一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法，在陣列基板面向第一偏光片一側(cè)設(shè)置遮光條，在彩膜基板面向陣列基板一側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條，令多個遮光條及多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。在遮光條與黑矩陣條的遮光作用下實(shí)現(xiàn)在保證開口率的同時，增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，進(jìn)而增大了被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。
【專利說明】一種被動偏光式三維顯不裝置及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)，尤其涉及一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]如圖1所示，使用位相差結(jié)構(gòu)的被動偏光式三維(3D)顯示裝置的結(jié)構(gòu)包括:從左向右依次為，背光模組(Back Light Unit’BLU) 101、第一偏光片(Polarizer, POL) 102、薄膜晶體管(Thin Film Transistor，)陣列基板 103、彩膜基板(Color Filter，CF) 104、第二偏光片105、位相差結(jié)構(gòu)106。其中，陣列基板103與彩膜基板104之間填充有液晶(圖1中未顯示)。位相差結(jié)構(gòu)106上排列多個圖案位相差膜片107，彩膜基板104的靠近陣列基板103的一側(cè)設(shè)置有多個黑矩陣條108。各黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影一一覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線，彩膜基板104膜面上兩條相鄰的圖案位相差膜片107分界線之間的區(qū)域?yàn)橐粋€像素區(qū)。通常，使用位相差結(jié)構(gòu)的被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角可以通過公式B=arcsin(折射率XsinA)確定，折射率可以取經(jīng)驗(yàn)值1.5，角A是根據(jù)相鄰像素?zé)o光學(xué)干擾原則確定的一個像素區(qū)的3D顯示時最大垂直透光角度。通常，在垂直視角之外，相鄰像素會發(fā)生光學(xué)干擾而影響圖像質(zhì)量。因此被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角越大越好。根據(jù)垂直視角的確定公式可知，角A越大，使用位相差結(jié)構(gòu)的被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角越大。根據(jù)相鄰像素?zé)o光學(xué)干擾原則，可以將圖1中的被動偏光式三維顯示裝置的角A的兩條邊確定為圖2中的ab和Cd，圖2中的ab和Cd的確定方法為:首先確定各像素邊界處的兩個黑矩陣條108靠近該像素中心的邊(實(shí)際應(yīng)用中，由于黑矩陣條108的厚度較小，因此忽略不計)，在與該邊垂直的平面的交點(diǎn)(圖2為剖面圖，因此，與該邊垂直的平面可以為圖1及圖2所示的剖面)a，c ;再確定該黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106的正投影覆蓋的圖案位相差膜片107分界線，在同一平面(可以為圖2所示的剖面)上的交點(diǎn)b，d ;連接ab，Cd,即可確定角A的兩條邊。則根據(jù)當(dāng)前被動偏光式三維顯示裝置的結(jié)構(gòu)可以得出Z A=2 (Z A/2),ZA/2=arc tan ((h/2)/D)，其中，h為黑矩陣條108 (BM)的寬度，D為彩膜基板104與第二偏光片105的厚度之和。因此，Z A=2arc tan (h/2D)。在計算Z A/2時，并未考慮第二偏光片105和位相差結(jié)構(gòu)106之間的距離，因?yàn)閷?shí)際應(yīng)用中，第二偏光片105和位相差結(jié)構(gòu)106之間的距離很小，可以忽略。
[0003]為了保證各像素的開口率，黑矩陣條108的寬度不能太大，而彩膜基板104和第二偏光片105的厚度也很難做到更小，因此被動偏光式三維顯示裝置也很難具有較大的垂直視角。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法，以增大被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。[0005]一種被動偏光式三維顯示裝置，包括:
[0006]背光板、位于背光板上方的第一偏光片、位于第一偏光片上的陣列基板、位于陣列基板上方的彩膜基板、位于彩膜基板上的第二偏光片以及位于第二偏光片上方的位相差結(jié)構(gòu)，位相差結(jié)構(gòu)上排列多個圖案位相差膜片；
[0007]陣列基板面向第一偏光片一側(cè)存在多個遮光條，多個遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線；
[0008]彩膜基板面向陣列基板一側(cè)存在多個黑矩陣條，多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。
[0009]進(jìn)一步，遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的投影被黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影覆蓋，以避免由于遮光條的遮光作用減小像素開口率。
