專利名稱：：光掩膜版及光掩膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種光掩膜版(photomaskblanks)及光掩膜。更詳細(xì)來講，涉及一種可以制作在PDP、FED、LCD等平板顯示器、CRT用蔭罩、印刷線路板、半導(dǎo)體等領(lǐng)域中的光刻工序中可以使用的光掩膜的光掩膜版、利用其而得到的光掩膜。
背景技術(shù)：
：作為在平板顯示器、CRT用蔭罩、印刷線路板、半導(dǎo)體等領(lǐng)域中的光刻工序中使用的光掩膜，已知有設(shè)有金屬鉻層(Cr層)的Cr掩膜、設(shè)有鹵化銀乳劑層的Em掩膜(乳膠掩膜)(參照例如"教育文科會編、"光加工"(「7才卜77:/y亇一、>3乂」)、日本光加工協(xié)會發(fā)行、67~80頁、1992年6月")。Cr掩膜如下制作在石英或玻璃等透明基材上利用濺射法形成鉻層后，在其上通過涂敷等設(shè)置抗蝕劑，利用HeCd激光(442nm)等進(jìn)行曝光，利用堿性水溶液等中的顯影形成抗蝕劑的圖案，進(jìn)行鉻蝕刻及抗蝕劑的剝離。Cr掩膜具有可以修正針孔等缺陷、高分辨率、高耐久性(耐擦傷性)、高洗滌性均優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)。另一方面，Cr掩膜因制作工序繁瑣而價格昂貴，另外，在制造工藝上也存在由進(jìn)行鉻蝕刻而引起的廢液處理等環(huán)境方面的問題。Em掩膜如下制作將鹵化銀乳劑層(感光層)設(shè)置在石英或玻璃等透明基材上，利用YAG激光等進(jìn)行曝光、顯影、定影處理。由于用于制作Em掩膜的鹵化銀乳劑對光的感度高，因此，曝光能量可以小至0.1mJ/cm2以下，而且，其環(huán)境也優(yōu)異，為價格低廉的光掩膜版。相反，由于Em掩膜使用鹵化銀作為感光性材料，因此，分辨率不太高(3pm左右)，不適合制作極微細(xì)的圖案，另外，由于感光層為明膠膜，因此，耐久性欠缺。另外，Em掩膜存在實(shí)質(zhì)上難以進(jìn)行缺陷修正的缺點(diǎn)。另外，作為其它類型的光掩膜，已知有使用含有黑色顏料等黑色材料、且具有可以用近紫外光至可見光形成圖像的感光層的光掩膜版制作的光掩膜(參照日本特開2005-283914號公報(bào)、日本特開2001-343734號公報(bào)。)。該光掩膜版具有的感光層由于在制作光掩膜時照射的近紫外光至可見光區(qū)域中的吸光度小，因此感度高，另一方面，由于在使用光掩膜時照射的紫外區(qū)域的光的吸收特性良好，因此，通過對感光層進(jìn)行曝光，顯影，可以得到分辨率優(yōu)異的光掩膜。另外，該光掩膜的特征在于，由于其為不需要金屬膜的浮雕圖像，因此，可以簡便地進(jìn)行修正，感度或分辨率等的平衡良好，價格低廉且對環(huán)境的負(fù)荷也小。但是，在光掩膜的制作中使用感光層含有遮光材料的光掩膜版的情況下，在通過曝光形成圖像時遮光材料會吸收曝光光，因此，需要在強(qiáng)曝光條件下進(jìn)行曝光。但是，在強(qiáng)曝光條件下進(jìn)行曝光時，有時發(fā)生應(yīng)該作為非固化部的部分固化了的出乎意料的固化反應(yīng)，存在得到的光掩膜的分辨率下降的問題。另外，使用低感度的光掩膜版、尤其是在通過激光曝光形成圖像時，會導(dǎo)致生產(chǎn)率下降或不能描繪的問題。例如，在"布魯斯'夢盧(BuceM.Monroe)等著、《化學(xué)評論》(ChemicalRevue)、93巻、(1993年)，pp.435-448"或"R.S.