專利名稱：一種含有特定粘合劑及增塑劑的干膜光阻劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，尤其是干膜光阻劑中含有一種羧基的可形成薄膜的高分子粘合劑以及ー種含有羧基的聚氨酯的水溶液顯影的干膜光阻劑。
背景技術(shù)：
水溶液顯影的干膜光阻劑是可光聚合的組份，使用在印刷線路板的生產(chǎn)中，這些光阻劑通常是把阻抗物的溶液涂于ー種透明的聚酯薄膜載體上，然后把溶劑揮發(fā)后形成干膜。在通常的情況下，干膜光阻劑是和載體一起使用在銅覆蓋的基物上，在一定的區(qū)域透過載體及底片曝光使干膜固化，然后用堿性水溶液洗滌從銅表面除去未曝光的干膜，暴露的銅層面再用蝕刻液蝕刻而除去，已曝光固化的干膜可用剝離液剝離，剩下的就是被固化干膜保護(hù)而未蝕刻掉的銅面而形成電子線路。在生產(chǎn)過程中，液性蝕刻以及電鍍金通常是牽涉到堿性條件，從而會造成某些問題，譬如固化的光阻劑失去粘性，所以固化的光阻劑具有良好的抗阻該過程的性質(zhì)就非常重要。未曝光的光阻劑能夠快速地在銅板上被洗掉從而達(dá)到盡量快速顯影也十分重要，為了容易地除去未曝光未固化的光阻劑，在光阻劑中就應(yīng)該含有ー種含有羧基的能形成薄膜的聞分子粘合劑。用于光阻的可光聚合組分最好能夠使曝光時(shí)間和顯影時(shí)間最短，并且確保這可光聚合組分粘著到載體薄膜上而不是在覆蓋薄膜上，確保已固化的物質(zhì)的柔軟性很重要，這樣在操作過程中固化的物質(zhì)不會裂碎。但是，在可光聚合組分的配分中，必須保持各種成分的精密平衡，對光阻劑的柔軟性起好作用的物質(zhì)，即使使用的量很少，仍可能對曝光的時(shí)間和顯影時(shí)間會有負(fù)面影響或?qū)υ摻M分的貼著度有負(fù)面的影響。目前使用的增塑劑，如N-乙基-甲苯磺胺曾被加到可光聚組分的配方中去増加柔軟性，然而，這種增塑劑可以從組分中滲漏出去從而限止了其有效性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供ー種含有羧基的可形成薄膜的高分子粘合劑的水溶液顯影的干膜光阻劑，此干膜光阻劑中還包含有ー個(gè)確保已固化的物質(zhì)的柔軟性的至少含有ー個(gè)こ烯基不飽和終端的含羧基的聚氨酯作為增塑劑，該水溶液顯影的干膜光阻劑能克服現(xiàn)有技術(shù)中存在ー些不足之處。本發(fā)明的含有羧基的可形成薄膜的高分子粘合劑的水溶液顯影的干膜光阻劑技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，其組份中含有高分子粘合剤、游離基光引發(fā)劑、可加聚單體、增塑劑以及熱聚合抑制劑，其特征在于所述的高分子粘合劑是ー種含有羧基的可形成薄膜的粘合劑由下述的混合物聚合得到(a)分子式如下的單體 H2C = CRCOO〔 (CnH2n) X (CpH2p)〕mR，其中R是氫或甲基，R’是從下列基團(tuán)中送出異降冰片基，冰片基，冰片烯基，異降冰片稀基，降冰片稀基，雙環(huán)十一燒基，ニ環(huán)十_■燒基，ニ環(huán)八燒基，2-氛水片基，2. 3 一_.氫!降冰片基，X是氧或硫，η是2. 4, P是0-4, m是0-2 ；(b)至少有ー個(gè)3-15個(gè)炭原子的單體，該單體有α，β -不飽和鍵及包含有羧基或酸酐基團(tuán)； (C)至少有ー個(gè)C1-C8烷基丙烯酸酯；(d)至少有ー個(gè)C1-C8烷基甲基丙烯酸酯；所述的增塑劑為含有羧基聚氨酯，其分子量為1000-100000，自由羧基基團(tuán)在聚合物主鏈上，并至少含有一個(gè)烯鍵不飽和的終端基團(tuán)。ー種含有羧基的可形成薄膜的高分子粘合劑由至少兩個(gè)單體制成，第一個(gè)單體，(a)具有分子式H2C = CRCOO〔 (CnH2n)X(CpH2p)〕mR’，其中R是氫或甲基，R’是飽和或不飽和的C5-C12搭橋烷基，也可以是為至少I個(gè)C1-C4的烷基或氫取代，X是氧或硫原子，η為2-4，P為0-4，m為0-2。該飽和或非飽和C5-C12搭橋烷基R’是ー個(gè)有5_12個(gè)硫原子的多環(huán)碳?xì)浠衔?，具有ー個(gè)環(huán)或稠環(huán)，在環(huán)中有一個(gè)價(jià)鏈，原子或原子鏈聯(lián)結(jié)在環(huán)的不同部分。該C1-C4烷基可以是甲基，こ基，丙基，異丙基，正丁基或異丁基，也可是鹵素如氯，溴，碘或氟原子。隨意的取代搭橋烷基的例子包括單環(huán)搭橋體系，例為異冰片基，冰片基，冰片稀基，異冰片稀基，降冰片稀基，雙環(huán)〔4.3.2〕十一燒基，ニ環(huán)〔5. 3. I.2’6〕十_■燒基，ニ環(huán)〔
