至IJ 344mgf/μπι2以下，比例(ISI/ISE)可以為1.35以下。為了將楊氏模量(Y0)減少至IJ 250mgf/ym2以下，比例(Wise)可以為1.20以下。
[0074]因此，根據(jù)本發(fā)明的實施方案的清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Ytl)為1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下，優(yōu)選1mgf/ μ m2以上且344mgf/ μ m2以下，更優(yōu)選1mgf/ μ m2以上且250mgf/μ m2以下。為了獲得在1mgf/μ m2以上且400mgf/μ m2以下范圍內的清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Y。)，比例(IsiAse)可以為0.50以上且1.55以上。為了獲得1mgf/ μ m2以上且344MP以下的楊氏模量(Y0)，比例(ISI/ISE)可以為0.50以上且1.35以下。為了獲得1mgf/ μ m2以上且250mgf/ μ m2以下的楊氏模量(Y。)，比例(WIse)可以為0.50以上且1.20以下。
[0075]根據(jù)本發(fā)明的實施方案的清潔刮板的接觸部的表面具有適度高的楊氏模量(1mgf/ μ m2以上且400mgf/μ m2以下)，并且楊氏模量從接觸部的表面向清潔刮板的內部降低。更具體地說，清潔刮板的距清潔刮板的接觸部的表面為50μπι的內部位置的楊氏模量(Y5tl)與楊氏模量(Y。)的比例(Y5Q/YQ)是0.5以下(優(yōu)選0.2以下)。即使當接觸部的表面的楊氏模量增加到某種程度時，這樣的清潔刮板對凹凸或異物也具有良好的追隨性。當比例(Y5Q/YQ)是0.5以下(優(yōu)選0.2以下)時，清潔刮板可容易地維持高的清潔角β，并令人滿意地阻止調色劑。
[0076]當清潔刮板具有1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下的楊氏模量和0.5以下的比例(Υ5(ι/%)時，楊氏模量從清潔刮板的接觸部的表面向清潔刮板的內部顯著降低。
[0077]本發(fā)明人的研究表明:清潔刮板的破碎傾向于發(fā)生在清潔刮板中的應力集中的地方。本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn):應力集中傾向于發(fā)生在由多個具有不同楊氏模量的層組成的清潔刮板中的各層之間的界面處或者發(fā)生在楊氏模量顯著變化的部位處。
[0078]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施方案的清潔刮板的楊氏模量從接觸部的表面向清潔刮板的內部顯著降低，并且在接觸部的表面附近特別顯著地降低。更具體地說，從接觸部的表面到清潔刮板的距該表面為20μπι的內部位置的楊氏模量的平均變化率，大于或等于清潔刮板的距該表面為20 μ m的內部位置到清潔刮板的距該表面為50 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率。從接觸部的表面到清潔刮板的距該表面為20 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率由[{ (YctYJ/Y。}/(20-0)]計算，其中Y2tl表示清潔刮板的距清潔刮板的接觸部的表面為20 μ m的內部位置的楊氏模量。從清潔刮板的距該表面為20 μ m的內部位置到清潔刮板的距該表面為50 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率由[{Υ2(ΓΥ5(Ι)/YJ/(50-20)]計算。即使當楊氏模量從接觸部的表面向內部(距接觸部的表面為50μπι的內部位置)顯著降低時，這樣的結構也可防止清潔刮板的破碎。這樣的結構對被清潔構件表面上的凹凸或異物也具有良好的追隨性。這或許是因為:通過顯著降低在高變形應力下表面附近的楊氏模量并逐步降低內部的楊氏模量，分散了變形應力。
[0079]從接觸部的表面到距該表面為20μπι的內部位置的楊氏模量的平均變化率[(Y0-Y20) /YJ / (20-0)]以下也稱作〃 Λ YQ_2Q〃。從距該表面為20 μ m的內部位置到距該表面為50μπι的內部位置的楊氏模量的平均變化率[{Y2Q-Y5(l)/YQ}/(50-20)]以下也稱作〃 Λ Y2ch5ci'因此，根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板滿足AYch2ci彡ΛΥ2(ι_5(ι。
[0080]如上所述，在根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板中，楊氏模量(Y5tl)與楊氏模量(Ytl)的比例(Y5Q/YQ)為0.5以下。楊氏模量(Y2tl)與楊氏模量(Y。)的比例(Y2Q/YQ)可以為0.5以下。這樣的清潔刮板對被清潔構件表面上的凹凸或異物具有良好的追隨性。
[0081]在由表示距清潔刮板的接觸部的表面的距離(接觸部的表面視為距離O μ m)的橫軸和表示楊氏模量的縱軸限定的平面上，在接觸部的表面與清潔刮板的距該表面為50μπι的內部位置之間的位置處(距接觸部的表面為Ν[ μπι]的位置處)的楊氏模量(Yn)(0〈Ν〈50[ μ m]),可以低于在楊氏模量(Ytl)和楊氏模量(Y5tl)之間的直線。這意味著:從接觸部的表面到清潔刮板的內部楊氏模量的變化形成了向下凸出的曲線。這樣的清潔刮板對被清潔構件表面上的凹凸或異物具有良好的追隨性。
[0082]圖7A是清潔刮板的示意圖，其中通過顏色的濃淡顯示楊氏模量的差異。圖7B是測試清潔刮板的楊氏模量的部分的示意圖。使清潔刮板的接觸部變形的負荷，變成在沿著清潔刮板的與被清潔構件相對的面的方向(在圖7A中箭頭X的方向)的應力。在圖7A中，顏色越深表示楊氏模量越高。盡管為了說明方便起見，在圖7A中楊氏模量逐步變化，但清潔刮板的楊氏模量可以連續(xù)變化。
[0083]清潔刮板的楊氏模量可連續(xù)變化，而不是逐步變化。連續(xù)變化意指:不存在引起剝離或破碎發(fā)生的具有不同楊氏模量的部分之間的界面。
[0084]在根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板中，清潔刮板的表面區(qū)域處理在清潔刮板的接觸部的表面附近的局部(微觀)變形，例如對被清潔構件表面上的凹凸或異物的追隨性，或者對在該清潔刮板邊緣中破碎的防止。如本文中使用的，術語清潔刮板的"表面區(qū)域"是指清潔刮板的楊氏模量從接觸部的表面到清潔刮板的內部降低的區(qū)域。另一方面，清潔刮板的內部區(qū)域可以處理清潔刮板的總體(宏觀)特性，例如整體彎曲或由于溫度變化的特征變化。