戴維森(R.S.Davidson)著、《光化學(xué)與生物學(xué)雜志》(JournalofPhotochemistryandbiology)A:Chemmistry、第73巻、(1993年)、pp.81-96"中，作為應(yīng)用了感光性優(yōu)異的光引發(fā)體系的聚合性組合物，公開有各種組合物。但是，這些文獻(xiàn)中所公開的光聚合性組合物應(yīng)用于如光掩膜版中的感光層那樣需要含有高濃度的遮光材料的用途時，不能發(fā)揮充分的感度。關(guān)于激光，近年來使用例如InGaN類的材料、在350nm450nm域中可以連續(xù)振動的半導(dǎo)體激光器為實(shí)用階段。由于使用了這種短波光源的掃描曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)上可以廉價地制造半導(dǎo)體激光器，因此具有如下優(yōu)點(diǎn)具有足夠的輸出功率，并且可以構(gòu)筑經(jīng)濟(jì)的系統(tǒng)。而且，使用了短波光源的掃描曝光系統(tǒng)與使用現(xiàn)有的FD-YAG激光器(532nm)或Ar激光器(488nm)的系統(tǒng)相比，能夠在更明亮的安全燈下進(jìn)行操作，可以使用在短波長區(qū)域具有感光性的感光材料。另外，作為供于利用激光器的掃描曝光的光掩膜版具有的課題，有怎樣可以擴(kuò)大在激光照射部和未照射部中形成的圖像的開-關(guān)的課題，即兼具高感度和保存穩(wěn)定性的課題。關(guān)于提高光掩膜版的感度，通常光自由基聚合體系的感度高，但因空氣中的氧引起的聚合阻礙而大大降低了感度，因此，可采取在感光層上設(shè)置阻氧層的方法(參照例如日本特開2003-186176號公報(bào))。需要說明的是，關(guān)于阻氧層，在日本特開2004-117669號公報(bào)中記載了在光聚合型負(fù)型平版印刷版原版的領(lǐng)域中控制阻氧層的透氧性，使安全燈適用性等操作性等提高。
發(fā)明內(nèi)容在提高光掩膜版的感度時，在感光層上設(shè)置阻氧層的情況下，該阻氧層的阻氧性過高時，在保存時容易產(chǎn)生由暗聚合反應(yīng)引起的感光過度，存在長期保存適用性劣化的問題。另外還可知，在應(yīng)用了高濃度地含有遮光材料的體系的感光層中，由于曝光光僅到達(dá)至感光層表面附近，因此，當(dāng)阻氧層的阻氧性過高時，僅感光層表面部分進(jìn)行固化，而比其深的區(qū)域幾乎不固化，因此，在顯影時感光層的深的部分被挖掉，成為屋檐形狀，存在分辨率、圖像邊緣部的直線性劣化的問題。本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)中的問題而完成的發(fā)明，以實(shí)現(xiàn)以下目的為課題。艮P，本發(fā)明的目的在于，提供一種感度高且保存穩(wěn)定性優(yōu)異的光掩膜版及使用該光掩膜版制成的分辨率高、圖像邊緣部的直線性優(yōu)異的光掩膜。用于解決上述課題的方法如下所述。<1>一種光掩膜版，其特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的感光層和25。C下的透氧性為50ml/m2'dayatm以上500ml/m2'dayatm以下的阻氧層。<2〉如<1>所述的光掩膜版，其特征在于，所述阻氧層的膜厚為0.05pm以上1.5pm以下。<3>如<1>或<2>所述的光掩膜版，其特征在于，所述阻氧層為含有水溶性高分子化合物的層。<4>如<3>所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚乙烯醇。