3.2. I. O2’7〕十二辛烷基，2-氯降冰片基，2. 3-ニ氯降冰片基，以及稠環(huán)搭橋體系，例為ニ環(huán)戊基，l，2，3，4，4a，5，8，8a-八氫-外-1.4 ;外-5，8_ ニ甲基萘。1，4_甲基戊烯基。制作上述搭橋基團(tuán)的丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯也可以通用的酷化反應(yīng)，譬如上述搭橋基因的醇的丙烯酸或甲基丙烯的酯化。第一類單體實(shí)例包括異冰片丙烯酯及甲基丙烯酯，其結(jié)構(gòu)如下
權(quán)利要求
1.ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，其組份中含有高分子粘合剤、游離基光引發(fā)劑、可加聚單體、增塑劑以及熱聚合抑制劑，其特征在于 所述的高分子粘合劑是ー種含有羧基的可形成薄膜的粘合劑由下述的混合物聚合得到 (a)分子式如下的單體H2C = CRCOO〔 (CnH2n)X(CpH2p)〕mR’ 其中R是氫或甲基，R’是選自下列基團(tuán)異降冰片基，冰片基，冰片烯基，異降冰片烯基，降冰片稀基，雙環(huán)十一燒基，ニ環(huán)十_■燒基，ニ環(huán)八燒基，2-氛水片基，2. 3 一_■氣降冰片基，X是氧或硫，η是2. 4, P是0-4, m是0-2 ； (b)至少有ー個(gè)3-15個(gè)炭原子的單體，該單體有α，β-不飽和鍵及包含有羧基或酸醇酐酯基團(tuán)； (c)至少有ー個(gè)C1-C8烷基丙烯酸酯； (d)至少有ー個(gè)C1-C8烷基甲基丙烯酸酯； 所述的增塑劑為含有羧基聚氨酯，其分子量為1000-100000，自由羧基基團(tuán)在聚合物主鏈上，并至少含有一個(gè)烯鍵不飽和的終端基團(tuán)。
2.按權(quán)利要求I所述ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，其特征在于在配方中，高分子粘合劑占干膜光阻劑總重量的40-70%，光游離基引發(fā)劑占O. 5-10%，加聚性單體占5-40%，增塑劑占O. 2-10 %，熱聚抑制劑占O. 003 % -O. 04 %。
3.按權(quán)利要求I或2所述ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，其特征在于在配方中，高分子粘合劑占干膜光阻劑總重量的50-60%，光游離基引發(fā)劑占3-7%，加聚性單體占15-35%，增塑劑占O. 5-2. O %，熱聚抑制劑占O. OI % -O. 02 %。
4.按權(quán)利要求I所述ー種水溶液顯影的干膜光阻劑，其特征在于在配方中所述的可加聚單體是選自こニ醇ニ丙烯酸酷，ニ甘醇ニ丙烯酸酷，甘油ニ丙烯酸酷，甘油三丙烯酸酷，1，3_丙ニ醇ニ甲基丙烯酸酷，1，2，4_ 丁三醇三甲基丙烯酸酷，1，4_苯ニ酚ニ丙烯酸酷，1，4-環(huán)己ニ醇ニ丙烯酸酯，季戊四醇三和四甲基丙烯酸酯。季戊四醇三及四丙烯酸酯，四甘醇ニ甲基丙烯酸酷，三羥甲基丙烷三甲基丙酸酷，三甘醇ニ丙烯酸酷，四甘醇ニ丙烯酸酷，季戊四醇三丙烯酸酯，三羧甲基丙烷三丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酷，1，3_丙基ニ醇ニ丙烯酸酷，1，5_戊ニ醇ニ甲基丙烯酸酯，聚丙ニ醇，聚こニ醇，以及分子量數(shù)目平均從100到大約500的ニ丙烯酸酯及ニ甲基丙烯酸酯的共聚物。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種水溶液顯影的干膜光阻劑，其組份中含有高分子粘合劑、游離基光引發(fā)劑、可加聚單體、增塑劑以及熱聚合抑制劑，其特征在于高分子粘合劑是一種含有羧基的可形成薄膜的粘合劑，是由下述的混合物聚合得到該混合物包括(a)分子式為H2C＝CRCOO〔(CnH2n)X(CpH2p)〕mR’的單體，其中R是氫或甲基，R’是飽和或不飽和的C5-C12搭橋烷基，該烷基亦可被至少1個(gè)C1-C4的烷基或氫取代，X是氧或硫原子，n為2-4，p為0-4，m為0-2(b)至少有一個(gè)C3-C15，α，β-不飽和，包含羧基的有3到15個(gè)碳原子的單體。增塑劑為含有羧基聚氨酯，分子量為10000-100000，自由羧基在主鏈，至少有一個(gè)烯鍵不飽和終端基團(tuán)。
文檔編號G03F7/033GK102650826SQ20111004738
公開日2012年8月29日 申請日期2011年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月28日
發(fā)明者邱紅斌, 陸德凱 申請人:中山市立順實(shí)業(yè)有限公司