彩膜基板及其制作方法、顯示裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)了一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置，涉及顯示領(lǐng)域，能夠減弱反射光，提高液晶顯示裝置的戶外可視性。本發(fā)明所述彩膜基板，包括：基板、設(shè)置在所述基板上的黑矩陣和透明導(dǎo)電層，所述彩膜基板滿足下述中的至少一項(xiàng)：所述透明導(dǎo)電層的上方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5～2.0，厚度為600～1000埃；或者，所述透明導(dǎo)電層的下方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5～2.0，厚度為600～1000埃；或者，所述黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置有介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的折射率為1.5～2.0，厚度為600～1000埃。
【專(zhuān)利說(shuō)明】彩膜基板及其制作方法、顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器(簡(jiǎn)稱(chēng)LCD)具有體積小，功耗低、無(wú)輻射等特點(diǎn)，在顯示領(lǐng)域占據(jù)了主導(dǎo)地位，然而在戶外或具有強(qiáng)烈外界光的環(huán)境下，傳統(tǒng)透射式液晶顯示屏幕不具有可視性，無(wú)法滿足正常使用。目前解決屏幕的戶外可視性問(wèn)題有三種方式，一是增加屏幕亮度，二是減少反射，三是采用半透半反技術(shù)(或者透射反射可切換模式)。增加屏幕亮度使耗電量大大增加，會(huì)縮短電池使用壽命或者增加能耗；防反射技術(shù)，如增加防反射膜或者采用1/4波片等；半透半反技術(shù)在戶外或具有強(qiáng)烈外界光的環(huán)境下，采用反射顯示模式，利用太陽(yáng)光反射進(jìn)行顯示，可以有效降低功耗；在室內(nèi)或弱光環(huán)境下，采用透射顯示模式，利用背光源進(jìn)行顯示。
[0003]如圖1所示，為一種現(xiàn)有液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。該液晶顯示器由陣列基板10和彩膜基板20相對(duì)盒中間灌注液晶30，再貼附偏光片40形成。其中，彩膜基板20的基板21在正面(相對(duì)盒的一面)設(shè)置有黑矩陣22，基板21的背面(遠(yuǎn)離對(duì)盒面的另一側(cè)面)設(shè)置有防靜電的透明導(dǎo)電層23，在戶外時(shí)，有較強(qiáng)的環(huán)境光如太陽(yáng)光，黑矩陣12和透明導(dǎo)電層23處產(chǎn)生的反射光進(jìn)入人眼，會(huì)影響顯示裝置的戶外可視性。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及其制作方法、顯示裝置，能夠減弱反射光，提高液晶顯示裝置的戶外可視性。
[0005]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板，包括:基板、設(shè)置在所述基板上的黑矩陣和透明導(dǎo)電層，所述彩膜基板滿足下述中的至少一項(xiàng):
[0007]所述透明導(dǎo)電層的上方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?
2.0，厚度為600?1000埃；或者，
[0008]所述透明導(dǎo)電層的下方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?
2.0，厚度為600?1000埃；或者，
[0009]所述黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置有介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的折射率為
1.5?2.0，厚度為600?1000埃。
[0010]可選地，所述透明介質(zhì)層的厚度、折射率的取值，以及所述介質(zhì)層的厚度、折射率的取值均經(jīng)過(guò)優(yōu)化，使得遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面一側(cè)的入射光的反射率最小。
[0011]優(yōu)選地，所述透明介質(zhì)層和/或介質(zhì)層為:氮化硅層。
[0012]優(yōu)選地，所述透明導(dǎo)電層的材質(zhì)為氧化銦錫，厚度為400埃；所述透明介質(zhì)層的材質(zhì)為氮化娃，厚度為800埃。
[0013]優(yōu)選地,所述介質(zhì)層的材質(zhì)為氮化娃,厚度為800埃。[0014]優(yōu)選地，所述介質(zhì)層形成有與所述黑矩陣相同的圖案。
[0015]可選地，所述透明導(dǎo)電層設(shè)置在所述基板遠(yuǎn)離對(duì)盒面的一側(cè)，所述黑矩陣設(shè)置在所述基板靠近對(duì)盒面的一側(cè)。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括:任意一項(xiàng)所述的彩膜基板。
[0017]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種彩膜基板的制作方法，包括:
[0018]在基板上依次形成第一透明介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和第二透明介質(zhì)層；