[0010]進(jìn)一步，遮光條與所述黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影重合，以實(shí)現(xiàn)在避免由于遮光條的遮光作用影響被動偏光式三維顯示裝置的顯示效果的同時，令被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角最大。
[0011]進(jìn)一步，為了簡化制作工藝，遮光條與所述黑矩陣條的大小形狀相同。
[0012]進(jìn)一步，為了實(shí)現(xiàn)較佳的遮光效果，所述遮光條的材質(zhì)為金屬或者壓克力聚合物。
[0013]進(jìn)一步，遮光條的材質(zhì)為金屬，以減少整個陣列基板背面的電阻率，起到更好的靜電屏蔽作用。
[0014]進(jìn)一步，所述遮光條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的正投影關(guān)于其覆蓋的圖案位相差膜片分界線對稱，以保證各像素的垂直視角均勻。
[0015]進(jìn)一步，為了簡化制作工藝，遮光條設(shè)置在所述陣列基板的玻璃基板面向所述第一偏光片的一側(cè)。
[0016]一種被動偏光式三維顯示裝置制造方法，包括:
[0017]在薄膜晶體管陣列基板面向第一偏光片的一側(cè)制作多個遮光條，在彩膜基板面向陣列基板的一側(cè)制作多個黑矩陣條；
[0018]在背光板上黏貼第一偏光片，在第一偏光片上黏貼陣列基板，在陣列基板上黏貼彩膜基板，在彩膜基板上黏貼第二偏光片，在第二偏光片上黏貼位相差結(jié)構(gòu)，位相差結(jié)構(gòu)上排列多個圖案位相差膜片；多個遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線，多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。
[0019]進(jìn)一步,為了簡化制作工藝，在陣列基板上面向第一偏光片的一側(cè)制作多個遮光條，具體包括:
[0020]在陣列基板上的玻璃基板面向第一偏光片的一側(cè)，制作金屬膜；
[0021]通過對所述金屬膜進(jìn)行曝光，顯影，濕刻，剝離制作多個金屬遮光條。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法，在陣列基板連接第一偏光片一側(cè)設(shè)置遮光條，在彩膜基板連接陣列基板一側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條，令多個遮光條及多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。在遮光條與黑矩陣條的遮光作用下，使得2arc tan (h/d) >2arc tan (h/D) >2arctan (h/2D)，實(shí)現(xiàn)了在保證開口率的同時，增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，進(jìn)而增大了被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0023]圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種被動偏光式三維顯示裝置的結(jié)構(gòu)剖面圖；
[0024]圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的被動偏光式三維顯示裝置最大的角A示意圖；
[0025]圖3a為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種被動偏光式三維顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖1 ;
[0026]圖3b為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種被動偏光式三維顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖2 ；
[0027]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種較具體的被動偏光式三維顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種被動偏光式三維顯示裝置制造方法；
[0029]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種遮光條的制作方法。
【具體實(shí)施方式】
[0030]本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法，在陣列基板連接第一偏光片一側(cè)設(shè)置遮光條，在彩膜基板連接陣列基板一側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條，令多個遮光條及多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。在遮光條與黑矩陣條的遮光作用下實(shí)現(xiàn)在保證開口率的同時，增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，進(jìn)而增大了被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。
[0031]如圖3a所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的被動偏光式三維顯示裝置，包括:
[0032]液晶面板100及位于所述液晶面板出光側(cè)的位相差結(jié)構(gòu)106，液晶面板100包括相對設(shè)置的陣列基板103和彩膜基板104、以及位于陣列基板103和彩膜基板104之間的液晶層，位相差結(jié)構(gòu)106上排列多個圖案位相差膜片107 ；
[0033]陣列基板103遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè)存在多個遮光條201，多個遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107分界線；
[0034]彩膜基板104面向陣列基板103 —側(cè)存在多個黑矩陣條108，多個黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107分界線。
[0035]在陣列基板103連接第一偏光片102 —側(cè)設(shè)置遮光條201，在彩膜基板104面向陣列基板103 —側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條108，令多個遮光條201及多個黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線。在遮光條201與黑矩陣條108的遮光作用下實(shí)現(xiàn)增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，并且能夠保證各像素的開口率。
[0036]本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置，以增大被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。如圖3b所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的被動偏光式三維顯示裝置包括背光板101、位于背光板101上方的第一偏光片102、設(shè)置在第一偏光片102上的陣列基板103、位于陣列基板103上方的彩膜基板104、位于彩膜基板104上的第二偏光片105以及位于第二偏光片105上方的位相差結(jié)構(gòu)106，位相差結(jié)構(gòu)106上排列多個圖案位相差膜片107 ；
[0037]陣列基板103面向第一偏光片102—側(cè)存在多個遮光條201，多個遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線；
[0038]彩膜基板104面向陣列基板103 —側(cè)存在多個黑矩陣條108，多個黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線。
[0039]在陣列基板103連接第一偏光片102 —側(cè)設(shè)置遮光條201，在彩膜基板104面向陣列基板103 —側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條108，令多個遮光條201及多個黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線。在遮光條201與黑矩陣條108的遮光作用下實(shí)現(xiàn)增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，并且能夠保證各像素的開口率。
[0040]在需要較大開口率的情況下，較佳的，可以令遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的投影被黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的投影覆蓋。
[0041]進(jìn)一步，可以令遮光條201與黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影重合，在保證開口率的同時獲得最大的垂直視角。
[0042]實(shí)際應(yīng)用中，為了簡化制作工藝，可以令遮光條201與黑矩陣條108的大小形狀相同。
[0043]當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員也可以采用其他可行方式設(shè)置遮光條201，此處僅提供一種較佳的實(shí)現(xiàn)方式，不再一一敘述。
[0044]實(shí)際應(yīng)用中，遮光條201的材質(zhì)可以為金屬或者壓克力聚合物，較佳的，可以選擇金屬來制作遮光條201，以減少整個陣列基板103背面的電阻率，起到更好的靜電屏蔽作用，并且金屬材料制作的遮光條201表面的平整度比亞克力聚合物制作的遮光條201表面的平整度要好。
[0045]當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以采用其他可用遮光材料制作遮光條201，此處僅提供一種較佳的制作材料，不再一一敘述。
[0046]進(jìn)一步，為了使各像素的垂直視角均勻，可以令各遮光條201的形狀相同，進(jìn)一步，可以令遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影關(guān)于其覆蓋的圖案位相差膜片107分界線對稱，從而實(shí)現(xiàn)各像素的垂直視角均勻。
[0047]進(jìn)一步，可以令黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影也關(guān)于其覆蓋的圖案位相差膜片107分界線對稱。從而方便被動偏光式三維顯示裝置的設(shè)置，也更容易實(shí)現(xiàn)被動偏光式三維顯示裝置各像素垂直視角的均勻。
[0048]為了簡化制作工藝，可以將遮光條201設(shè)置在陣列基板103的玻璃基板面向第一偏光片102的一側(cè)。