[0085]如本文中使用的，術語"內部區(qū)域"是指在表面區(qū)域內部的區(qū)域。清潔刮板的表面區(qū)域可具有不超過清潔刮板厚度一半的厚度。
[0086]在清潔刮板和被清潔構件之間的接觸部或輥隙部的寬度通常為幾十至一百微米。因此，表面區(qū)域可以為距清潔刮板的邊緣2mm以上。
[0087]可以通過將清潔刮板粘合到支承構件或者將清潔刮板放在多個支承構件之間來支承清潔刮板?？蛇x地，可以通過在支承構件的頂端形成清潔刮板(清潔刮板的一部分作為支承部分)來支承清潔刮板。
[0088]如上所述，根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板是聚氨酯橡膠清潔刮板。在聚氨酯橡膠中，聚酯系聚氨酯橡膠，特別是脂族聚酯系聚氨酯橡膠，具有高的機械強度，例如耐磨耗性、高的抗由接觸壓力引起的永久變形性(抗蠕變性)。
[0089]如上所述，通過控制聚氨酯橡膠的分子結構，可以有效地控制聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的楊氏模量。
[0090]可以使用多異氰酸酯、高分子量多元醇、擴鏈劑(例如，多官能的低分子量多元醇)和聚氨酯橡膠合成催化劑來合成聚氨酯橡膠。在聚酯系聚氨酯橡膠的合成中，多元醇可以為聚酯系多元醇，或者在脂族聚酯系聚氨酯橡膠的合成中，多元醇可以為脂族聚酯系多元醇。
[0091]更具體地說，如上所述，通過改變聚氨酯橡膠的交聯(lián)度或者控制聚氨酯橡膠的原料的分子量，可以有效地控制聚氨酯橡膠清潔刮板的接觸部的楊氏模量。特別是，為了改善控制楊氏模量的精度，可以從聚氨酯橡膠的內部到表面增加源自多異氰酸酯(它是聚氨酯橡膠的原料)的異氰脲酸酯基濃度。
[0092]具有異氰脲酸酯基(異氰脲酸酯鍵)的聚氨酯橡膠，與不具有異氰脲酸酯基的聚氨酯橡膠相比，即使當這些聚氨酯橡膠具有實質上相同的硬度(例如，國際橡膠硬度)時，也可以更容易地維持高的清潔角β。
[0093]多異氰酸酯的實例包括4，4’ -二苯甲烷二異氰酸酯(MDI，4，4’ -MDI)、2，4_甲苯二異氰酸酯(2，4-TDI)、2，6-甲苯二異氰酸酯(2，6-TDI)、二甲苯二異氰酸酯(XDI)、1，5-萘二異氰酸酯(1.5-NDI)、對亞苯基二異氰酸酯(PPDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(iroi)、4，4’_ 二環(huán)己基甲烷二異氰酸酯(氫化MDI)、四甲基二甲苯二異氰酸酯(TMXDI)、碳化二亞胺改性的MDI和多亞甲基多苯基異氰酸酯(PAPI)。多異氰酸酯可以為4，4’-二苯甲烷二異氰酸酯。
[0094]高分子量多元醇(脂族聚酯系多元醇)的實例包括:乙烯丁烯己二酸酯聚酯系多元醇、丁烯己二酸酯聚酯系多元醇、己烯己二酸酯聚酯系多元醇和內酯聚酯系多元醇。這些多元醇可以單獨或組合使用。丁烯己二酸聚酯系多元醇和己烯己二酸聚酯系多元醇具有高的結晶性。脂族聚酯系多元醇的結晶性越高，導致所得聚酯系聚氨酯橡膠(聚酯系聚氨酯橡膠清潔刮板)的硬度越高和清潔刮板的耐久性越高。
[0095]高分子量多元醇優(yōu)選具有1500以上且4000以下、更優(yōu)選2000以上且3500以下的數(shù)均分子量。多元醇的數(shù)均分子量越高，導致所得聚氨酯橡膠(聚氨酯橡膠清潔刮板)的硬度、彈性系數(shù)和拉伸強度越高。多元醇的數(shù)均分子量越低，導致粘度越低和操作性越高。
[0096]擴鏈劑(多官能低分子量多元醇)可以是二醇。二醇的實例包括:乙二醇(EG)、二甘醇(DEG)、丙二醇(PG)、二丙二醇(DPG)U, 4-丁二醇(I, 4-BD)、1，6-己二醇(I, 6-HD)、1，4-環(huán)己二醇、1，4-環(huán)己烷二甲醇、亞二甲苯基二甲醇(對苯二甲醇)和三甘醇。除了二醇外的擴鏈劑還可以是三價或更高價的多元醇。三價或更高價多元醇的實例包括三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇和山梨糖醇。這些二醇和多元醇可以單獨或組合使用。
[0097]聚氨酯橡膠合成催化劑大致地分成促進橡膠化(樹脂化)或發(fā)泡的聚氨酯形成催化劑(反應促進催化劑)和異氰脲酸酯化催化劑(異氰酸酯三聚化催化劑)。這些催化劑可以單獨或組合使用。
[0098]聚氨酯形成催化劑的實例包括:錫催化劑，如二月桂酸二丁基錫和辛酸亞錫；和胺催化劑，如三亞乙基二胺、四甲基胍、五甲基二亞乙基三胺、二甲基咪唑、四甲基丙二胺和N，N，N’-三甲基氨乙基乙醇胺。這些聚氨酯形成催化劑可以單獨或組合使用。三亞乙基二胺具有高的反應性。
[0099]異氰脲酸酯化催化劑的實例包括:金屬氧化物，例如Li2O和(Bu3Sn) 20 ;氫化化合物物，例如NaBH4 ;醇鹽化合物，例如NaOCH3、KO- (t-Bu)和硼酸鹽；胺化合物，例如 N(C2H5) 3、N(CH3)2CH2C2H5 和 N2C6H12 ;堿性羧酸鹽化合物，例如 HCO2Na' CO3Na2' PhCO2Na/DMF、CH3CO2K, (CH3CO) 2Ca、堿性皂和環(huán)烷酸鹽；堿性甲酸鹽化合物；和季銨鹽化合物，例如((R1) 3-NR20H) -00CR3。組合的催化劑的實例包括組合催化劑，例如胺/環(huán)氧化物、胺/羧酸和胺/亞烷基酰亞胺。在本發(fā)明中，這些異氰脲酸酯化催化劑可以作為混合物使用。
[0100]N, N, N’ -三甲基氨乙基乙醇胺作為聚氨酯形成催化劑和異氰脲酸酯化催化劑兩者。
[0101]如果必要的話，還可以使用添加劑，例如顏料、增塑劑、防水劑、抗氧劑、紫外線吸收劑或光穩(wěn)定劑。
[0102]本發(fā)明人發(fā)現(xiàn):通過如下所述合成聚氨酯橡膠，可以如上所述控制異氰脲酸酯基的分布。也就是說，通過使用脂族聚酯系多元醇作為多元醇，將異氰脲酸酯化催化劑涂布到模具的內表面，并用含有特定比例的多異氰酸酯和脂族聚酯系多元醇的原料填充該模具來合成聚氨酯橡膠。
[0103]涂布到模具內表面的異氰脲酸酯化催化劑促進與模具內表面接觸的部分原材料的異氰脲酸酯化。因此，可以使用相對于脂族聚酯系多元醇的量過量的多異氰酸酯。對于過量的多異氰酸酯，通過在涂布到模具內表面的異氰脲酸酯化催化劑和模具溫度的作用合成具有如上所述控制的異氰脲酸酯基分布的聚氨酯橡膠。
