專利名稱：：感光性組合物和基板的加工基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于制造形成有抗蝕圖案的加工基板的感光性組合物。進而本發(fā)明涉及為了制造該基板的制造方法。特別是涉及用于以光納米壓印法制造形成有抗蝕圖案的加工基板的感光性組合物。
背景技術(shù)：
：納米壓印法是使用形成有凹凸圖案的模具原器(一般稱為模具(mold)、壓模(stamper)、模板(template))對抗蝕劑進行按壓，力學(xué)性地使其變形，從而將細微圖案精密地轉(zhuǎn)印的技術(shù)。由于只要制作一次模具，就可以簡單地重復(fù)進行納米結(jié)構(gòu)的成型，是既經(jīng)濟、有害的廢棄/排出物又少的加工技術(shù)，因此近年來期待在各種領(lǐng)域的應(yīng)用。對于納米壓印法，提出了使用熱塑性樹脂作為被加工材料的熱納米壓印(參照S.Chou等.Appl.Phys丄ett.VoI.67，114，3314(1995))和使用光固化型組合物的光納米壓印(M.Colbun等，Proc.SPIE，Vo1.676，78(1999))這2種方法。熱納米壓印時，通過在加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上的高分子樹脂上按壓模具，冷卻后將模具脫模，從而將細微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印于基板上的樹脂。例如，在美國專利第5772905號和美國專利第5956216號中，公開了使用熱塑性樹脂，廉價地形成納米圖案的納米壓印方法。另一方面，在光納米壓印的情況下，在使透明模具壓合在液體狀的光固化型組合物的狀態(tài)下曝光，使光固化型組合物發(fā)生光固化，然后將模具脫模。在光納米壓印方式的情況下，因為有在室溫可以壓印的優(yōu)點，所以期待在各種方面的應(yīng)用。例如，在美國專利第5259926號和日本特表2005-527U0號公報中，公開了使用熱塑性樹脂，廉價地形成納米圖案的納米壓印方法。在此，光納米壓印通常采用以下的方法進行?！?〕在硅酮晶片、石英、玻璃、膜、其他材料，例如陶瓷材料、金屬或聚合物等基板上，將液體狀的感光性組合物以數(shù)十nm數(shù)pm左右的膜厚進行涂覆。(2〕在其上按壓具有數(shù)十nm數(shù)十iim的圖案尺寸的細微凹凸的模具并加壓。(3〕在加壓狀態(tài)下進行光照射從而使感光性組合物固化。〔4)從固化了的涂膜將模具脫模，得到在基板上形成的抗蝕圖案?！?〕對形成有抗蝕圖案的基板進行加熱處理，使固化反應(yīng)完成。在以這樣的工序制造的光納米印模中，感光性組合物追隨模具的精密凹凸而正確地復(fù)制模具形狀是必要的。若感光性組合物不能追隨模具的凹凸，則所得的抗蝕圖案的形狀變得與模具的凹凸形狀不同而發(fā)生不良情況。為此，需要感光性組合物的粘度低。一般地，以往構(gòu)成感光性組合物的單體中，有1官能單體、2官能單體、3官能以上的單體，但是為了降低感光性組合物的粘度，提高l官能單體的比率是有效的。然而，l官能單體的比率高的感光性組合物，一般有由于上述熱處理導(dǎo)致膜厚減少的問題。這種情況可以認為，因為l官能單體可以交聯(lián)的反應(yīng)點少，所以未能編入曝光后固化物的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的分子比2官能單體、3官能以上的單體多，因此加熱時易于揮散，結(jié)果該比率高的感光性組合物中膜厚減少增大。與此相對，若使l官能單體的比率降低，提高2官能單體和3官能以上的單體的比率，則熱處理時的膜厚減少變小。但是，若提高2官能單體、3官能以上的單體的比率，則感光性組合物的粘度增高，對模具的凹凸的隨動性劣化，有所得的抗蝕圖案的形狀變得不良的可能性高的問題。進而，對于2官能單體和3官能以上的單體的比率高的感光性組合物，曝光時的固化收縮變大，曝光后的基板的翹曲變大，有時模具圖案與基板間的粘接性變得不充分。如以上所述，只要使用以往的單體，就難以兼顧低粘度、以及伴隨固化收縮的基板的翹曲及粘接性。正在研究使曝光時的固化收縮減小、改良曝光后的基板的翹曲和粘接性的方法。例如，日本特開平7-64281號公報中記載了在感光性組合物中添加螺環(huán)原酸酯化合物的方法。但是，該方法中，曝光后的螺環(huán)原酸酯化合物的固化反應(yīng)不充分，不能充分地改良加熱時的膜厚減少。如以上所述，使用以往的技術(shù)，不能完全滿足感光性組合物的模具的凹凸隨動性、曝光后的基板翹曲及粘接性、熱處理時的膜厚減少。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于解決上述技術(shù)問題，提供模具的凹凸隨動性良好且熱處理時的膜厚減少小、能得到良好形狀的抗蝕圖案的感光性組合物?；谏鲜黾夹g(shù)問題，本申請的發(fā)明人進行了認真研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過采用具有難以通過曝光聚合且易于通過加熱聚合的官能團的聚合性單體，可以解決上述技術(shù)問題。具體地說，發(fā)現(xiàn)通過以下的方法，可以解決上述技術(shù)問題。(1)一種感光性組合物，其是在1分子中至少含有0.0199.99質(zhì)量％的以下的聚合性單體(A)、098質(zhì)量％的1官能以上的聚合性單體(B)(除相當(dāng)于聚合性單體(A)以外的單體)、0.115質(zhì)量％的光聚合引發(fā)劑的感光性組合物，所述聚合性單體(A)在l分子中具有l(wèi)種以上的含乙烯性不飽和雙鍵的官能團X和1種以上的官能團Y，以下述曝光條件進行曝光時，官能團X的反應(yīng)率為50X以上，官能團Y的反應(yīng)率不足50X，并且以下述曝光條件進行曝光后，再在20(TC進行30分鐘熱處理后，官能團X和官能團Y的反應(yīng)率均為80X以上。