[0049]本發(fā)明實(shí)施例提供一種較具體的被動偏光式三維顯示裝置，如圖4所示，包括背光板101、位于背光板101上方的第一偏光片102、位于第一偏光片102上方的陣列基板103、位于陣列基板103上方的彩膜基板104、位于彩膜基板104上方的第二偏光片105、位于第二偏光片105上方的位相差結(jié)構(gòu)106 ；
[0050]陣列基板103面向第一偏光片102—側(cè)存在多個遮光條201，多個遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線；
[0051]彩膜基板104面向陣列基板103 —側(cè)存在多個黑矩陣條108，多個黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)106上各圖案位相差膜片107的分界線；
[0052]其中，遮光條201與黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影重合，并且遮光條201與黑矩陣條108均關(guān)于其覆蓋的圖案位相差膜片107分界線對稱，遮光條201的材質(zhì)為金屬。[0053]圖4所示的被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角同樣可以通過公式B=arcsin (折射率XsinA)確定，折射率可以取經(jīng)驗(yàn)值1.5，此時，根據(jù)相鄰像素?zé)o光學(xué)干擾原則確定的各像素區(qū)的三維顯示時最大垂直透光角的兩條邊為圖4中的ef和ij，圖4中的ef和ij的確定方法為:首先確定各像素邊界處的兩個遮光條201靠近像素中心的邊(實(shí)際應(yīng)用中，為了避免增大顯示裝置的厚度，遮光條201的厚度要設(shè)置的很小，可以忽略不計)，在與該邊垂直的平面的交點(diǎn)(圖4為剖面圖，因此，與該邊垂直的平面可以為圖4所示的剖面)e, i ;再確定與該遮光條201在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影重合的黑矩陣條108 (實(shí)際應(yīng)用中，黑矩陣條108的厚度較小，因此忽略不計)，靠近相鄰像素的中心的邊，在同一平面(可以為圖4所示的剖面)上的交點(diǎn)f，j ;連接ef，ij,即可確定角A的兩條邊。圖4中黑矩陣條108由于寬度較小，因此其對光線的遮擋并不會影響液晶顯示裝置的顯示效果。由此可得，Z A=2(Z A/2)，Z A/2=arc tan (h/d)，其中h為各黑矩陣條108在彩膜基板104上的正投影在該黑矩陣條108覆蓋的像素分界線垂直方向上的長度，d為陣列基板103在陣列基板103與第一偏光片102的連接面的垂直方向上的厚度，則Z A=2arc tan (h/d)。通常，d與彩膜基板 104 的厚度相同，因此，d〈D, 2arc tan (h/d) >2arc tan (h/D) >2arc tan (h/2D)。圖4中的被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角要大于圖1中被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。由于陣列基板103及彩膜基板104的厚度都是毫米級的，因此，圖4中的角A相對圖1中的角A的度數(shù)可以增大12度左右。
[0054]由于遮光條201與位相差結(jié)構(gòu)106的分界面垂直方向的寬度越寬,被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角越大，然而遮光條201與位相差結(jié)構(gòu)106的分界面垂直方向的寬度過寬會影響各像素的開口率，因此，為了實(shí)現(xiàn)在避免由于設(shè)置了遮光條201而降低各像素的開口率的同時，最大程度的增大被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角，可以令遮光條201與黑矩陣條108在位相差結(jié)構(gòu)106上的正投影重合。
[0055]如圖5所示，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種被動偏光式三維顯示裝置制造方法，包括:
[0056]S501、在陣列基板遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè)制作多個遮光條，在彩膜基板面向陣列基板的一側(cè)制作多個黑矩陣條；
[0057]S502、陣列基板與彩膜基板對盒；在液晶盒彩膜基板一側(cè)黏貼位相差結(jié)構(gòu)，位相差結(jié)構(gòu)上排列多個圖案位相差膜片，多個遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線，多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。
[0058]其中，遮光條201的材質(zhì)可以為金屬或者壓克力聚合物，當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以采用其他可用遮光材料制作遮光條201，此處不再一一敘述。
[0059]具體的，當(dāng)制作的遮光條201材質(zhì)為金屬時，如圖6所示，S501中，在陣列基板上用于與第一偏光片相連的一側(cè)制作多個遮光條，具體包括:
[0060]S601、在陣列基板上的玻璃基板遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè),制作金屬膜；
[0061]S602、通過對金屬膜進(jìn)行曝光,顯影,蝕刻,剝離制作多個金屬遮光條。