[0104]脂族聚酯系多元醇的摩爾數(shù)可以為多異氰酸酯摩爾數(shù)的30%以上且40%以下。脂族聚酯系多元醇的摩爾數(shù)越少導致過量多異氰酸酯的效果越大，并有利于將清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Ytl)控制在lOmgf/μπι2以上的范圍內。另一方面，將多異氰酸酯的過量抑制到某種程度，有利于將清潔刮板的接觸部的表面的楊氏模量(Ytl)控制在400mgf/ μ m2 以下。
[0105]模具溫度優(yōu)選為80°C以上且150°C以下，更優(yōu)選100°C以上且130°C以下。當使得模具中的原材料反應以合成聚氨酯橡膠時，可以升高模具溫度以增加反應速率。然而，模具溫度越高傾向于導致在接觸部的表面和內部之間的楊氏模量的差異越小。
[0106]除上述方法之外，還可以通過如下方法制造清潔刮板:用液體填充鼓形模具并在離心力下形成清潔刮板(離心法)，或者用液體填充帶或槽狀模具并形成清潔刮板(鑄壓(cast press)法)。
[0107]為了減少摩擦，根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以具有凹凸，以使得清潔刮板的接觸部的表面(以下也稱作〃表面c〃)上的平均傾斜角θ a為I度以上。當在清潔刮板的表面C上的平均傾斜角Θ a為I度以上時，這導致在清潔刮板和被清潔構件之間形成小的實際接觸面積和低的摩擦。
[0108]當清潔刮板具有在其表面C上具有I度以上的平均傾斜角Θ a的凹凸時，必需防止清潔對象調色劑滑過該凹凸。為了這個目的，在清潔刮板的表面C上的10點平均粗糙度Rz可以為ΙΟμπι以下。
[0109]清潔刮板的表面C上的I度以上的平均傾斜角Θ a，可以通過以下實現(xiàn):在對應于表面C的模具表面上形成凹凸以使得在表面C上的平均傾斜角θ a為I度以上，并將該凹凸的形狀轉印到表面C。在模具表面上的凹凸可以通過蝕刻、噴磨、噴丸硬化、激光加工、放電加工、微壓印或納米壓印來形成。
[0110]根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以〃反〃方式使用。在〃反〃方式中，將清潔刮板設置為與圖像形成時的被清潔構件的旋轉方向(被清潔構件的表面的移動方向)相反的方向。根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以"順"方式使用。在“順”方式中，將清潔刮板設置為與圖像形成時的被清潔構件的旋轉方向(被清潔構件的表面的移動方向)相同的方向。在“順”方式中，易于維持在被清潔構件的表面和清潔刮板的前端之間的合適的楔形狀和接觸壓力。合適的楔形狀和接觸壓力導致形成對凹凸或異物良好的追隨性、高的清潔性能和被清潔構件的低的旋轉扭矩。
[0111]下面將描述〃反〃方式和“順”方式。
[0112]〃反〃方式的清潔
[0113]圖12A和12B分別是〃反〃方式和“順”方式的清潔刮板的接觸狀態(tài)的示意圖。
[0114]在〃反〃方式中，如在圖12A中所示，將清潔刮板的支承構件992配置在沿被清潔構件的表面的移動方向的接觸部的下游側(以下也簡稱為"下游側")。在圖12A中，Rl表示被清潔構件表面的移動方向，且虛線V表示在接觸部垂直于被清潔構件的表面的線。將支承構件992配置在虛線V的下游側。
[0115]在〃反〃方式中，以壓縮整個清潔刮板的方向施加清潔刮板和被清潔構件之間的摩擦力。這增加施加到清潔刮板前端的壓力，并且該增加的壓力進一步增加摩擦力。在清潔刮板和被清潔構件之間摩擦力的增加，導致接觸力增加，這傾向于引起摩擦力的進一步增力口。因此，接觸力和摩擦力傾向于異常地增加。在這種情況下，清潔刮板的前端沿下游方向拉伸，然后恢復到其原始狀態(tài)。清潔刮板傾向于重復這樣的移動。重復移動有時產生異常噪音。通常在被清潔構件開始或停止的時候產生異常噪音。當清潔刮板發(fā)出異常噪音時，清潔刮板的前端可能沿下游方向翹起。
[0116]圖13A和13B分別是〃反〃方式和“順”方式的接觸部附近的狀態(tài)的示意圖。
[0117]圖13A示出了 〃反〃方式的接觸部的附近。在圖13A中，清潔刮板991和被清潔構件901在清潔刮板的前端的上游側形成角度β。更確切地說，在清潔刮板991和被清潔構件901之間的接觸部的沿被清潔構件901的旋轉方向(被清潔構件901表面的移動方向)的中央處與被清潔構件901的表面接觸的平面被稱作接觸面Α。在該接觸部的沿被清潔構件901的旋轉方向(移動方向)的上游側，清潔刮板991的與被清潔構件901表面相對的表面被稱作表面U。在接觸面A和表面U之間的角度是角度β。如本文中使用的,術語"上游側"是指接觸部的沿被清潔構件的表面的移動方向的上游側。下面同樣適用。在圖13Α和13Β中，N表示在清潔刮板991和被清潔構件901之間的接觸部，且T表示調色劑顆粒。調色劑顆粒T的阻止取決于角度β和施加到接觸部N上的壓力P。壓力P越高導致在越低的角度β下調色劑顆粒T的阻止。在"反"方式中，由于在清潔刮板前端和被清潔構件之間的摩擦力，導致清潔刮板的前端沿下游方向拉伸。這增加了壓力P，從而有效地防止調色劑顆粒T的滑過。具有小粒徑和高球形度的調色劑的除去需要高的接觸壓力。因此，"反"方式也適合于這樣的清潔。此外，因為它高的接觸壓力，"反"方式的清潔刮板的前端在清潔刮板前端和被清潔構件表面之間具有很少的間隙的情況下具有對被清潔構件表面上凹凸的良好追隨性。
[0118]然而，具有高接觸壓力的"反"方式傾向于導致被清潔構件的高的旋轉扭矩。
[0119]“順”方式的清潔
[0120]在“順”方式中，如在圖12Β中所示，清潔刮板的支承構件992配置在上游側。在圖12Β中，Rl表示被清潔構件表面的移動方向，并且虛線V表示在接觸部垂直于被清潔構件表面的線。將支承構件992配置在虛線V的上游側。
[0121 ] 在“順”方式中，沿使整個清潔刮板拉伸的方向在清潔刮板和被清潔構件之間施加摩擦力。這傾向于減輕在清潔刮板前端的壓力。因此，與"反"方式相比，接觸壓力和摩擦力不太可能異常地增加。因此，“順”方式不太可能產生異常噪音，并且適合于減小扭矩。
[0122]圖13Β示出了“順”方式的接觸部的附近。在圖13Β中，清潔刮板991和被清潔構件901在清潔刮板前端的上游側形成角度β。在圖13Α和13Β中，N表示在清潔刮板991和被清潔構件901之間的接觸部，且T表示調色劑顆粒。在“順”方式中，由于在清潔刮板991和被清潔構件901之間的摩擦力，導致清潔刮板的前端可能沿Rl方向(下游方向)拉伸。清潔刮板前端沿Rl方向的拉伸傾向于減小角度β，并使調色劑顆粒易于進入接觸部N0隨著清潔刮板991前端被更強烈地拉伸，接觸部N的寬度傾向于增加。接觸部N的寬度越大導致壓力P越小，使得在接觸部N中的調色劑顆粒T易于沿下游方向滑過接觸部N。當清潔刮板991更強烈地壓向被清潔構件901時(更高的接觸壓力)，清潔刮板的前端沿下游方向被更強烈地拉伸。這進一步減小角度β，并增加接觸部N的寬度。因此，接觸壓力難以有效地增加。當接觸部N的寬度顯著地增加時，一些類型的清潔刮板可更強烈地粘附到被清潔構件的表面。在這種情況下，被清潔構件可能具有與"反"方式中的旋轉扭矩一樣大的旋轉扭矩。