<5〉如<4>所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚乙烯醇的皂化度為30mol。/。以上85mol。/。以下。<6>如<4>所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚乙烯醇為酸改性聚乙烯醇。<7>如<3>所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚乙烯基吡咯烷酮。<8〉如<3>所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚亞烷基二醇。<9>如<8>所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚亞垸基二醇為聚乙二醇。<10>如<8>所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚亞垸基二醇具有乙二醇及丙二醇作為構(gòu)成單元。<11>如<3>所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為丙烯酸系樹脂。<12>如<11〉所述的光掩膜版，其特征在于，所述丙烯酸系樹脂為選自聚丙烯酸及其衍生物中的至少1種。<13>如<12>所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚丙烯酸衍生物具有丙烯酸的金屬鹽作為構(gòu)成單元。<14>一種光掩膜，其特征在于，其通過如下方法制作使用放射390nm以上450nm以下的光的激光器，對<1>所述的光掩膜版以圖像樣式曝光后顯影。根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種感度高且保存穩(wěn)定性優(yōu)異的光掩膜版及使用該光掩膜版制成的分辨率高、圖像邊緣部的直線性優(yōu)異的光掩膜。具體實(shí)施例方式下面，對本發(fā)明的光掩膜版及使用該光掩膜版制成的光掩膜(本發(fā)明的光掩膜)進(jìn)行說明。[光掩膜版]本發(fā)明的光掩膜版的特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的感光層和25。C下的透氧性為50ml/m、dayatm以上500ml/m2'dayatm以下的阻氧層。下面，對本發(fā)明的光掩膜版中的各構(gòu)成要素進(jìn)行說明。(阻氧層)對本發(fā)明的光掩膜版具有的阻氧層進(jìn)行說明。本發(fā)明中的阻氧層的特征在于，其是在25"C下的透氧性為50ml/m2'dayatm以上500ml/m2'dayatm以下的層。阻氧層具有的透氧性在上述范圍內(nèi)，即使為具有高感度的感光層的情況，在制造及保存光掩膜版時也不會發(fā)生不必要的聚合反應(yīng)，另外，在制作光掩膜時的圖像曝光時，也不存在發(fā)生不必要的感光過度、畫線變粗的問題。因此，利用具有所述特征的本發(fā)明的光掩膜版，可以得到具有高分辨率和良好的圖像邊緣部的直線性的光掩膜。阻氧層具有的透氧性為50ml/m2.day'atm以上500ml/m2'dayatm以下，優(yōu)選為80ml/m2.dayatm以上480ml/m2'dayatm以下，更優(yōu)選為100ml/m2.dayatm以上470ml/m2.day.atm以下，最4尤選為250ml/m2'day.atm以上460ml/m2'dayatm以下。在本說明書中，阻氧層具有的透氧性為利用以下的測定方法(膜康法)測定的透氧率。一透氧性的測定方法一在透氧性高的聚乙烯膜(通過溶解除去富士膠片株式會社制"EVER-BEAUTYPAPER"的表面明膠層而制成的聚乙烯層壓紙)上，涂敷與感光層上形成的阻氧層同樣的組成的涂膜并使其干燥，制作測定用的樣品。