曝光條件將組合物以使干燥膜厚為6iim的方式涂覆在基板上，使用高壓水銀燈對所得涂膜在100mJ/cr^的條件下進行曝光，所述組合物中，相對于僅含有l(wèi)種官能團作為聚合性官能團的聚合性單體IOO質(zhì)量份，添加有5質(zhì)量份的2,2-二甲氧基-l，2二苯基乙烷-l-酮作為光聚合引發(fā)劑。(2)根據(jù)(1)所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y具有乙烯性不飽和雙鍵。(3)根據(jù)(1)或(2)所述的感光性組合物，其特征在于，聚合性單體(A)的含量為1099質(zhì)量％。(4)根據(jù)(1)(3)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，聚合性單體(B)的含量為70質(zhì)量％以下。(5)根據(jù)(1)(4)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y的個數(shù)為110。(6)根據(jù)(1)(4)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團X的個數(shù)為1，所述聚合性單體(B)所具有的官能團的個數(shù)為110。(7)根據(jù)(1)(6)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團X為(甲基)丙烯酸酯基。(8)根據(jù)(1)(7)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y選自烯丙基酯基、乙烯基醚基、烯丙基醚基、炔丙基醚基、炔丙基酯基、環(huán)己烯基、環(huán)戊烯基、二環(huán)戊烯基、苯乙烯基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、烷氧基甲硅烷基和異氰酸酯基。(9)根據(jù)(1)(8)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，重均分子量為1000以上的高分子的含量為10質(zhì)量％以下。(10)根據(jù)(1)(9)中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，非反應(yīng)性的有機溶劑的添加量為10質(zhì)量％以下。(11)一種加工基板的制造方法，其特征在于，使用(1)(10)中任一項所述的感光性組合物。(12)—種加工基板的制造方法，包括下述(工序l)〔工序4)，〔工序1〕使基板與在表面具有所需抗蝕圖案的反轉(zhuǎn)圖案的模具組合，使(1)(10)中任一項所述的感光性組合物夾持在所述基板的表面與所述模具的圖案面之間的工序；(工序2〕通過曝光，使所述感光性組合物中的聚合性單體聚合，從而在基板上形成抗蝕圖案的工序；〔工序3〕將模具從形成有抗蝕圖案的基板剝離的工序；(工序4〕對形成有抗蝕圖案的基板在10(TC以上的溫度進行5分鐘以上的熱處理的工序。(13)—種固化物，其是使(1)(10)中任一項所述的感光性組合物固化而得。(14)一種基板，其通過(12)所述的基板的制造方法得到。根據(jù)本發(fā)明，可以提供模具的凹凸隨動性良好且熱處理時的膜厚減少小、可以得到良好形狀的抗蝕圖案的感光性組合物。具體實施方式以下，針對本發(fā)明的內(nèi)容進行詳細地說明。此外，本申請說明書中，所謂""以包含其前后所記載的數(shù)值作為下限值和上限值的意思被使用。本發(fā)明中的聚合性單體區(qū)別于低聚物(oligomer)和多聚物(polymer)，其是指重均分子量為1000以下的化合物。在本說明書中，"聚合性基團"是指參與聚合的基團。另外，本發(fā)明中的所謂納米壓印，是指大概數(shù)十nm至數(shù)十(im的尺寸的圖案轉(zhuǎn)印，并不僅限于納米級的圖案轉(zhuǎn)印。本發(fā)明的感光性組合物是至少含有0.0199.99質(zhì)量％的聚合性單體(A)、098質(zhì)量％的1官能以上的聚合性單體(B)(除相當(dāng)于聚合性單體(A)以外的聚合性單體)、0.0115質(zhì)量％的光聚合引發(fā)劑的感光性組合物，聚合性單體(A)在l分子中具有l(wèi)種以上含乙烯性不飽和雙鍵的官能團X和1種以上的官能團Y，在下述曝光條件下曝光時，官能團X的反應(yīng)率為50X以上，官能團Y的反應(yīng)率不足50%，并且，以下述曝光條件曝光后，再在20(TC進行30分鐘熱處理后，官能團X和官能團Y的反應(yīng)率都為80X以上。曝光條件將組合物以使干燥膜厚為6pm的方式涂覆在基板上，使用高壓水銀燈對所得涂膜在100mJ/cr^的條件下進行曝光，所述組合物中，相對于僅含有l(wèi)種官能團作為聚合性官能團的聚合性單體100質(zhì)量份，添加有5質(zhì)量份的2,2-二甲氧基-l,2二苯基乙烷-l-酮作為光聚合引發(fā)劑。以下，針對本發(fā)明的感光性組合物進行詳細地說明。聚合性單體(A)針對本發(fā)明中使用的聚合性單體(A)進行敘述。本發(fā)明的聚合性單體(A)是在l分子中具有l(wèi)種以上的含乙烯性不飽和雙鍵的官能團X和1種以上的官能團Y的聚合性多官能單體。官能團X，是以下述曝光條件曝光時的反應(yīng)率為50%以上，然后以200°〇進行30分鐘熱處理后的反應(yīng)率為80%以上的含有乙烯性不飽和雙鍵的官能團。反應(yīng)率的測定方法使用組合物用以下方法測定，該組合物中，相對于僅含有1種官能團作為官能團的聚合性單體100質(zhì)量份，添加有5質(zhì)量份作為光聚合引發(fā)劑的2，2-二甲氧基-l，2-二苯基乙垸-l-酮。(1)在基板上以使干燥膜厚為6pm的方式涂覆組合物。這里的膜厚，沒有必要絕對地為6pm，可以包含誤差(例如，6.0士0.1pm)。在此，添加了聚合性單體和聚合引發(fā)劑的組合物可以根據(jù)需要含有機溶劑。含有有機溶劑時，涂覆后進行干燥從而使有機溶劑揮散，之后進行曝光。曝光時的溶劑含量為組合物的1質(zhì)量％以下是必要的。