[0019]在所述基板不存在膜層的另一側(cè)形成介質(zhì)層，然后在所述介質(zhì)層上形成黑矩陣；
[0020]進(jìn)行刻蝕，在所述介質(zhì)層形成與所述黑矩陣相同的圖案。
[0021]可選地，所述第一透明介質(zhì)層、所述第二透明介質(zhì)層均為氮化硅層，且厚度均為800埃；所述介質(zhì)層為氮化娃層,厚度為800埃。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板及其制作方法、顯示裝置，在彩膜基板的透明導(dǎo)電層的上方和/或下方設(shè)置透明介質(zhì)層，或者在黑矩陣靠近彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層和所述介質(zhì)層的折射率為1.5?2.0，所述透明介質(zhì)層和所述介質(zhì)層的厚度為600?1000埃，可以使得遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面一側(cè)的入射光(即從觀看面入射的光)在透明介質(zhì)層和黑矩陣處的反射率減小，反射光減弱，從而可提高顯示裝置的戶外可視性。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0023]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。
[0024]圖1為現(xiàn)有液晶顯不器的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0025]圖2為設(shè)置有本發(fā)明實(shí)施例一彩膜基板的液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3為在透明導(dǎo)電層上、下均設(shè)置/未設(shè)置透明介質(zhì)層時(shí)彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率對(duì)比示意圖；
[0027]圖4為黑矩陣處設(shè)置/未設(shè)置介質(zhì)層時(shí)彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率對(duì)比示意圖；
[0028]圖5為與分別與圖4中曲線對(duì)應(yīng)的光反射模擬示意圖；
[0029]圖6為本發(fā)明實(shí)施例二提供的彩膜基板制備方法流程圖；
[0030]圖7為本發(fā)明實(shí)施例二在基板形成第一透明介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和第二透明介質(zhì)層的不意圖；
[0031]圖8為本發(fā)明實(shí)施例二在基板背面形成介質(zhì)層和黑矩陣的示意圖。
[0032]附圖標(biāo)記
[0033]10-陣列基板，20-彩膜基板，30-液晶，40-偏光片，21-基板,22-黑矩陣,23-透明導(dǎo)電層，24-透明介質(zhì)層，25-介質(zhì)層，24a-第一透明介質(zhì)層，24b_第二透明介質(zhì)層。
【具體實(shí)施方式】
[0034]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0035]實(shí)施例一
[0036]本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板，所述彩膜基板滿足以下方案中的至少一項(xiàng):
[0037]所述透明導(dǎo)電層的上方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?
2.0，厚度為600?1000埃；或者，
[0038]所述透明導(dǎo)電層的下方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?
2.0，厚度為600?1000埃；或者，
[0039]所述黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置有介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃。
[0040]本實(shí)施例所述彩膜基板只需在透明導(dǎo)電層的上方、透明導(dǎo)電層的下方、黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)這三處位置中的至少一處設(shè)置介質(zhì)層，其中，當(dāng)選擇透明導(dǎo)電層的上方或下方設(shè)置介質(zhì)層時(shí)，要求介質(zhì)層是透明的；當(dāng)選擇在黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置介質(zhì)層時(shí)，介質(zhì)層是否透明不做限定。
[0041]本實(shí)施例的一種【具體實(shí)施方式】如圖2所示，彩膜基板20包括:基板21、設(shè)置在基板21上的黑矩陣22和透明導(dǎo)電層23，透明導(dǎo)電層23的上方和下方設(shè)置有透明介質(zhì)層24 ；黑矩陣22遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)(即圖2中黑矩陣22的上方)，設(shè)置有介質(zhì)層25 ;透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃。