[0123]圖16Α和16Β是在清潔刮板前端的接觸狀態(tài)的示意圖。
[0124]如在圖16Α中所示，在接觸部的上游側，與被清潔構件的表面相對的“順”方式的清潔刮板的表面u(以下也簡稱為〃表面U")的楊氏模量(Yutl)可以為lOmgf/μπι2以上。具有l(wèi)Omgf/μπι2以上的楊氏模量(Yutl)的清潔刮板表面U，可以抵抗將清潔刮板的前端沿Rl的方向(下游方向)拉伸的力。從而，可以適當?shù)鼐S持清潔刮板的姿勢。因而，適當?shù)乇３纸嵌圈?。這樣的表面U也減少了清潔刮板前端的變形，并減少接觸部N的寬度，使得易于增加接觸壓力P。因此，即使具有小粒徑和高球形度的調色劑也可以充分地除去。高的接觸壓力P導致對被清潔構件上凹凸的良好追隨性。接觸部N的寬度越小，導致在清潔刮板和被清潔構件之間的粘著力越低，使得易于減少被清潔構件的旋轉扭矩。楊氏模量(Yutl)越高使得越易于增加角度β和接觸壓力P，并減少接觸部N的寬度，從而進一步改善清潔性能。因此，“順”方式的清潔刮板可具有40mgf/μ m2以上的楊氏模量(YUQ)。在其整個表面上，表面U不必須具有l(wèi)Omgf/μπι2以上的楊氏模量(YUQ)。為了強烈地對抗將清潔刮板的前端沿Rl方向(下游方向)拉伸的力，并穩(wěn)定地保持整個清潔刮板的姿勢，整個表面U可具有1mgf/μπι2以上的楊氏模量(Yutl)。為了減少在清潔刮板前端的變形，可以增加接觸部附近的楊氏模量(Y?)。雖然可以增加角度β來除去具有小粒徑和高球形度的調色劑，但在“順”方式中，最高的角度β小于90度。
[0125]如上所述，根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板的表面C具有適度高的楊氏模量(1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下),并且楊氏模量從表面C向清潔刮板的內部降低。更具體地說，距清潔刮板的接觸部的表面為50 μ m的清潔刮板的內部位置的楊氏模量(Y5tl)與楊氏模量(Y。)的比例(Y5Q/Y(i)是0.5以下(優(yōu)選0.2以下)?？梢栽黾訔钍夏Ａ?Y。)，以防止清潔刮板的前端沿下游方向被拉伸，并使得易于維持高的角度β。即使當表面C的楊氏模量增加到某種程度時，0.5以下的比例(Y5tZYtl)導致對凹凸或異物的良好追隨性。
[0126]然而，過高的楊氏模量(Ytl)和楊氏模量(Yutl)傾向于導致清潔刮板的表面的變形小。這傾向于導致對被清潔構件表面上的凹凸差的追隨性，或者由于施加到被清潔構件表面的非常高的局部壓力導致破壞被清潔構件的表面。因此，楊氏模量(Ytl)和楊氏模量(Yutl)可以為400mgf/ μ m2以下。
[0127]測暈楊氏模暈的方法
[0128]采用由El1nix Inc.制造的微壓痕硬度測試機ENT-1100 (商品名)測量清潔刮板的楊氏模量。在下列條件下，在接觸部的表面到清潔刮板的內部之間的合適的點處進行負荷-除荷測試。以試驗機中的計算結果來獲得楊氏模量。
[0129]測試模式:負荷-除荷測試
[0130]負荷范圍:A
[0131]試驗負荷:100[mgf]
[0132]步驟數(shù):1000[_]
[0133]步驟間隔:10[ms]
[0134]負荷保持時間:2[s]
[0135]圖7B是測試清潔刮板的楊氏模量的部分的示意圖。
[0136]首先將清潔刮板沿縱向分成四等份。在除了兩端面的三個切斷面(SeCt1nS)805上在接觸部806(在圖7B下側的圖中的灰色區(qū)域)的任意點處，沿從接觸部806的表面到清潔刮板的內部的方向(在圖7B中下側的圖中箭頭的方向)進行如上所述的測量和計算。更具體地說，從接觸部的表面到清潔刮板的內部從表面到60μπι的深度以2μπι的間隔、從60 μ m的深度到100 μ m深度以10 μ m的間隔和從100 μ m深度到300 μ m深度以20 μ m的間隔進行如上所述的測量和計算。在各個測量點，將該三個切斷面中的測量值平均，以獲得在相應點的楊氏模量。原理上，楊氏模量大于零。
[0137]使用μ ATR法測暈IR光譜
[0138]采用μ ATR法,用由PerkinElmer, Inc.制造的傅里葉變換紅外分光計(商品名:Perkin Elmer Spectrum 0ne/Spotlight300)(使用鉆石晶體的通用 ATR)測量 IR 光譜。
[0139]根據(jù)本發(fā)明實施方案的聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)可具有65度以上且90度以下的硬度。聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的硬度越高，導致在聚氨酯橡膠清潔刮板與被清潔構件接觸時的接觸壓力越高。聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的硬度越低，導致對被清潔構件的破壞越少。聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的硬度(IRHD)用由WALLACE制造的Wallace顯微硬度計，采用國際橡膠硬度測試M法測量。在JISK6253-1997中規(guī)定了國際橡膠硬度測試M法。
[0140]根據(jù)本發(fā)明實施方案的聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的100%伸長時的拉伸應力(100%模量)可以為2.5mgf/y m2以上且6.0mgf/μ m2以下。聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的100%伸長時的拉伸應力越高，導致在聚氨酯橡膠清潔刮板與被清潔構件接觸時的接觸壓力越高。聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的100%伸長時的拉伸應力(100%模量)越低，導致對被清潔構件表面的追隨性越好。在聚氨酯橡膠清潔刮板(聚氨酯橡膠)的100%伸長時的拉伸應力(100%模量)的測試中，首先從清潔刮板沖壓出JIS3號啞鈴。在500mm/min的十字頭(crosshead)速度下，測量JIS3號啞鈴在100%伸長時的拉伸應力(100%模量)。