(2)使用高壓水銀燈以曝光量100mJ/cn^的條件對試樣進行曝光。曝光量是照度和曝光時間的乘積。照度可以使用例如照度計C6080-13型(浜松光子學(xué)公司制)測定。此外，曝光時以氮氣對試樣進行脫氣(purge)是必要的。對于氮氣脫氣，在氣氛氣體中的氧分率為1體積％以下的狀態(tài)，將試樣保持l分鐘以上是必要的。G)將試樣在20(TC進行30分鐘熱處理。熱處理的具體的方法為，將試樣在200士5。C的空氣恒溫槽中保持30士0.5分鐘。作為空氣恒溫槽，可以使用例如大和(Yamato)科學(xué)公司制的空氣恒溫槽ConstanttemperatureOvenDN43H。對于官能團X，在l分子中可以僅含有l(wèi)種，也可以含有2種以上。官能團X優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯基。1分子中的官能團X的個數(shù)沒有限制，通常為2以下，優(yōu)選l。若官能團X的個數(shù)為3以上，則曝光時的固化收縮有增大的趨勢，有時出現(xiàn)基板的翹曲易于發(fā)生、粘接性變得易于劣化的問題。官能團Y是以上述曝光條件進行曝光時的反應(yīng)率不足50X、之后以200°(:進行30分鐘熱處理后的反應(yīng)率為80。％以上的官能團。反應(yīng)率的測定可以使用在官能團X處說明的方法。官能團Y優(yōu)選以上述條件曝光時的反應(yīng)率不足40%、之后以20(TC進行30分鐘熱處理后的反應(yīng)率為80%以上的官能團。特別是滿足該條件的含有乙烯性不飽和雙鍵的官能團是更優(yōu)選的。對于官能團Y，在l分子中可以僅含有l(wèi)種，也可以含2種以上。優(yōu)選18種，更優(yōu)選15種，進一步優(yōu)選1種或2種。作為官能團Y的具體例，可列舉烯丙基酯基、烯丙基醚基、炔丙基醚基、炔丙基酯基、乙烯基醚基、環(huán)己烯基、環(huán)戊烯基、二環(huán)戊烯基、苯乙烯基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁垸基、垸氧基甲硅烷基(alkoxysilylgroup)、異氰酸酯基等，優(yōu)選烯丙基酯基、烯丙基醚基、乙烯基醚基、環(huán)氧基、異氰酸酯基，更優(yōu)選烯丙基酯基、烯丙基醚基。官能團Y的個數(shù)的合計沒有特別的限制，通常為110，優(yōu)選26。若官能團Y的個數(shù)超過IO，則有時發(fā)生感光性組合物的粘度增大過多的問題。相反，為0時，有時在聚合后的抗蝕圖案的強度、耐熱性方面發(fā)生問題。曝光后和加熱后的官能團的反應(yīng)率，用以下方法測定。使用傅立葉變換型紅外分光裝置(FT-IR)測定官能團的吸收峰面積。吸收峰的位置根據(jù)官能團的種類進行適當(dāng)?shù)倪x擇。例如C-C鍵的反應(yīng)率可以選擇伴隨于丙烯?；腃-C-H伸縮的810cm"的峰強度，環(huán)氧基的反應(yīng)率可以選擇伴隨于環(huán)氧環(huán)的環(huán)伸縮的910cm"的峰強度，異氰酸酯基可以選擇伴隨于異氰酸酯的伸縮振動的2200cm"的峰強度。將固化前(單體液)的峰強度設(shè)為IOO，基線設(shè)為0，從測定值的強度可以算出反應(yīng)率。以下，各種官能團以上述曝光條件進行曝光時的反應(yīng)率以及曝光<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table><formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>本發(fā)明的感光組合物，含有0.01~99.99質(zhì)量％范圍的聚合性單體A，但是優(yōu)選在1099質(zhì)量％的范圍含有。若聚合性單體(A)的添加比例過少，則模具的凹凸隨動性、熱處理時的膜厚減少、良好形狀的抗蝕圖案、曝光后的基板發(fā)生翹曲、抗蝕圖案與基板間的粘接性這些性能中的任意者有變差趨勢。相反，若聚合性單體(A)的添加比例過多，則光聚合引發(fā)劑等其他構(gòu)成成分的含量變得過少，有時發(fā)生固化不良等不良情況。聚合性單體(A)的分子量優(yōu)選為1501000，更優(yōu)選為200500。若分子量比150小，則易發(fā)生臭氣的問題，若超過IOOO，則有時感光性組合物的粘度變大發(fā)生不良情況。聚合性單體(B)針對本發(fā)明中使用的聚合性單體(B)進行敘述。聚合性單體(B)是除相當(dāng)于聚合性單體(A)的化合物以外的l官能以上的聚合性單體。對于聚合性單體(B)所具有的官能團的種類沒有特別的限制，優(yōu)選在l分子中具有l(wèi)種以上的含乙烯性不飽和雙鍵的官能團的聚合性單體，更優(yōu)選(甲基)丙烯?；?。聚合性單體(B)在l分子中可以僅含有l(wèi)種官能團，也可以含有2種官能團。l分子中的官能團的個數(shù)沒有限制，通常為110，優(yōu)選18。作為聚合性單體(B)的第一例，可列舉丙烯酸酯單體或甲基丙烯酸酯單體，這些的具體例在日本特開2008-19292號公報的段落號00450084中有所記載。作為聚合性單體(B)的第二例，可列舉含有烯丙基酯基、乙烯基醚基、烯丙基醚基、炔丙基醚基、炔丙基酯基、環(huán)己烯基、環(huán)戊烯基、二環(huán)戊烯基、苯乙烯基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁垸基、烷氧基甲硅烷基和異氰酸酯基等官能團的聚合性單體。在這些官能團中，特別優(yōu)選烯丙基酯基、環(huán)氧基、異氰酸酯基。作為聚合性單體(B)的粘度，優(yōu)選350mPa/s的范圍。粘度不足3mPa/s的單體，蒸氣壓大，有時熱處理時的膜厚減少增大。若使用粘度超過50mPa/s的單體，則有時感光性組合物的粘度變得過高，發(fā)生涂覆性等不良。聚合性單體(B)的分子量優(yōu)選為1501000，更優(yōu)選為200500。