根據(jù)JIS-K7126B及ASTM-D3985中記載的透氣率試驗(yàn)方法，使用膜康公司制OX-TRAN2/21，在25°C、60%RH的環(huán)境下測定透氧率(ml/m2-day.atm)?？梢酝ㄟ^如下所述的各種方法或適當(dāng)組合這些各種方法來控制阻氧層具有的透氧性，即，調(diào)整阻氧層含有的各成分的種類及含量(具體而言，8例如調(diào)整聚乙烯醇的皂化度、添加增塑劑等)、調(diào)整阻氧層的膜厚、采用顯示出優(yōu)選的透氧性的樹脂等。另外，作為阻氧層的特性，除上述透氧性之外，進(jìn)一步優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不阻礙用于曝光的光的透過、與感光層的密接性優(yōu)異且可以在曝光后的顯影工序中容易地除去。<水溶性高分子化合物>從阻氧性及顯影性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選阻氧層含有水溶性高分子化合物。作為可以用于阻氧層的水溶性高分子化合物，沒有特別限定，可列舉例如聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯垸酮、聚亞垸基二醇(聚乙二醇、聚丙二醇等)、丙烯酸系樹脂(聚丙烯酸等)、纖維素等。在這些水溶性高分子化合物中，作為特別優(yōu)選用于阻氧層的水溶性高分子化合物，可列舉聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯垸酮、聚亞烷基二醇及丙烯酸系樹脂。用于阻氧層的聚乙烯醇是具有未取代乙烯醇單元作為聚合單元的高分子化合物即可，在本發(fā)明中的聚乙烯醇中還包含其一部分用酯、醚或乙縮醛取代的衍生物。聚乙烯醇可以是具有乙烯醇單元以外的聚合單元的共聚物，作為這種共聚物，可列舉例如乙烯醇/乙烯基吡咯烷酮共聚物等。作為聚乙烯醇，可以優(yōu)選使用酸改性聚乙烯醇。在此，所謂酸改性聚乙烯醇，是指具有羧基等酸基的聚乙烯醇衍生物。酸改性聚乙烯醇只要在高分子中含有具有酸基的構(gòu)成單元即可，該酸基可以是使用具有酸基的共聚成分導(dǎo)入高分子中而成的酸基，也可以是在聚乙烯醇聚合后使乙烯醇單元的羥基等和具有酸基的化合物反應(yīng)來導(dǎo)入而成的酸基。作為優(yōu)選的酸改性聚乙烯醇，可列舉乙烯醇/酞酸乙烯酯共聚物、乙烯醇/衣康酸共聚物等，其中，優(yōu)選乙烯醇/衣康酸共聚物等。酸改性聚乙烯醇優(yōu)選乙烯醇共聚比為85%以上的酸改性聚乙烯醇。例如，如果是使用乙烯醇/衣康酸共聚物作為酸改性聚乙烯醇的情況，則優(yōu)選乙烯醇共聚比為90%以上的共聚物、特別優(yōu)選乙烯醇共聚比為95~99.5%的共聚物作為該共聚物。作為乙烯醇/衣康酸共聚物，也可以使用市售品，具體可列舉日本株式會社可樂麗公司制造的KL-504、KL-506。從阻氧性的觀點(diǎn)考慮，聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選為40mol。/。以上85mol%以下。尤其是更優(yōu)選皂化度為60mol。/。以上88mol。/。以下的聚乙烯醇，最優(yōu)選皂化度為70mol。/。以上85mol。/。以下的聚乙烯醇。另外，作為聚乙烯醇，優(yōu)選使用聚合重復(fù)單元在3002400的范圍的聚乙烯醇。作為聚乙烯醇，也可以使用市售品，具體可列舉日本株式會社可樂麗公司制造的PVA-405、PVA-420、PVA-505等。