[0141]形成根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板的聚氨酯橡膠的tanS (在1Hz的頻率和-50°C以上且+130°C以下的溫度下測量；以下同樣適用)的峰值溫度可以盡可能地低，例如5°C以下。形成清潔刮板的聚氨酯橡膠的tan δ從低溫到高溫可具有平緩的曲線。更具體地說，tan δ在5°C下可以為0.7以下，在40°C下可以為0.04以上。形成清潔刮板的聚氨酯橡膠的tan δ的峰值溫度越低，導致清潔刮板在低溫環(huán)境中的彈性越高。tanS從低溫到高溫的曲線越平緩，導致清潔刮板在低溫環(huán)境中的彈性越高。清潔刮板在低溫環(huán)境中的彈性越高，導致在低溫環(huán)境中的清潔性能越好。形成清潔刮板的聚氨酯橡膠的tan δ的峰值溫度越低，傾向于導致粘性越高。tanS從低溫到高溫的曲線越平緩，傾向于導致粘性越高。較高的粘性可防止在高溫環(huán)境中清潔刮板震動或者翅起。用由Seiko InstrumentsInc.制造的動態(tài)粘彈性測量儀器(商品名:Exstar6100DMS)測量聚氨酯橡膠的tan δ。
[0142]形成清潔刮板的聚氨酯橡膠的壓縮永久變形越大，傾向于導致清潔刮板的邊緣在被清潔構件的表面上的接觸壓力越低。較大的壓縮永久變形也傾向于導致在清潔刮板的邊緣和被清潔構件的表面之間形成不平的接觸。因此，壓縮永久變形可以盡可能地小。為了改善聚氨酯橡膠的耐磨耗性，聚氨酯橡膠的壓縮永久變形可以盡可能地小。更具體地說，形成清潔刮板的聚氨酯橡膠的壓縮永久變形可以為5%以下。按照JIS Κ262-1997來測量聚氨酯橡膠的壓縮永久變形。
[0143]測暈數(shù)均分子暈的方法
[0144]按照常規(guī)步驟來測定數(shù)均分子量。使用凝膠滲透色譜(GPC)，由峰值計數(shù)(peakcount)和GPC用單分散聚苯乙烯的數(shù)均分子量來制作標準曲線。更具體地說，將樣品溶于四氫呋喃(溶劑)中，用如下儀器在如上所述的條件下測量溶解的組分的數(shù)均分子量。
[0145]GPC 儀器:由 Tosoh Corp.制造的 HLC-8120GPC (商品名)
[0146]柱:由Tosoh Corp.制造的 TSK-GEL (商品名)、G-5000HXL (商品名)、
[0147]G-4000HXL (商品名)、G-3000HXL (商品名)和 G_2000HXL (商品名)
[0148]檢測器:差示折光計
[0149]溶劑:四氫呋喃
[0150]溶劑濃度:0.5質量％
[0151]流速:1.0ml/min
[0152]測暈十點平均耜.糙度(Rz)和平均傾斜角(Θ a)的方法
[0153]用由Kosaka Laboratory Ltd.制造的 Surfcorder (商品名:SE-3500)測量十點平均粗糙度(Rz)和平均傾斜角(Ga)。按照JIS B0601-94測量十點評價粗糙度(Rz)。圖11示出了計算評價傾斜角(Ga)的方法。測量條件描述如下。
[0154]截取值(Cut-off):0.8mm
[0155]測量長度:2.5mm
[0156]測量速度:0.lmm/s
[0157]動摩擦系數(shù)的測暈方法
[0158]用由Shinto Scientific C0.，Ltd.制造的表面性質測試儀來測量動摩擦系數(shù)。將由Sato Tekko C0., Ltd.制造的SiC球(標稱尺寸:3/8英寸)用作壓頭(indenter)。要測量的部分是包括圖7B中的接觸部806的、與被清潔構件相對的面。測量條件描述如下。
[0159]負荷:10mgf
[0160]測量長度:1mm
[0161]測量速度:lmm/min
[0162]數(shù)據(jù)采集頻率:1000Hz
[0163]在如上所述的測量條件下獲得60000個數(shù)據(jù)。動摩擦系數(shù)是最后10000個數(shù)據(jù)的平均值。
[0164]根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以〃反〃方式或“順”方式用于處理盒中。
[0165]根據(jù)本發(fā)明實施方案的處理盒一體化地支承:根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板和作為要用清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件。該處理盒可以被可拆卸地安裝在電子照相設備的主體。
[0166]根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板可以按"反"方式或“順”方式應用于電子照相設備中。
[0167]根據(jù)本發(fā)明實施方案的電子照相設備包括:根據(jù)本發(fā)明實施方案的清潔刮板，和作為要用清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件和/或中間轉印構件。
[0168]將在下面的實施例中描述本發(fā)明。在實施例中的術語〃份〃是指〃質量份"。
[0169]實施例Al
[0170]制備第一組合物的工藝
[0171]使299份4，4’ - 二苯甲烷二異氰酸酯(以下也稱作〃4，4’ -MDI")和767.5份具有2600數(shù)均分子量的丁烯己二酸酯聚酯系多元醇(以下也稱作"BA2600")在80°C下反應3小時，得到第一組合物(預聚物)。第一組合物的NCO基含量為7.2質量％。
[0172]制備第二組合物的工藝
[0173]將300份具有2000數(shù)均分子量的己烯己二酸酯酯聚酯系多元醇(以下也稱作〃HA2000〃)和0.25份聚氨酯橡膠合成催化劑N，N, N’ -三甲基氨乙基乙醇胺(以下也稱作"ETA")在60°C下混合I小時，得到第二組合物。
[0174]制備混合物的工藝
[0175]將加熱到80°C的第一組合物與加熱到60°C的第二組合物混合，得到第一組合物和第二組合物的混合物。在該混合物中多元醇的摩爾數(shù)是混合物中多異氰酸酯摩爾數(shù)的17%。該比例在下面也被稱作〃M(0H/NC0)〃。在本實施例中，M(0H/NC0)是17%。
[0176]制備聚氨酯橡膠清潔刮板的工藝
[0177]將100份乙醇與100份ETA混合，以制備催化劑溶液。將該催化劑溶液噴射到用于制造清潔刮板的模具的內表面的一部分上。用聚氨酯橡膠刮板使該催化劑溶液遍布模具的內表面的該部分(對應于清潔刮板的接觸部的面)。