若分子量比150小，則易發(fā)生臭氣的問題，若超過IOOO，則有時感光性組合物的粘度變大而發(fā)生不良情況。本發(fā)明的感光性組合物，以98質(zhì)量％以下的范圍含有聚合性單體(B)，但是優(yōu)選以70質(zhì)量％以下的范圍含有。下限值沒有特別的規(guī)定，例如，可以設(shè)為5質(zhì)量％。15光聚合引發(fā)劑本發(fā)明中使用的聚合引發(fā)劑，對其種類沒有特別限定，可以廣泛采用公知的光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑的例，可列舉1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、二苯甲酮、2，2-二甲氧基-l，2-二苯基乙垸扁l-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)丁酮-1、2-甲基-l-2-嗎啉代丙垸-l-酮、雙(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、雙(2，6-二甲氧基苯甲?；?-2，4，4-三甲基-戊基氧化膦，1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮、雙(2，6-二甲氧基苯甲?；?-2，4，4-三甲基-戊基氧化膦，2-羥基-2-甲基-l-苯基-l-丙垸-l-酮、1，2-辛垸二酮，1-[4-(苯基硫)苯基]-2-(O-苯甲酰肟)、2-羥基-2-甲基-l-苯基-l-丙烷-l-酮、乙酮，l-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲?；?-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙酰肟)、2，4，6-三甲基苯甲?；交趸?、2，4，6-三甲基苯甲?；交已趸趸?、1-[4-苯甲?；交鶐€基]苯基)-2-甲基-2-(4-甲基苯基磺?；?丙烷-l-酮、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-[2-(3，4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(3，4-二甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、二苯甲酮、4，4'-雙(二乙基氨基)二苯甲酮、甲基-2-二苯甲酮、4-苯甲酰基-4，-甲基二苯基硫醚、4-苯基二苯甲酮、乙基米蚩酮、2-氯噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、4-異丙基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、l-氯-4-丙氧基噻噸酮、2-甲基噻噸酮、噻噸酮銨鹽、苯偶姻、4，4，-二甲氧基苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、芐基二甲基縮酮、1，1，1-三氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、二苯并環(huán)庚酮、鄰苯甲?；郊姿峒柞?、2-苯甲?；?、4-苯甲酰基聯(lián)苯、4-苯甲酰基二苯基醚、1，4-苯甲酰基苯、苯偶酰、10-丁基-2-氯吖啶酮、[4-(甲基苯基硫)苯基]苯基甲垸)、2-乙基蒽醌、2，2-雙(2-氯苯基)4，5，4'，5，-四(3,4，5-三甲氧16氯苯基)4，5，4，，5'-四苯基-l，2，-聯(lián)咪唑、三(4-二甲基氨基苯基)甲烷、乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯、2-(二甲基氨基)乙基苯甲酸酯、丁氧基乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯等。光聚合引發(fā)劑可以含有l(wèi)種，也可以含有2種以上。本發(fā)明的感光性組合物中，除含有上述聚合性單體(A)、聚合性單體(B)和光聚合引發(fā)劑之外，根據(jù)需要可以含有表面活性劑、脫模劑、有機溶劑、高分子、硅烷偶聯(lián)劑等各種添加劑。表面活性劑作為表面活性劑，可以使用公知的表面活性劑，其中，特別優(yōu)選氟系表面活性劑、硅酮系表面活性劑和氟硅酮系表面活性劑。表面活性劑可以單獨使用，也可以2種以上混合使用。表面活性劑的添加量優(yōu)選0.0015質(zhì)量％，更優(yōu)選0.0053質(zhì)量％。若添加量比0.001質(zhì)量％少，則有時將感光性組合物涂覆在基板時的表面狀態(tài)變得不佳，若超過5質(zhì)量％，則有時與基板的粘接性發(fā)生劣化。抗氧化劑進而，本發(fā)明的感光性組合物，優(yōu)選含有公知的抗氧化劑。相對于聚合性單體，本發(fā)明中使用的抗氧化劑的含例如為0.0110質(zhì)量%，優(yōu)選0.25質(zhì)量％。使用2種以上的抗氧化劑時，其合計量為上述范圍。上述抗氧化劑是抑制由熱、光照射所致的退色以及由臭氧、活性氧、NOx、SOx(X為整數(shù))等各氧化性氣所致的退色的抗氧化劑。特別是在本發(fā)明中，通過添加抗氧化劑，有能夠防止固化膜的著色、降低由分解所致的膜厚的減少的優(yōu)點。作為這樣的抗氧化劑，可列舉酰肼類、受阻胺系抗氧化劑、含氮雜環(huán)巰基系化合物、硫醚系抗氧化劑、受阻酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、硫氰酸酸鹽類、硫脲衍生物、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥胺衍生物等。其中，從固化膜的著色、膜厚減少的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選受阻酚系抗氧化劑、硫醚系抗氧化劑。