[0062]具體的，可以通過電場加速的氣體離子轟擊金屬靶材，使金屬成膜材料從靶材轉(zhuǎn)移到基板上實(shí)現(xiàn)物理成膜；再進(jìn)一步通過涂覆光刻膠，曝光，顯影，濕刻，剝離等工序，將金屬膜制成金屬遮光條201。[0063]當(dāng)然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以采用其他可行方式實(shí)現(xiàn)在陣列基板103上用于與第一偏光片102相連的一側(cè)制作多個遮光條201，此處僅提供一種較佳的實(shí)現(xiàn)方式，不再一一敘述。
[0064]S501中，在彩膜基板面向陣列基板的一側(cè)制作多個黑矩陣條，可以采用業(yè)內(nèi)慣用的方式實(shí)現(xiàn)，此處不再一一敘述。
[0065]本發(fā)明實(shí)施例提供一種被動偏光式三維顯示裝置及其制作方法，在陣列基板連接第一偏光片一側(cè)設(shè)置遮光條，在彩膜基板連接陣列基板一側(cè)設(shè)置多個黑矩陣條，令多個遮光條及多個黑矩陣條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。在遮光條與黑矩陣條的遮光作用下實(shí)現(xiàn)在保證開口率的同時，增大該被動偏光式三維顯示裝置相鄰像素之間無光學(xué)干擾的視角，進(jìn)而增大了被動偏光式三維顯示裝置的垂直視角。
[0066]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種被動偏光式三維顯示裝置，包括液晶面板及位于所述液晶面板出光側(cè)的位相差結(jié)構(gòu)，所述液晶面板包括相對設(shè)置的陣列基板和彩膜基板、以及位于所述陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，所述位相差結(jié)構(gòu)上排列多個圖案位相差膜片；其特征在于，包括: 所述陣列基板遠(yuǎn)離所述液晶層的一側(cè)存在多個遮光條，所述多個遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋所述位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片分界線； 所述彩膜基板面向所述陣列基板一側(cè)存在多個黑矩陣條，所述多個黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋所述位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片分界線。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述遮光條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影被黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影覆蓋。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述遮光條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影與所述黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的投影重合。
4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，所述遮光條與所述黑矩陣條的大小形狀相同。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述遮光條的材質(zhì)為金屬或者壓克力聚合物。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述遮光條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的正投影關(guān)于其覆蓋的圖案位相差膜片分界線對稱。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述遮光條設(shè)置在所述陣列基板的玻璃基板面向所述第一偏光片的一側(cè)。
8.一種被動偏光式三維顯示裝置制造方法，其特征在于，包括: 在陣列基板遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè)制作多個遮光條，在彩膜基板面向所述陣列基板的一側(cè)制作多個黑矩陣條； 所述陣列基板與所述彩膜基板對盒；在所述液晶盒彩膜基板一側(cè)黏貼位相差結(jié)構(gòu)，所述位相差結(jié)構(gòu)上排列多個圖案位相差膜片； 所述多個遮光條在位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋所述位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線，所述多個黑矩陣條在所述位相差結(jié)構(gòu)上的正投影覆蓋所述位相差結(jié)構(gòu)上各圖案位相差膜片的分界線。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述在陣列基板遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè)制作多個遮光條，具體包括: 在陣列基板上的玻璃基板遠(yuǎn)離液晶層的一側(cè)，制作金屬膜； 通過對所述金屬膜進(jìn)行曝光，顯影，蝕刻，剝離制作多個金屬遮光條。
【文檔編號】G02F1/1335GK103698894SQ201310738708
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年12月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】申瑩, 尹傛俊, 涂志中 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司