[0178]在該模具加熱到110°C后，將脫模劑涂布到該模具的內表面的未涂布催化劑溶液的部分。將模具再次加熱到110°C，并保持在該溫度下。
[0179]然后，將混合物注入該模具(模腔)。然后，將混合物在110°C (成型溫度)下固化30分鐘。將所得聚氨酯橡膠板從該模具除去。用刀具將該聚氨酯橡膠板切斷以形成邊緣，從而形成聚氨酯橡膠清潔刮板。清潔刮板具有2mm的厚度、20mm的長度和345mm的寬度。
[0180]表I和2示出了制造條件和M (0H/NC0)。
[0181]將清潔刮板進行如上所述的分析測試和物性評價。圖1A和IB及表3示出了結果。
[0182]在圖1A中，Lch5c!表不在楊氏模量(Ytl)和楊氏模量(Y5tl)之間的直線，Lch2c!表不在楊氏模量(Yci)和楊氏模量(Y2Ci)之間的直線，且L2ch5c!表不在楊氏模量(Y2tl)和楊氏模量(Y5tl)之間的直線。
[0183]評價方法
[0184]將由CANON KABUSHIKI KAISHA制造的復印機(商品名:iR_ADVC5255)用作測試機器。制備三個感光鼓:在表面上具有凹部的感光鼓，該凹部具有40 μ m的直徑和2.5 μ m的深度，并占據(jù)該感光鼓的表面的50% (以下也稱作"在表面上具有凹部的感光鼓")；在表面上具有周向條紋的感光鼓，該條紋(streak)具有30 μ m的Sm和2 μ m的凹凸高度(以下也稱作"在表面上具有周向條紋的感光鼓〃)；和具有平滑表面的感光鼓。這三個感光鼓與用于復印機中的鼓形感光構件(以下也稱作"感光鼓")具有相同的尺寸。將三個感光鼓各自安裝在復印機中。將如上所述制備的清潔刮板安裝在復印機中，使得接觸面(與模具的內表面的涂布有催化劑溶液的部分相對的面)與感光鼓接觸。清潔刮板相對于作為被清潔構件的感光鼓處于〃反〃方式。安裝條件包括:22度的安裝角、28gf/cm的接觸壓力和8mm的自由長度(free length)。在30°C /80% RH的高溫高濕環(huán)境中的耐久試驗中，檢查清潔刮板的異常噪音、震動和翹起。在該耐久試驗中，在不顯影的情況下在ΙΟΟμΑ的放電電流下打印10000份。
[0185]在將三聚氰胺樹脂顆粒(Optbeads (商品名)，具有3.5 μ m的直徑,用作調色劑的替代品)分散在感光鼓表面上之后，檢查三聚氰胺樹脂顆粒的滑過，作為在15°C /10% RH的低溫低濕環(huán)境中的清潔性能。越少量三聚氰胺樹脂顆粒的滑過表示清潔刮板對感光鼓表面上的凹凸以及三聚氰胺樹脂顆粒的追隨性越好。表4示出了結果。
[0186]下面是評價標準。
[0187]異常噪音、震動和翹起的評級
[0188]A:清潔刮板沒有異常噪音、震動和翅起。
[0189]B:在停止或開始時，有時出現(xiàn)異常噪音。
[0190]C:在停止和開始時或操作期間，出現(xiàn)異常噪音。
[0191]D:始終出現(xiàn)異常噪音，或者清潔刮板翹起。
[0192]滑過:
[0193]A:沒有三聚氰胺樹脂顆粒滑過。
[0194]B:清潔刮板的下游側的面(與感光構件相對的面)上觀察到三聚氰胺樹脂顆?；^(觀察清潔刮板)。
[0195]C:局部觀察到目視判別程度的三聚氰胺樹脂顆粒的條紋狀滑過(觀察感光鼓的表面)。
[0196]D:整體觀察到目視判別程度的三聚氰胺樹脂顆粒的滑過(觀察感光鼓的表面)。
[0197]根據(jù)實施例Al的清潔刮板具有41.8mgf/μ m2的楊氏模量(Y。)、0.18的Y5(I/YQ和0.48的Y2Q/YQ。從Lch2q和L2ch5q的斜率顯而易見Λ Υ0_20彡Δ Υ2(ι_5(ι。楊氏模量(Yn)低于Lch5q,且楊氏模量從接觸部的表面到清潔刮板的內部的變化形成向下凸出的曲線。比例isi/iseS0.50。
[0198]實施例A2
[0199]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA用100份具有下式(D)的化合物(商品名:DABC0-TMR，由Sankyo Air Products C0., Ltd.制造)代替且成型溫度從110°C改變?yōu)?0°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0200]
rCH3V


I
CH3 ——N ——C3H6 ——OH C7H15COO _


1、CH3^
[0201] 實施例A3
[0202]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA，用100份特殊胺(商品名:UCAT-18X，由San-Apro Ltd.制造)代替且成型溫度從110°C改變?yōu)?50°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0203]實施例A4
[0204]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變到360份；并且，將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA，用100份CH3COOK(商品名:Polycat46，由Air Products and Chemicals, Inc.制造)代替。表I和2不出了制造條件和Μ(0Η/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0205]實施例A5
[0206]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第一組合物的工藝中，將4，4’ -MDI的量由299份改變?yōu)?50份，將BA2600的量由767.5份改變?yōu)?60份；在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變?yōu)?70份；將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA，用100份1:1(質量比)的UCAT-18X(商品名)和DABC0-TMR(商品名)的混合物代替；并將成型溫度由110°C改變?yōu)?0°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0207]實施例A6
[0208]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變到218.5份；將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA用100份UCAT-18X(商品名)代替；并將成型溫度由110°C改變?yōu)?00°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0209]實施例KL
