基板顯影處理裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供基板顯影處理裝置包括：一基座；滾輪組，安裝于基座上，所述滾輪組由復(fù)數(shù)個(gè)互相平行并且沿水平方向一字排列的滾輪組成；滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置，所述滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述滾輪組的滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)；擋塊，位于滾輪組兩端的擋塊,所述擋塊下方設(shè)置有擋塊升降機(jī)構(gòu)；基板位置傳感器?；逶陲@影過(guò)程中被放置于滾輪組上，通過(guò)滾輪驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)滾輪不停正轉(zhuǎn)反轉(zhuǎn)使位于滾輪組上的基板沿水平方向晃動(dòng)，通過(guò)晃動(dòng)可以使基板表面的顯影液的分布更加均勻。
【專(zhuān)利說(shuō)明】基板顯影處理裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體制造設(shè)備，尤指一種基板顯影處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在用作OLED的玻璃基板上形成預(yù)定圖形的抗腐蝕膜時(shí)，需要對(duì)在玻璃基板表面上形成的抗腐蝕膜進(jìn)行預(yù)定圖形的曝光顯影，通過(guò)顯影只留下預(yù)定圖形的抗腐蝕膜。
[0003]在進(jìn)行上述顯影處理時(shí)，首先在曝光后的抗腐蝕膜表面上噴淋顯影液，在基板上形成顯影液層，在預(yù)定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行顯影反應(yīng)，反應(yīng)結(jié)束之后回收顯影液，漂洗并干燥基板。但是在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中經(jīng)常會(huì)碰到由于顯影液回流或沒(méi)有完全覆蓋，導(dǎo)致玻璃基板表面顯影液液盛不良，往往只能通過(guò)人工加檢才能發(fā)現(xiàn)，如未及時(shí)發(fā)現(xiàn)最終導(dǎo)致產(chǎn)品異常(金屬殘留)，導(dǎo)致返工甚至報(bào)廢，并且現(xiàn)在沒(méi)有成熟的技術(shù)可以在顯影過(guò)程中實(shí)時(shí)檢測(cè)顯影液在基板表面的分布情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的局限，而提供一種基板顯影處理裝置，其能夠解決基顯影過(guò)程中基板上顯影液分布不均的問(wèn)題。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的主要技術(shù)手段在于:提供一種基板顯影處理裝置，其包括:基座；滾輪組，安裝于所述基座上，所述滾輪組包括互相平行并且沿水平方向一字排列的復(fù)數(shù)個(gè)滾輪；與所述滾輪組連接、用于驅(qū)動(dòng)所述滾輪組中的滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)的滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置；擋塊，位于滾輪組兩端；設(shè)置于基座上、用于感應(yīng)基板位置以供所述滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置據(jù)此控制所述滾輪組轉(zhuǎn)動(dòng)方式的基板位置傳感器。基板在顯影過(guò)程中被放置于滾輪組上，通過(guò)滾輪驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)滾輪不停正轉(zhuǎn)反轉(zhuǎn)使位于滾輪組上的基板沿水平方向晃動(dòng)，通過(guò)晃動(dòng)可以使基板表面的顯影液的分布更加均勻。
[0006]本實(shí)用新型的進(jìn)一步改`進(jìn)在于:所述擋塊下方設(shè)置有擋塊升降機(jī)構(gòu)。
[0007]本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述滾輪組中的滾輪包括復(fù)數(shù)個(gè)傳動(dòng)滾輪，所述傳動(dòng)滾輪的一側(cè)設(shè)置有端部齒輪，所述傳動(dòng)滾輪和所述滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置通過(guò)齒輪傳動(dòng)連接，所述滾輪組中的傳動(dòng)滾輪的滾輪直徑相同，在運(yùn)動(dòng)時(shí)所述滾輪組中的傳動(dòng)滾輪沿相同方向、相同轉(zhuǎn)速繞其軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0008]本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述滾輪組中的滾輪還包括復(fù)數(shù)個(gè)自由滾輪，所述自由滾輪間隔地排列在滾輪之間。這樣改進(jìn)的有益效果在于:自由滾輪的設(shè)置可以減少滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置需要驅(qū)動(dòng)的滾輪豎梁，并且自由滾輪可以為基板提供有效的支撐。
[0009]本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)在于:所述滾輪組中的滾輪的直徑與自由滾輪的直徑相同。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型基板顯影處理裝置的俯視圖；[0011]圖2為本實(shí)用新型基板顯影處理裝置的一側(cè)的視圖
[0012]圖3為基板上顯影液分布不均時(shí)的示意圖。
[0013]圖4為本實(shí)用新型基板顯影處理裝置搭載基板的過(guò)程的示意圖；
[0014]圖5為本實(shí)用新型基板顯影處理裝置對(duì)其搭載的基板進(jìn)行處理時(shí)的示意圖；
[0015]圖6為本實(shí)用新型基板顯影處理裝置對(duì)其搭載的基板處理完成的基板運(yùn)至下一工序的不意圖；
[0016]圖7為理想狀況下本實(shí)用新型基板顯影處理裝置處理之后基板表面顯影液分布的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例做詳細(xì)介紹。
[0018]參考圖1，本實(shí)用新型的基板顯影處理裝置主要包括一基座10，在基座10上安裝有滾輪組20，安裝于滾輪組20兩端的可升降的擋塊40以及擋塊40下方的擋塊升降機(jī)構(gòu)41，在滾輪組20兩端還設(shè)置有基板位置傳感器24。