作為上述抗氧化劑的市售品，可列舉商品名IRganox1010、1035、1076、1222(以上，汽巴-嘉基公司制)，商品名AntigeneP、3C、FR、SumilizerS、SumilizerGA80(住友化學(xué)工業(yè)公司制)、商品名AdekaStabAO70、AO80、AO503(ADEKA公司制)等。它們可以單獨使用，也可以混合使用。硅垸偶聯(lián)劑本發(fā)明中，根據(jù)需要可以使用硅烷偶聯(lián)劑。作為本發(fā)明中可以使用的硅烷偶聯(lián)劑，可列舉乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅垸、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅垸、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、對苯乙烯基三甲氧基硅垸、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅垸、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅垸等。硅烷偶聯(lián)劑的添加量優(yōu)選0.120質(zhì)量％，更優(yōu)選110質(zhì)量％。若添加量比0.1質(zhì)量％少，則有時對基板的粘接性改良效果不充分，若超過20質(zhì)量％，則有時得到的抗蝕圖案的耐水性、耐熱性、強度下降。脫模劑脫模劑是為了使曝光后、經(jīng)固化的抗蝕圖案與模具的剝離變得容易而使用的添加劑，可以使用氨基改性硅油、羧基改性硅油、甲醇改性硅油等改性硅油等。其添加量優(yōu)選0.0015質(zhì)量％，更優(yōu)選0.0053質(zhì)量。X。若添加量比0.001質(zhì)量％少，則有時脫模作用變得不充分，若超過5質(zhì)量％，則有時與基板的粘接性劣化。高分子化合物本發(fā)明中可以添加環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、聚環(huán)氧乙烷、聚環(huán)氧丙烷等高分子。這些高分子的添加量沒有特別的限制，優(yōu)選本發(fā)明的感光性組合物中的重均分子量為1000以上的高分子的含量為10質(zhì)量%以下，更優(yōu)選5質(zhì)量％以下。若高分子的添加量超過10質(zhì)量％，則有時感光性組合物的粘度上升而變得不追隨模具形狀，得到的抗蝕圖案的形狀劣化。有機溶劑在本發(fā)明的感光性組合物中，根據(jù)需要可以添加有機溶劑。作為優(yōu)選的有機溶劑，可列舉例如丙酮、甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、環(huán)己醇等。這些有機溶劑，可以分別單獨使用，也可以2種以上組合使用。有機溶劑的添加量，優(yōu)選10質(zhì)量％以下，更優(yōu)選5質(zhì)量％以下。若有機溶劑的添加量超過10質(zhì)量％，則有時得到的抗蝕圖案的形狀發(fā)生劣化。感光性組合物的物理特性本發(fā)明的感光性組合物的粘度優(yōu)選30mPa，a以下，更優(yōu)選20mPa-a以下。若粘度超過30mPa'a，則在后述的抗蝕圖案的形成工序中，感光性組合物的對模具的細微凹凸的隨動性劣化，所得的抗蝕圖案的形狀有易于變得不良的趨勢。本發(fā)明的感光性組合物的表面張力優(yōu)選1535N/m，優(yōu)選1830N/m。若表面張力超過35N/m，則有時感光性組合物的對基板的潤濕發(fā)生劣化，若不足15N/m時，由于添加的表面活性劑的量增多，有時對基板的粘接性發(fā)生劣化。形成有抗蝕圖案的加工基板的形成方法首先，針對形成抗蝕圖案的加工基板的形成方法的一例進行敘述。在基板上，以數(shù)十nm數(shù)iim左右的膜厚涂覆本發(fā)明的感光性組合物。在涂覆面上，按壓具有數(shù)十nm數(shù)十pm的圖案尺寸的細微凹凸的模具并加壓。在加壓的狀態(tài)進行光照射從而使感光性組合物固化。[4]從固化了的涂膜將模具脫模，得到在基板上形成的抗蝕圖案。[5〗對形成有抗蝕圖案的基板進行加熱處理使固化反應(yīng)完全。19基板本發(fā)明中使用的基板沒有特別的限制，可以是石英、玻璃、光學(xué)膜、陶瓷材料、蒸鍍膜、磁性膜、反射膜；Ni、Cu、Cr、Fe等的金屬基板；紙；SOG;聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚酰亞胺膜等的聚合物基板；TFT陣列基板、PDP的電極板；ITO、金屬等的導(dǎo)電性基材、絕緣性基材；硅酮、氮化硅酮、聚硅酮、氧化硅酮、無定形硅酮等半導(dǎo)體制作的基板等?；宓男螤羁梢允前鍫睿部梢允禽仩?。感光性組合物的涂覆方法模具接下來，針對本發(fā)明中可以使用的模具進行說明。對于本發(fā)明的感光性組合物，模具或基板的至少一方需要選擇光透射性的材料。作為光透射性的模具的原料可列舉玻璃、石英、PMMA、聚碳酸酯樹脂等光透明性樹脂、透明金屬蒸鍍膜、聚二甲基硅氧烷等的柔軟膜、光固化膜等。使用了透明基板時，作為可使用的非光透射型模具材料，可列舉陶瓷材料，蒸鍍膜，磁性膜，反射膜，Ni、Cu、Cr、Fe等的金屬基板，SiC、硅酮、氮化硅酮、聚硅酮、氧化硅酮、無定形硅酮等的基板等。模具的按壓方法加工本發(fā)明的感光性組合物時，模具的按壓壓力優(yōu)選1氣壓10氣壓的范圍。若按壓壓力超過10氣壓，則模具、基板發(fā)生變形，圖案精度有下降的趨勢。相反，若模具的按壓壓力不足l氣壓不足，則模具與基板不充分的密接，易于發(fā)生殘膜。本發(fā)明中，將模具按壓于基板之前，可以對體系進行減壓。通過減壓，可以除去模具的凹凸部的空氣，因為感光性組合物追隨凹凸部分，所以得到的抗蝕圖案的形狀提高。進而，減壓后將模具按壓于基板之后，在曝光前，可以使用空氣或空氣以外的氣體，例如氮，將體系的壓力恢復(fù)到常壓。曝光作為使本發(fā)明的感光性組合物固化的光，沒有特別的限制，可列舉高能量電離放射線，近紫外、遠紫外、可見光、紅外等的波長區(qū)域20的光或放射線。