[0210]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變到218.5份；并且將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA，用100份UCAT-18X(商品名)代替。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果O
[0211]比較例Al
[0212]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變到500份；并將成型溫度從110°C改為140°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2B與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0213]比較例A2
[0214]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第一組合物的工藝中，將4，4’ -MDI的量由299份改變?yōu)?50份，將BA2600的量由767.5份改變?yōu)?60份；在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變?yōu)?50份；并且將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ETA用100份UCAT-18X(商品名)來代替。表I和2示出了制造條件和M(OH/NCO)。圖2B與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0215]比較例A3
[0216]除了沒有催化劑溶液被涂布到模具的內表面之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板。將清潔刮板在80°C下浸入4，4’-MDI中30分鐘。然后，用乙醇除去清潔刮板表面上的4，4’ -MDL.然后，將清潔刮板在25°C /90% RH的高濕環(huán)境中放置2天，從而使殘留在清潔刮板表面中的4，4’-MDI與水反應。將所得清潔刮板用于比較例A3中。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖2B與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0217]比較例A4
[0218]通過向100份甲基異丁基酮(MIBK)中加入0.1份(相當于100ppm)DABC0-TMR(商品名)、隨后加入200份4，4’ -MDI來制備催化劑溶液。將催化劑溶液噴射到加熱到130°C的模具的內表面。催化劑溶液在模具內表面上形成包含異氰脲酸酯和未反應MDI并具有50 μπι厚度的多異氰酸酯膜。將以與實施例Al相同的方式制備的第一組合物和第二組合物的混合物注入到模具(模腔)中。然后，將混合物在130°C (成型溫度)下固化30分鐘。將所得聚氨酯橡膠板從該模具除去。用刀具將該聚氨酯橡膠板切斷以形成邊緣，從而形成聚氨酯橡膠清潔刮板。清潔刮板具有2mm的厚度、20mm的長度和345mm的寬度。以與實施例Al中相同的方式將清潔刮板進行分析測試和物性評價。表2示出了制造條件。圖3A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0219]比較例A5
[0220]除了沒有催化劑溶液被涂布到模具的內表面之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板。將厚度為40 μπι的尼龍涂層涂布到清潔刮板的接觸部。將所得清潔刮板用于比較例Α5中。圖3Α與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0221]比較例Α6
[0222]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第一組合物的工藝中，將ΒΑ2600的量由767.5份改變?yōu)?00份；在制備第二組合物的工藝中，將ΗΑ2000的量由300份改變?yōu)?50份，將ETA的量從0.25份改變?yōu)?.28份；將用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液的100份ΕΤΑ，用100份3:2(質量比)的Polycat46 (商品名)和季銨鹽(商品名:Toyocat_TRV,由Tosoh Corp.制造)的混合物來代替；并將成型溫度由110°C改變?yōu)?00°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖3A與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0223]比較例A7
[0224]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:將用于制備催化劑溶液的ETA，用1:1(質量比)的UCAT-18X(商品名)和DABC0-TMR(商品名)的混合物來代替，不將該混合物涂布到模具的內表面，而將0.25份的該混合物與第二組合物混合；并將成型溫度由110°C改變?yōu)?0°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖3B與表3和4示出了分析測試和物性評價的結果。
[0225]比較例A8
[0226]除了以下之外，以與實施例Al中相同的方式制造清潔刮板并進行分析測試和物性評價:在制備第二組合物的工藝中，將HA2000的量由300份改變?yōu)?80份；在用于制備涂布到模具內表面的催化劑溶液中的100份ETA，用100份1:1 (質量比)的Polycat46 (商品名)和Toyocat-TRV(商品名)的混合物來代替；并將成型溫度由110°C改變?yōu)?00°C。表I和2示出了制造條件和M(0H/NC0)。圖3B與表3示出了分析測試和物性評價的結果。
[0227]表I
[0228]
(i)第一組合物(ii)第二組合物在(i)和(ii)的混


合物中的清'潔刮板聚氨酯橡膠合成
多異氰酸酯多元醇多元醇M(OHZNCO)


催化劑「 ιη/?