[0042]如果顯示裝置工作在戶外時(shí)，有較強(qiáng)的環(huán)境光如太陽(yáng)光，在彩膜基板的透明導(dǎo)電層23 (用于防靜電)、黑矩陣22處的反射光進(jìn)入人眼，會(huì)影響顯示裝置的戶外可視性。為降低該些反射光，本實(shí)施例在透明導(dǎo)電層23的上方和/或下方設(shè)置透明介質(zhì)層24(或者在黑矩陣22的上方設(shè)置介質(zhì)層25)，然后通過(guò)實(shí)驗(yàn)或模擬軟件對(duì)透明介質(zhì)層24(或介質(zhì)層25的厚度、折射率)的取值進(jìn)行優(yōu)化，使得觀看一側(cè)的入射光的反射率減小，即使反射后進(jìn)入人眼的反射光盡量降低，從而提高顯示裝置的可視性。其中，介質(zhì)層25只分布在黑矩陣22的遮擋位置，因此本實(shí)施例對(duì)介質(zhì)層25是否透明不做限定。
[0043]透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的材料首先要滿足折射率要大于基板折射率小于被修飾材料折射率。其中，因基板一般為玻璃材質(zhì)，折射率取值一般為1.5 ;透明導(dǎo)電層23的材質(zhì)一般為氧化銦錫，折射率為2.0，黑矩陣折射率一般為2.0?2.2，因此透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的一般在1.5?2.0范圍內(nèi)。
[0044]透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃時(shí)，可以使得觀看一側(cè)的入射光在透明介質(zhì)層和黑矩陣處的反射率減小，從而提高顯示裝置的戶外可視性。
[0045]對(duì)透明介質(zhì)層24 (或介質(zhì)層25)的厚度、折射率的取值進(jìn)行優(yōu)化時(shí)，一般先選擇常見(jiàn)的符合成膜工藝的透明材料進(jìn)行逐一嘗試，具體而言，針對(duì)選定的某一透明材料，在折射率確定的情況下，利用光學(xué)設(shè)計(jì)軟件進(jìn)行模擬，對(duì)該透明材料的厚度進(jìn)行優(yōu)化。例如選擇氮化硅作為透明介質(zhì)層24(或介質(zhì)層25)，其折射率取值為1.7 ;基板折射率為1.5 ;透明導(dǎo)電層23為氧化銦錫，折射率為2.0,厚度為400埃；黑矩陣折射率2.0,厚度為1.lum。通過(guò)光學(xué)設(shè)計(jì)軟件(例如LightTool軟件)進(jìn)行模擬實(shí)驗(yàn)，首先建立彩膜基板的3D仿真模型，然后計(jì)算氮化硅層在不同厚度下彩膜基板的反射率，最后根據(jù)計(jì)算結(jié)果選擇最小反射率對(duì)應(yīng)的氮化硅層的厚度作為優(yōu)化結(jié)果。模擬試驗(yàn)的結(jié)果表明:透明介質(zhì)層24 (或介質(zhì)層25)的材質(zhì)選擇氮化娃時(shí)，厚度優(yōu)選為800埃。
[0046]參照?qǐng)D2所示，一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，玻璃基板的正面(相對(duì)盒的一面)設(shè)置氧化銦錫形成的透明導(dǎo)電層23，厚度為400埃，在透明導(dǎo)電層23的上方和下方均設(shè)置氮化硅膜層作為透明介質(zhì)層24，氮化硅膜層的厚度為800埃；玻璃基板的背面設(shè)置有黑矩陣22，黑矩陣22的上方(黑矩陣22靠近玻璃的一側(cè))設(shè)置有800埃厚的氮化硅膜層作為介質(zhì)層。對(duì)該彩膜基板在可見(jiàn)光范圍進(jìn)行反射率測(cè)試，其結(jié)果如圖3和圖4所示。
[0047]如圖3所示，A曲線為透明導(dǎo)電層23上方或下方均沒(méi)有設(shè)置透明介質(zhì)層時(shí)彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率，其平均反射率為2.28% ;A’曲線為透明導(dǎo)電層上方和下方分別設(shè)置800埃的氮化硅層作為透明介質(zhì)層時(shí)，彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率，其平均反射率降至0.3%以下。
[0048]如圖4所示，B曲線為黑矩陣處沒(méi)有設(shè)置介質(zhì)層時(shí)彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率；B’曲線為黑矩陣上方設(shè)置800埃的氮化硅層作為介質(zhì)層時(shí)，彩膜基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率；C曲線為玻璃基板在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率；D曲線為玻璃基板上只設(shè)置800埃的氮化硅層時(shí)在可見(jiàn)光區(qū)域的反射率。圖5所示為與圖4中四個(gè)測(cè)試曲線分別對(duì)應(yīng)的光反射模擬示意圖。不設(shè)置介質(zhì)層時(shí)，在黑矩陣處的(即B曲線)平均反射率在2.75%以上；如果設(shè)置800埃的氮化硅層作為介質(zhì)層時(shí)，在黑矩陣和氮化硅層處的反射率曲線B’大致位于曲線C和曲線D之間，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)平均反射率約在0.5%?0.3%之間。
[0049]本發(fā)明實(shí)施例對(duì)透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的材質(zhì)(主要是折射率)、厚度不做限定，可以是本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的任意透明材料，具體實(shí)施時(shí)根據(jù)上述的方式進(jìn)行優(yōu)化。
[0050]優(yōu)選地，透明介質(zhì)層24的厚度、折射率的取值，以及介質(zhì)層25的厚度、折射率的取值均經(jīng)過(guò)優(yōu)化，使得觀看一側(cè)的入射光的反射率最小。