作為高能量電離放射線源，例如，可以工業(yè)性地最便利且經(jīng)濟地使用經(jīng)考克羅福特(Cockcroft)型加速器、范德格拉芙(VandeGraaff)型加速器、線性加速器、電子感應(yīng)加速器、回旋加速器等加速器加速了的電子束，此外也可以使用從放射性同位元素、原子反應(yīng)堆等放射的Y射線、X射線、cc射線、中子束、質(zhì)子束等放射線。作為紫外線源，可列舉例如紫外線螢光燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、碳弧燈、太陽燈等。放射線中包括例如微波、EUV。另外，本發(fā)明中，也可以優(yōu)選使用LED、半導(dǎo)體激光、或者248nm的KrF準(zhǔn)分子激光、193nmArF準(zhǔn)分子激光等可用于半導(dǎo)體的細微加工的激光。這些光可以使用單色光，也可以使用多個波長的不同的光(混合光)。光照射量只要比固化所需的照射量充分大就可以。固化所需的照射量，通過調(diào)查光固化型組合物的不飽和鍵的消耗量、固化膜的膠粘性來決定。另外，光照射時的基板溫度，通常在室溫進行，為提高反應(yīng)性也可以一邊加熱一邊進行光照射。作為光照射的前階段，若事先至于真空狀態(tài)，則有防止氣泡混入、抑制由混入氧所至的反應(yīng)性降低、使模具與光固化型組合物的密接性提高的效果，因而可以在真空狀態(tài)進行光照射。本發(fā)明中，優(yōu)選的真空度為從10"Pa至常壓的范圍。熱處理本發(fā)明中，優(yōu)選對所得的抗蝕圖案進行熱處理。通過熱處理促進固化反應(yīng)，可以使抗蝕圖案的膜強度提高。加熱溫度優(yōu)選100260。C，更優(yōu)選10025(TC，更優(yōu)選11024(TC。加熱溫度為100'C以下時，有時熱處理所致的膜強度提高不充分。另一方面，若加熱溫度超過26(TC，則有時在加熱中抗蝕圖案成分發(fā)生分解，膜質(zhì)變?nèi)?。本發(fā)明的進行熱處理的裝置沒有特別的限制，可以從公知的裝置中根據(jù)目的進行適當(dāng)?shù)倪x擇。例如，可列舉烘箱、加熱板、IR加熱器等。另夕卜，使用加熱板時，為均勻地進行加熱，期望使形成了圖案的基材浮于加熱板之上而進行。加熱時間優(yōu)選3分鐘60分鐘，更優(yōu)選430分鐘。本發(fā)明的感光性組合物可以優(yōu)選作為用于液晶顯示裝置等中的永久膜(結(jié)構(gòu)部件用的抗蝕劑)而使用。此外，針對保護膜/墊片，在日本特開2007-272222號公報、日本特開2007-86464號公報、日本特開2006-208480號公報中有詳細說明。實施例以下列舉實施例進一步對本發(fā)明迸行具體地說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等，只要不脫離本發(fā)明的主旨，可以適當(dāng)變更。因此，本發(fā)明的范圍并不限于以下所示的具體例。<旋涂涂覆適應(yīng)性的評價方法>旋涂機覆適應(yīng)性采用以下方法評價。在形成有膜厚4000埃的鋁(Al)被膜的4英寸的0.7mm厚的玻璃基板上，以厚度為6.0pm的方式，旋涂感光性組合物，之后將該玻璃基板靜置l分鐘，進行表面狀態(tài)觀察，按以下所述進行評價。5:未觀察到凹陷和涂覆條紋(striation)4:觀察到極細微的涂覆條紋3:觀察到弱的涂覆條紋2:觀察到涂覆條紋和凹陷(基板整體上不足10個)1:在整個基板上觀察到10個以上凹陷，或觀察到嚴(yán)重的涂覆條紋<剝離后的圖案形狀的評價方法>曝光后，通過掃描型電子顯微鏡觀察將模具剝離后的試樣的圖案形狀，按以下所述進行評價。5:抗蝕圖案的形狀與作為源圖形的模具的形狀幾乎相同(抗蝕圖案的形狀與模具的形狀的不同部分不足5%)4:抗蝕圖案的形狀與作為源圖形的模具的形狀不同的部分為整體的5%以上且不足10%3:抗蝕圖案的形狀與作為源圖形的模具的形狀不同的部分為整體的10%以上且不足20%222:抗蝕圖案的形狀與作為源圖形的模具的形狀不同的部分為整體的20%以上不足30%通過剝離的塊數(shù)(77數(shù))，按以下所述進行評價。5:剝離的隔片數(shù)(^7數(shù))為O塊(77)4:剝離的隔片數(shù)超過O塊，不足5塊3:剝離的隔片數(shù)為5塊以上不足10塊2:剝離的隔片數(shù)為10塊以上不足15塊將經(jīng)熱處理的試樣的涂膜的一部分使用刮刀除去，形成與涂膜厚度相當(dāng)?shù)母叩筒?。對該高低差部分的厚?Dl)，使用表面粗度形狀測定機SURFCOM1400D-12(東京精密公司制)進行測定。測定倍率為20000倍。接著，對試樣在20(TC進行30分鐘熱處理后，同樣的方法測定高低差部分的厚度(D2)?；贒1、D2，以下述式計算加熱時的膜厚減少率(耐熱性的指標(biāo))。膜厚減少率(1-D2/D1)*100(式l)將結(jié)果按下述排序。5:膜厚減少率不足2%4:膜厚減少率為2%以上不足5%3:膜厚減少率為5%以上不足10%4:膜厚減少率為10%以上不足15%5:膜厚減少率為15%以上<曝光后的官能團的反應(yīng)率的評價方法>(1)制作涂覆液，該涂覆液中，相對于僅含有成為測定對象的官能團作為聚合性官能團的單體100質(zhì)量份，添加了5質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑(2，2-二甲氧基-l，2-二苯基乙垸-l-酮)。(2)接著，使用旋涂裝置(旋涂機1HDX2，Mikasa公司制)，將該涂覆液以干燥膜厚為6.0士0.1pm的方式涂覆于玻璃基板上，。(3)然后，對試樣實施氮脫氣，在氧為1體積％以下的氣氛下保持l分鐘。氮的體積分率使用GASTEC公司制氧濃度計GOA-6H進行測23200910169157.6定。(4)接著，在經(jīng)氮脫氣的狀態(tài)下，使用高壓水銀燈(ORC公司制的高壓水銀燈(燈功率2000mW/cm2))，以100mJ/cm2(照度10mW，曝光時間10秒)的條件進行曝光。