實施例 Al 4,4’-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 300份 ETA 0.25 份17
實施例A2 4,4'-MDl 299份 BA2600 767.5份 ΗΑ2--Ο 300份 ETA 0.25份17
實施例A3 4,4'-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 300份 ETA 0.25份17
實施例A4 4,4'-MDl 299份 BA2600 767.5份 HA2000 360份 ETA 0.25份？0
實施例 A5 4,4'-MDI 350份 BA2600 860份 HA2000 170份 ETA 0.25 份8
實施例A6 4,4'-MDl 299份 BA2600 767.5份 ΗΑ2?(Κ) 218.5份 ETA 0.25份12
實施例Α7 4,4'-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 218.5份 ETA 0.25份12
比較例Al 4,4’-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 500份 ETA 0.25份28
比較例 A2 4,4'-MDI 350份 BA2600 860份 HA2000 150份 ETA 0.25 份7
比較例A3 4,4’-MDl 299份 BA2600 767.5份 HA2000 300份 ETA 0.25份17
比較例 A4 ---------
比較例A5 4,4'-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 300份 ETA 0.25份17
比較例 A6 4,4'-MDI 299 份 BA2600 800份 HA2000 450份 ETA 0.28 份25
比較例A7 4,4'-MDI 299份 BA2600 767.5份 HA2000 300份 ETA 0.25份17
比較例A8 4,4'-MDI 299份 BA260Q 767.5份 HA2000 380份 ETA 0.25份21
[0229]表2
[0230]

【權利要求】
1.一種聚氨酯橡膠清潔刮板，其配置為與被清潔構件接觸并清潔所述被清潔構件的表面，其中 所述清潔刮板的與所述被清潔構件接觸的接觸部的表面C具有1mgf/μπι2以上且400mgf/μ m2以下的楊氏模量Y。； 所述清潔刮板的距所述表面C為50 μ m的內部位置的楊氏模量Y5tl與所述楊氏模量Ytl的比例Y5Q/YQ為0.5以下，和 所述清潔刮板的從所述表面C到距所述表面C為20 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率[{(Y0-Y20) /Y。} / (20-0)]，大于或等于所述清潔刮板的從距所述表面C為20 μ m的內部位置到所述清潔刮板的距所述表面C為50 μ m的內部位置的楊氏模量的平均變化率[{(Y20-Y50) /YcJ / (50-20)]，其中Ytl表示所述表面C的楊氏模量，且Y2tl和Y5tl分別表示所述清潔刮板的距所述表面C為20和50 μ m的內部位置的楊氏模量。
2.根據(jù)權利要求1所述的清潔刮板，其中所述楊氏模量1是lOmgf/μπι2以上且250mgf/ μ m2 以下。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔刮板，其中所述聚氨酯橡膠具有異氰脲酸酯基。
4.根據(jù)權利要求1所述的清潔刮板，其中所述楊氏模量1是lOmgf/μπι2以上且250mgf/μ m2以下，且所述聚氨酯橡膠具有異氰脲酸酯基。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔刮板，其中所述聚氨酯橡膠是具有異氰脲酸酯基的聚酯系聚氨酯橡膠，和 在采用μ ATR法測量的所述聚酯系聚氨酯橡膠的接觸部的表面的IR光譜中，所述聚酯系聚氨酯橡膠的異氰脲酸酯基的C-N峰(Hllcm—1)強度Isi與所述聚酯系聚氨酯橡膠的酯基的C = O峰(17260^1)強度Ise的比例ISI/ISE，為0.50以上且1.55以下。
6.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔刮板，其中在由表示距所述表面C的距離(表面C被視為距離O μ m)的橫軸和表示楊氏模量的縱軸限定的平面上，在所述表面C與所述清潔刮板的距所述表面C為50 μ m的內部位置之間的位置處(距所述表面C為Ν[ μ m]的位置處)的楊氏模量Υν(0〈Ν〈50[ μ m]),低于所述楊氏模量Ytl和所述楊氏模量Y50之間的直線。
7.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔刮板，其中所述楊氏模量Y2tl與所述楊氏模量Ytl的比例Y2Q/YQ為0.5以下。
8.根據(jù)權利要求1或2所述的清潔刮板，其中所述表面C具有I度以上的平均傾斜角Θ a,并且所述表面C具有10 μ m以下的10點平均粗糙度。
9.一種處理盒，其可拆卸地安裝到電子照相設備的主體，所述處理盒配置為一體化地支承根據(jù)權利要求1至8任一項所述的清潔刮板和作為要用所述清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件。
10.根據(jù)權利要求9所述的處理盒，其中，沿相對于圖像形成時的所述電子照相感光構件的旋轉方向的“順”方向配置所述清潔刮板，并且使所述清潔刮板與所述電子照相感光構件接觸，從而形成接觸部；和 所述清潔刮板的表面U的楊氏模量Yutl是1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下,所述表面U是相對于所述接觸部面向所述電子照相感光構件的旋轉方向的上游表面的表面。
11.根據(jù)權利要求10所述的處理盒，其中在接觸面A和所述表面U之間的角度是40度以上且小于90度，所述接觸面A是在所述接觸部內的所述旋轉方向的中央處與所述電子照相感光構件的表面接觸的平面。
12.一種電子照相設備，其包括:根據(jù)權利要求1至8任一項所述的清潔刮板；和作為要用所述清潔刮板清潔的構件的電子照相感光構件。
13.根據(jù)權利要求12所述的電子照相設備，其中，沿相對于圖像形成時的所述電子照相感光構件的旋轉方向的“順”方向配置所述清潔刮板，并使所述清潔刮板與所述電子照相感光構件接觸，從而形成接觸部；和 所述清潔刮板的表面U的楊氏模量Yutl是1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下,所述表面U是相對于所述接觸部面向所述電子照相感光構件的旋轉方向的上游表面的表面。
14.根據(jù)權利要求13所述的電子照相設備，其中在接觸面A和所述表面U之間的角度是40度以上且小于90度，所述接觸面A是在所述接觸部內的所述旋轉方向的中央處與所述電子照相感光構件的表面接觸的平面。
15.一種電子照相設備，其包括:根據(jù)權利要求1至8任一項所述的清潔刮板；和作為要用所述清潔刮板清潔的構件的中間轉印構件。
16.根據(jù)權利要求15所述的電子照相設備，其中，沿相對于圖像形成時的所述中間轉印構件的旋轉方向的“順”方向配置所述清潔刮板，并使所述清潔刮板與所述中間轉印構件接觸，從而形成接觸部；和 所述清潔刮板的表面U的楊氏模量Yutl是1mgf/ μ m2以上且400mgf/ μ m2以下,所述表面U是相對于所述接觸部面向所述中間轉印構件的旋轉方向的上游表面的表面。
17.根據(jù)權利要求16所述的電子照相設備，其中在接觸面A和所述表面U之間的角度是40度以上且小于90度，所述接觸面A是在所述接觸部內的所述旋轉方向的中央處與所述中間轉印構件的表面接觸的平面。
18.一種根據(jù)權利要求1至8任一項所述的清潔刮板的制造方法，其中所述聚氨酯橡膠是具有異氰脲酸酯基的聚酯系聚氨酯橡膠， 所述方法包括: (a)將多異氰酸酯、脂族聚酯系多元醇和聚氨酯形成催化劑混合來制備混合物，所述脂族聚酯系多元醇的摩爾數(shù)是所述多異氰酸酯的摩爾數(shù)的30%以上且40%以下， (b)向模具的內表面涂布異氰脲酸酯化催化劑，和 (C)將(a)中制備的混合物裝入(b)中涂布有所述異氰脲酸酯化催化劑的所述模具中，并加熱所述模具。
19.根據(jù)權利要求18所述的清潔刮板的制造方法，其中在(c)中所述模具的加熱溫度是80°C以上且150°C以下。
20.根據(jù)權利要求18或19所述的清潔刮板的制造方法，其中所述異氰脲酸酯化催化劑是N, N, N’ - 二甲基氨乙基乙醇胺。
【文檔編號】G03G15/00GK104133360SQ201410181122
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年4月30日 優(yōu)先權日:2013年4月30日
【發(fā)明者】辛島賢司, 河田將也, 田上智博, 渡部政弘, 伊藤真吾 申請人:佳能株式會社