[0051]當(dāng)然，本實(shí)施例也可以先設(shè)定透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的厚度，然后根據(jù)最小(或相對(duì)較小)反射率的原則對(duì)透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25的折射率進(jìn)行優(yōu)化；還也可以同時(shí)對(duì)厚度和折射率進(jìn)行優(yōu)化。本實(shí)施例可以先對(duì)透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25中的一層進(jìn)行優(yōu)化；也可以同時(shí)對(duì)透明介質(zhì)層24和介質(zhì)層25進(jìn)行優(yōu)化。
[0052]優(yōu)選地，上述介質(zhì)層25形成有與黑矩陣22相同的圖案，這樣做的效果是，介質(zhì)層25的存在不會(huì)影響光在此處的透過(guò)率。
[0053]可選地，透明導(dǎo)電層24設(shè)置在基板21遠(yuǎn)離對(duì)盒面的一側(cè)，黑矩陣25設(shè)置在基板21靠近對(duì)盒面的一側(cè)。
[0054]本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板，在彩膜基板的透明導(dǎo)電層的上方和/或下方設(shè)置透明介質(zhì)層，或者在黑矩陣靠近彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層(或所述介質(zhì)層)的折射率、厚度均通過(guò)優(yōu)化，可以使得觀看一側(cè)的入射光在透明介質(zhì)層和黑矩陣處的反射率大大減小，從而減弱反射光，提高顯示裝置的戶外可視性。
[0055]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置，其包括上述任意一種彩膜基板。所述顯示裝置因采用本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板，戶外可視性好，顯示品質(zhì)更高。所述顯示裝置可以為:液晶面板、電子紙、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。[0056]實(shí)施例二
[0057]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種彩膜基板的制作方法，如圖6所示，該方法包括:
[0058]101、在基板上依次形成第一透明介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和第二透明介質(zhì)層；
[0059]如圖7所示，本實(shí)施例在基板21(如玻璃基板)上依次形成第一透明介質(zhì)層24a、透明導(dǎo)電層23和第二透明介質(zhì)層24b，透明介質(zhì)層24的厚度、折射率的取值均預(yù)先經(jīng)過(guò)模擬實(shí)驗(yàn)進(jìn)行優(yōu)化。例如一種具體優(yōu)化結(jié)果如下:第一透明介質(zhì)層24a、第二透明介質(zhì)層24b均為氮化硅層，即上述三層膜結(jié)構(gòu)可以是SiNx/IT0/SiNx，對(duì)應(yīng)的厚度可以分別為800埃，400埃，800埃。
[0060]本實(shí)施例對(duì)各膜層的材質(zhì)以及具體成膜方式不做限定，可以是本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的任意透明材料和成膜方式，具體實(shí)施時(shí)根據(jù)上述已詳細(xì)描述過(guò)的方式對(duì)第一、第二透明介質(zhì)層的厚度和折射率進(jìn)行優(yōu)化。
[0061]102、在基板21不存在膜層的另一側(cè)形成介質(zhì)層25，然后在介質(zhì)層25上形成黑矩陣22，如圖8所示。
[0062]本步驟取玻璃基板的另一側(cè)形成介質(zhì)層25和黑矩陣22。一種【具體實(shí)施方式】中，介質(zhì)層25也為氮化硅層，厚度為800埃，具體如下:首先在基板的另一側(cè)上沉積厚度為800埃的SiNx，然后在其基礎(chǔ)上形成厚度為1.1±0.5um的黑矩陣層，然后進(jìn)行刻蝕，形成寬度為8±1.0um,間隔為30 ± 1.5um的黑矩陣結(jié)構(gòu)。
[0063]103、進(jìn)行刻蝕，在介質(zhì)層25形成與黑矩陣22相同的圖案。
[0064]本步驟在對(duì)介質(zhì)層25 (如SiNx膜層)進(jìn)行圖案刻蝕，圖案與黑矩陣22 —致。然后繼續(xù)后續(xù)流程完成彩膜基板制程，包括:將紅、綠、藍(lán)色阻分別涂覆到BM之間的空隙中并對(duì)紅綠藍(lán)色阻進(jìn)行刻蝕，形成彩色濾光層，其中紅綠藍(lán)色阻的高度為2.2±0.5um。
[0065]本實(shí)施例提供一種彩膜基板制備方法，在彩膜基板的透明導(dǎo)電層的上方和/或下方設(shè)置透明介質(zhì)層，同時(shí)在黑矩陣靠近彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置介質(zhì)層；因設(shè)計(jì)時(shí)已預(yù)先針對(duì)透明介質(zhì)層和介質(zhì)層的厚度、折射率以及所述介質(zhì)層的厚度、折射率進(jìn)行了優(yōu)化，使得觀看一側(cè)的入射光在透明介質(zhì)層和黑矩陣處的反射率減小，從而減弱反射光，提高液晶顯示面板的戶外可視性。
[0066]如果要制成顯示裝置，則需繼續(xù)執(zhí)行以下流程:
[0067]陣列基板制程；與現(xiàn)有技術(shù)陣列基板相同。