此外，照度使用浜松光子學(xué)公司制照度計燈功率測定儀型號C6080-13進行測定。(5)曝光后的試樣的反應(yīng)率用以下方法求算。.使用傅立葉變換型紅外分光裝置(FT-IR)，求出該涂膜的810cm"的吸收峰的面積(Sl)。曝光后，同樣地使用傅立葉變換型紅外分光裝置，求出810cm"的吸收峰的面積(S2)。使用下述式計算反應(yīng)率。此外，測定S1和S2時，減去傅立葉變換型紅外分光裝置的光譜圖的基線。另外，測定含有環(huán)氧基的單體時，使用910cm"的吸收峰代替810cm—'的吸收峰。曝光后的反應(yīng)率S2/S1*100(式2)測定的反應(yīng)率在上述表l中示出。<加熱處理后的官能團的反應(yīng)率的評價方法>測定了曝光后的單體反應(yīng)率的試樣使用空氣恒溫槽(大和(YAMOTO)科學(xué)公司制，ConstantTemperatureOvenDN43H)在200。C進行30分鐘熱處理，然后使用傅立葉變換型紅外分光裝置測定810cm"的吸收峰的面積(S3)。曝光后時同樣地用下述式計算反應(yīng)率。此外，在測定S3時，也要減去傅立葉變換型紅外分光裝置的光譜倒的基線。加熱處理后的反應(yīng)率S3/S1*100(式3)這種情況下，測定含有環(huán)氧基的單體時，使用910cm"的吸收峰代替810cm—'的吸收峰。測定的反應(yīng)率在上述表l中示出。實施例l<感光性組合物的制作>將70.0質(zhì)量份的作為聚合性單體(A)上述例示化合物中所示的M-l、30.0質(zhì)量份的作為1官能以上的聚合性單體(B)的e'^-—卜#160(大阪有機化學(xué)工業(yè)公司)、2.0質(zhì)量份的作為光聚合引發(fā)劑的2，4，6-三甲基苯甲酰基-乙氧基苯基-氧化膦(BASF公司制LucirinTPO-L)(P-l)、0.01質(zhì)量份的表面活性劑F780F(大日本油墨化學(xué)工業(yè)公司制)、l.O質(zhì)量份的抗氧化劑IRGANOX1035FF(汽巴精化公司制)、10.0質(zhì)量份的硅垸偶聯(lián)劑KBM5103(信越有機硅公司制)、0.20質(zhì)量份的改性硅油X22-3710(信越有機硅公司制)混合。將該混合物在室溫攪拌24小時，得到本發(fā)明的感光性組合物。用上述的方法測定該感光性組合物的粘度。<形成有抗蝕圖案的基板的制作〉使用所得的組合物，采用以下工序制造形成有抗蝕圖案的基板。(1)在形成有膜厚4000埃的鋁(Al)被膜的4英寸、0.7mm厚的玻璃基板上，以厚度為6.0pm的方式進行旋涂。(2)將經(jīng)旋涂的涂覆基板安裝于ORC公司制的納米壓印裝置，以模具加壓力0.8kN，將模具按壓于基板。模具具有l(wèi)(^m的線/空白圖案，是溝深為5.(Him的聚二甲基硅氧烷(東麗/道康寧公司制，將S1LP0T184在8(TC加熱60分鐘使其固化而得的固化物)。(3)接著，減壓使納米壓印裝置的真空度為10Torr，使用附帶的高壓水銀燈(燈功率2000mW/cm2)，從模具的內(nèi)面，以100mJ/cr^的條件進行曝光。(4)曝光后，將模具從基板剝離。(5)將剝離的基板在20(TC進行30分鐘熱處理，得到形成有抗蝕圖案的基板。針對該試樣，評價其旋涂機涂覆適應(yīng)性、圖案的形狀、曝光后的粘接性、耐熱性。結(jié)果在下述表中示出。實施例219，比較例18除了按下述表所述改變單體的種類和含量以外，與實施例1同樣的方式，實施實施例、比較例。在此，比較例中使用的化合物M-lOl和M-102為下述表示的化合物。另外，NPGDA為新戊二醇二丙烯酸酯(大阪有機化學(xué)公司制，^^-一K215)。25<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>結(jié)果在下述表中示出。<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>實施例2026使用實施例2的感光性組合物，除了將上述(5)的熱處理條件按下述表所示變更以外，以實施例2同樣的方式實施實施例2026。對于熱處理后的試樣，通過掃描型電子顯微鏡觀察抗蝕圖案的形狀，發(fā)現(xiàn)無任何模具崩壞，顯示了良好的形狀。另外，也評價耐熱性。結(jié)果在下述表中示出。<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>除了將實施例2026單體的種類按表4所示變更以外，采用與實施例1同樣的方法實施實施例2736。結(jié)果在表4中示出。這里釆用的化合物如下所述。M46:根據(jù)以下方法合成。在氯乙酸烯丙基酯13.5g、丙烯酸15g、N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)100ml的混合溶液中，加入碳酸鉀15g，在8(TC反應(yīng)6小時。在反應(yīng)溶液中加入乙酸乙酯200ml、水200ml，分離有機層。濃縮有機層，將粗產(chǎn)物通過硅膠柱色譜進行純化，得到目標(biāo)產(chǎn)物15.5g。M47:2-甲基丙烯酰氧基乙基異氰酸酯(KarenzMOI，昭和電工公司制)M48:甲基丙烯酸縮水甘油酯(Light-EsterG，共榮社化學(xué)公司)M201:季戊四醇三丙烯酸酯(NKEsterA-TMM-3，新中村化學(xué)公司)M202:按以下方法合成。將反式烏頭酸(17g)、烯丙基溴(48g)、碳酸鉀(60g)、NMP(200ml)混合，使混合溶液在90。C反應(yīng)12小時。在反應(yīng)液中加入乙酸乙酯G00ml)、0.5NHC1水溶液(500ml)，分離有機層。濃縮有機層，將粗產(chǎn)物以硅膠柱色譜進行純化，得到下述化合物52g。M203:DENACOLEx212L(NagasechemteX公司)<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>通過上述結(jié)果可知，本發(fā)明的感光性組合物的粘度低，涂覆適應(yīng)性良好，耐熱性優(yōu)良。