[0019]如圖2所示，滾輪組20由復(fù)數(shù)個(gè)互相平行并且沿水平方向一字排列的傳動(dòng)滾輪21組成，所有傳動(dòng)滾輪21的半徑相同且軸線(xiàn)共面。在基座10上還安裝有滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30，在本實(shí)施例中滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30通過(guò)復(fù)數(shù)個(gè)同軸的錐形齒輪31與端部齒輪22嚙合，當(dāng)滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30的電機(jī)32驅(qū)動(dòng)錐形齒輪31轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，滾輪組20的端部齒輪22隨之轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)傳動(dòng)滾輪21轉(zhuǎn)動(dòng)。特別的，當(dāng)控制電機(jī)32以不同的轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)向轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，滾輪組20的傳動(dòng)滾輪21也會(huì)以相應(yīng)的轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)向轉(zhuǎn)動(dòng)。在本實(shí)施例中所有的端部齒輪22和與其對(duì)應(yīng)的錐形齒輪31的變比相同，這樣可以保證所有的傳動(dòng)滾輪21的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)相同。滾輪組20還包含復(fù)數(shù)個(gè)自由滾輪23，自由滾輪23的軸線(xiàn)和傳動(dòng)滾輪21的軸線(xiàn)平行，并且自由滾輪23和傳動(dòng)滾輪21的直徑相同。自由滾輪23間隔的布設(shè)在傳動(dòng)滾輪21之間，其與傳動(dòng)滾輪21的主要區(qū)別在于自由滾輪23不與滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30相連接。自由滾輪23可以在基座10上沿其軸線(xiàn)自由轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0020]如圖4所示，滾輪組20兩端設(shè)置有可升降的擋塊40，擋塊40通過(guò)其下方的擋塊升降機(jī)構(gòu)41實(shí)現(xiàn)升降，基板50裝入基板顯影處理裝置的過(guò)程中擋塊40降低到基板的水平位置以下，當(dāng)基板顯影處理裝置處理基板50時(shí)擋塊40升起，防止基板50自滾輪組20滑落或者超出運(yùn)動(dòng)范圍。當(dāng)基板顯影處理裝置搭載基板50時(shí)，基板50的下表面和滾輪組20接觸，其中傳動(dòng)滾輪21主要負(fù)責(zé)驅(qū)動(dòng)基板50運(yùn)動(dòng)，而自由滾輪23主要負(fù)責(zé)支撐并滾動(dòng)傳送基板50。
[0021]如圖3所示，基板50的顯影過(guò)程，首先要在基板50上噴淋一層顯影液，但是由于種種原因會(huì)出現(xiàn)顯影液分布不均勻的問(wèn)題，圖3中陰影部分為顯影液覆蓋的區(qū)域，空白區(qū)域沒(méi)有顯影液覆蓋，因此基板顯影處理裝置對(duì)于如噴淋過(guò)顯影液的基板50做如下處理:
[0022]第一步:如圖4所示，降下位于滾輪組20 —端的擋塊40，將噴淋過(guò)顯影液的基板搭載到基板顯影處理裝置，搭載完成后將擋塊40升起；
[0023]第二步:如圖5所示，基板50搭載完成之后使用滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30驅(qū)動(dòng)滾輪組20順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，待位于滾輪組20另一端的基板位置傳感器24檢測(cè)到基板50到達(dá)之后滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30反轉(zhuǎn)，滾輪組20驅(qū)動(dòng)基板50逆時(shí)針?lè)较蜻\(yùn)動(dòng)，等到位于基板50出發(fā)端的基板位置傳感器24檢測(cè)到基板50到達(dá)后滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置30停止驅(qū)動(dòng)滾輪組20 ;將本步驟重復(fù)預(yù)定次數(shù)；
[0024]第三步:待處理完成后，理想狀況處理過(guò)后的基板表面顯影液分布如圖7所示，其表面顯影液分布均勻，無(wú)空白區(qū)域；進(jìn)一步配合圖6所示，將基板50運(yùn)至下一道工序。
[0025]以上所述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型做任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基板顯影處理裝置，其特征在于主要包括: 基座; 滾輪組，安裝于所述基座上，所述滾輪組包括互相平行并且沿水平方向一字排列的復(fù)數(shù)個(gè)滾輪； 與所述滾輪組連接、用于驅(qū)動(dòng)所述滾輪組中的滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)的滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置； 擋塊，位于滾輪組兩端； 設(shè)置于基座上、用于感應(yīng)基板位置以供所述滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置據(jù)此控制所述滾輪組轉(zhuǎn)動(dòng)方式的基板位置傳感器。
2.如權(quán)利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于:所述擋塊下方設(shè)置有擋塊升降機(jī)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于:所述滾輪組中的滾輪包括復(fù)數(shù)個(gè)傳動(dòng)滾輪，所述傳動(dòng)滾輪的一側(cè)設(shè)置有端部齒輪，所述傳動(dòng)滾輪和所述滾輪組驅(qū)動(dòng)裝置通過(guò)齒輪傳動(dòng)連接，所述滾輪組中的傳動(dòng)滾輪的滾輪直徑相同，在運(yùn)動(dòng)時(shí)所述滾輪組中的傳動(dòng)滾輪沿相同方向、相同轉(zhuǎn)速繞其軸線(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求3所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪還包括復(fù)數(shù)個(gè)自由滾輪，所述自由滾輪間隔地排列在滾輪之間。
5.如權(quán)利要求4所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪的直徑與自由滾輪的直徑相同。
【文檔編號(hào)】G03F7/30GK203595896SQ201320713736
【公開(kāi)日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2013年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月13日
【發(fā)明者】龔金金, 朱棋鋒, 張為騰, 吳康成 申請(qǐng)人:上海和輝光電有限公司