[0068]液晶盒前段:在制備好的陣列基板，彩膜基板上分別涂聚酰亞胺膜，在70°C下烘烤80s，以除去液晶取向劑聚酰亞胺中的水分和溶劑；然后將預(yù)固化的聚酰亞胺膜加熱至230°C，維持20min ;最后對(duì)固化好的基板進(jìn)行取向。
[0069]液晶成盒:在陣列基板上滴液晶，彩膜基板上涂密封膠(或者在彩膜基板上滴液晶，陣列基板上涂密封膠)之后對(duì)盒。將陣列基板和彩膜基板對(duì)盒后，整平封口，并進(jìn)行清洗。
[0070]為了便于清楚說(shuō)明，在本發(fā)明中采用了第一、第二等字樣對(duì)相似項(xiàng)進(jìn)行類(lèi)別區(qū)分，該第一、第二字樣并不在數(shù)量上對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限制，只是對(duì)一種優(yōu)選的方式的舉例說(shuō)明，本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容，想到的顯而易見(jiàn)的相似變形或相關(guān)擴(kuò)展均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0071]本說(shuō)明書(shū)中的各個(gè)實(shí)施例均采用遞進(jìn)的方式描述，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似的部分互相參見(jiàn)即可，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處。尤其，對(duì)于制備方法實(shí)施例而言，由于其涉及設(shè)備實(shí)施例，所以描述得比較簡(jiǎn)單，相關(guān)之處參見(jiàn)設(shè)備實(shí)施例的部分說(shuō)明即可。
[0072]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種彩膜基板，包括:基板、設(shè)置在所述基板上的黑矩陣和透明導(dǎo)電層，其特征在于，所述彩膜基板滿足下述中的至少一項(xiàng): 所述透明導(dǎo)電層的上方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃；或者， 所述透明導(dǎo)電層的下方設(shè)置有透明介質(zhì)層，所述透明介質(zhì)層的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃；或者， 所述黑矩陣遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面的一側(cè)設(shè)置有介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的折射率為1.5?2.0，厚度為600?1000埃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于， 所述透明介質(zhì)層的厚度、折射率的取值，或者所述介質(zhì)層的厚度、折射率的取值均經(jīng)過(guò)優(yōu)化，使得遠(yuǎn)離彩膜基板對(duì)盒面一側(cè)的入射光的反射率最小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透明介質(zhì)層和/或所述介質(zhì)層為:氮化娃層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于， 所述透明導(dǎo)電層的材質(zhì)為氧化銦錫，厚度為400埃； 所述透明介質(zhì)層的材質(zhì)為氮化娃，厚度為800埃。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的彩膜基板，其特征在于， 所述介質(zhì)層的材質(zhì)為氮化娃，厚度為800埃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述介質(zhì)層形成有與所述黑矩陣相同的圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于， 所述透明導(dǎo)電層設(shè)置在所述基板遠(yuǎn)離對(duì)盒面的一側(cè)，所述黑矩陣設(shè)置在所述基板靠近對(duì)盒面的一側(cè)。
8.—種顯示裝置，其特征在于，包括:權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的彩膜基板。
9.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括: 在基板上依次形成第一透明介質(zhì)層、透明導(dǎo)電層和第二透明介質(zhì)層； 在所述基板不存在膜層的另一側(cè)形成介質(zhì)層，然后在所述介質(zhì)層上形成黑矩陣； 進(jìn)行刻蝕，在所述介質(zhì)層形成與所述黑矩陣相同的圖案。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制作方法，其特征在于， 所述第一透明介質(zhì)層、所述第二透明介質(zhì)層均為氮化硅層，且厚度均為800埃； 所述介質(zhì)層為氮化硅層，厚度為800埃。
【文檔編號(hào)】G02F1/1335GK103926743SQ201410112809
【公開(kāi)日】2014年7月16日 申請(qǐng)日期:2014年3月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月24日
【發(fā)明者】谷新, 鈴木照晃, 秦廣奎, 金起滿, 鹿島美紀(jì), 楊亞鋒 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司