另夕卜，對曝光后的基板的粘接性良好。進而，本發(fā)明的感光性組合物所形成的圖案的形狀良好。本發(fā)明的感光性組合物中的有機溶劑含量少，因此不但形成的圖案的形狀不發(fā)生劣化，而且與有機溶劑相關(guān)的臭氣等問題也少。工業(yè)上的可利用性通過使用本發(fā)明的感光性組合物，在光納米壓印技術(shù)中，可以得到模具的凹凸隨動性良好且熱處理時的膜厚減少小、有良好形狀的抗蝕圖案。進而，在使用光納米壓印技術(shù)的加工基板中，能夠?qū)ζ毓夂蟮幕宓穆N曲發(fā)生、抗蝕圖案與基板間的粘接性進行改良。權(quán)利要求1.一種感光性組合物，其是在1分子中至少含有0.01～99.99質(zhì)量％的以下的聚合性單體(A)、0～98質(zhì)量％的1官能以上的聚合性單體(B)、0.1～15質(zhì)量％的光聚合引發(fā)劑的感光性組合物，所述聚合性單體(B)為除相當(dāng)于聚合性單體(A)以外的單體，所述聚合性單體(A)在1分子中具有1種以上的含乙烯性不飽和雙鍵的官能團X和1種以上的官能團Y，以下述曝光條件進行曝光時，官能團X的反應(yīng)率為50％以上，官能團Y的反應(yīng)率不足50％，并且以下述曝光條件進行曝光后，再在200℃進行30分鐘熱處理后，官能團X和官能團Y的反應(yīng)率均為80％以上，曝光條件將組合物以使干燥膜厚為6μm的方式涂覆在基板上，使用高壓水銀燈對所得涂膜在100mJ/cm2的條件下進行曝光，所述組合物中，相對于僅含有1種官能團作為聚合性官能團的聚合性單體100質(zhì)量份，添加有5質(zhì)量份的2，2-二甲氧基-1，2二苯基乙烷-1-酮作為光聚合引發(fā)劑。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y具有乙烯性不飽和雙鍵。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的感光性組合物，其特征在于，聚合性單體(A)的含量為1099質(zhì)量。Z。4.根據(jù)權(quán)利要求l所述的感光性組合物，其特征在于，聚合性單體(B)的含量為70質(zhì)量％以下。5.根據(jù)權(quán)利要求l所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y的個數(shù)為110。6.根據(jù)權(quán)利要求14中任一項所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團X的個數(shù)為1，所述聚合性單體(B)所具有的官能團的個數(shù)為110。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團X為(甲基)丙烯酸酯基。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的感光性組合物，其特征在于，所述官能團Y選自烯丙基酯基、乙烯基醚基、烯丙基醚基、炔丙基醚基、炔丙基酯基、環(huán)己烯基、環(huán)戊烯基、二環(huán)戊烯基、苯乙烯基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、垸氧基甲硅垸基和異氰酸酯基。9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的感光性組合物，其特征在于，重均分子量為1000以上的高分子的含量為10質(zhì)量％以下。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的感光性組合物，其特征在于，非反應(yīng)性的有機溶劑的添加量為10質(zhì)量％以下。11.一種加工基板的制造方法，其特征在于，使用權(quán)利要求110中任一項所述的感光性組合物。12.—種加工基板的制造方法，包括下述〔工序1〕〔工序4〕，〔工序1〕使基板與在表面具有所需抗蝕圖案的反轉(zhuǎn)圖案的模具組合，使權(quán)利要求110中任一項所述的感光性組合物夾持在所述基板的表面與所述模具的圖案面之間的工序；(工序2〕通過曝光，使所述感光性組合物中的聚合性單體聚合，從而在基板上形成抗蝕圖案的工序；〔工序3〕將模具從形成有抗蝕圖案的基板剝離的工序；〔工序4)對形成有抗蝕圖案的基板在100。C以上的溫度進行5分鐘以上的熱處理的工序。13.—種固化物，其是使權(quán)利要求110中任一項所述的感光性組合物固化而得。14.一種基板，其通過權(quán)利要求12所述的基板的制造方法得到。全文摘要本發(fā)明提供模具的凹凸隨動性良好，且熱處理時的膜厚減少小，可以得到良好形狀的抗蝕圖案的感光性組合物。在1分子中至少含有0.01～99.99質(zhì)量％的以下的聚合性單體(A)、0～98質(zhì)量％的1官能以上的聚合性單體(B)(除相當(dāng)于聚合性單體(A)以外的單體)、0.1～15質(zhì)量％的光聚合引發(fā)劑的感光性組合物，上述聚合性單體(A)在1分子中具有1種以上的含乙烯性不飽和雙鍵的官能團X和1種以上的官能團Y，以下述曝光條件進行曝光時，官能團X的反應(yīng)率為50％以上，官能團Y的反應(yīng)率不足50％，并且以下述曝光條件進行曝光后，再在200℃進行30分鐘熱處理后，官能團X和官能團Y的反應(yīng)率均為80％以上。曝光條件將組合物以使干燥膜厚為6μm的方式涂覆在基板上，使用高壓水銀燈對所得涂膜在100mJ/cm²的條件下進行曝光，該組合物中，相對于僅含有1種官能團作為聚合性官能團的聚合性單體100質(zhì)量份，添加有5質(zhì)量份的2，2-二甲氧基-1，2二苯基乙烷-1-酮作為光聚合引發(fā)劑。文檔編號G03F7/00GK101673053SQ20091016915公開日2010年3月17日申請日期2009年9月11日優(yōu)先權(quán)日2008年9月11日發(fā)明者畠山晶申請人:富士膠片株式會社