在本發(fā)明中，可以用于阻氧層的聚乙烯基吡咯烷酮、聚亞烷基二醇、丙烯酸系樹脂、纖維素等也包含其衍生物。作為聚乙烯基吡咯垸酮，可列舉例如聚乙烯基吡咯烷酮均聚物。另外，作為聚乙烯基吡咯烷酮，優(yōu)選粘均分子量為500050000的聚乙烯基吡咯烷酮。作為聚乙烯基吡咯垸酮，也可以使用市售品，具體優(yōu)選BASF公司制造的PVPK15、PVPK30。作為聚亞烷基二醇，可列舉例如聚乙二醇、乙二醇/丙二醇共聚物等。作為聚乙二醇，優(yōu)選重均分子量為5000-100000的聚乙二醇。作為聚乙二醇，也可以使用市售品，具體優(yōu)選日本和光純藥株式會社制造的PEG#10000、PEG#5000。作為乙二醇/丙二醇共聚物，優(yōu)選共聚比為90:1070:30、分子量為200020000的乙二醇/丙二醇共聚物。作為乙二醇/丙二醇共聚物，也可以使用市售品，具體可列舉株式會社ADEKA制造的PluronicL44、PluronicL62、PluronicL64、PluronicF68、PluronicP84、PluronicF9。作為丙烯酸系樹脂，可列舉例如聚丙烯酸及其衍生物。作為聚丙烯酸衍生物，可列舉例如具有丙烯酸的金屬鹽作為構(gòu)成單元的聚丙烯酸衍生物。作為這種聚丙烯酸衍生物，也可以使用市售品，具體可列舉東亞合成株式會社制造的AronA-93、AronA-1015、AronA-1017。對水溶性高分子化合物而言，在阻氧層中可以僅含有l(wèi)種，也可以并10用2種以上。作為阻氧層中的水溶性高分子化合物的含量，在阻氧層的總固體成分中，優(yōu)選為80質(zhì)量％~99.5質(zhì)量％，更優(yōu)選為85質(zhì)量％~99.5質(zhì)量％,進(jìn)一步優(yōu)選為80質(zhì)量％99.5質(zhì)量％。<表面活性劑>在阻氧層中可以添加表面活性劑。作為表面活性劑，可以使用例如聚氧乙烯蓖麻油醚、聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯十六烷基醚、聚氧乙烯硬脂酸醇醚等聚氧乙烯垸基醚類、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯垸基芳基醚類、聚氧乙烯硬脂酸酯等聚氧乙烯烷基酯類、山梨糖醇酐單月桂酸酯、山梨糖醇酐單硬脂酸酯、山梨糖醇酐二硬脂酸酯、山梨糖醇酐單油酸酯、山梨糖醇酐倍半油酸酯、山梨糖醇酐三油酸酯等山梨糖醇酐烷基酯類、甘油單硬脂酸酯、甘油單油酸酯等單甘油酯垸基酯類等非離子表面活性劑；十二垸基苯磺酸鈉等烷基苯磺酸鹽類、丁基萘磺酸鈉、戊基萘磺酸鈉、己基萘磺酸鈉、辛基萘磺酸鈉等垸基萘磺酸鹽類、月桂基硫酸鈉等浣基硫酸鹽類、十二烷基磺酸鈉等烷基磺酸鹽類、二月桂基磺基琥珀酸鈉等磺基琥珀酸酯鹽類等陰離子表面活性劑；月桂基甜菜堿、硬脂?；鸩藟A等烷基甜菜堿類、氨基酸類等兩性表面活性劑。作為可以用于阻氧層的特別優(yōu)選的表面活性劑，可列舉聚氧乙烯蓖麻油醚類表面活性劑。作為聚氧乙烯蓖麻油醚類表面活性劑的主要成分的蓖麻油為利用壓榨法從蓖麻的種子中得到的植物性的不干性油。相對種子整體，含有3557%的油。成分含有約85%的不飽和羧酸的蓖麻醇酸。蓖麻醇酸為末端具有羧基、12位上具有羥基、9位上具有不飽和雙鍵的硬脂酸衍生物。聚氧乙烯蓖麻油醚表面活性劑為使作為該蓖麻油的主要成分的蓖麻醇酸與環(huán)氧乙烷加成而合成的非離子類表面活性劑的總稱。在加成反應(yīng)過程中，根據(jù)條件蓖麻醇酸的羥基和羧酸基發(fā)生反應(yīng)而成為聚酯，也可以形成含有分子量達(dá)到1萬2萬的高分子的表面活性劑。另外，還包含使蓖麻醇酸的甘油與環(huán)氧乙烷加成而成的類型的表面活性劑。聚氧乙烯蓖麻油醚表面活性劑的HLB優(yōu)選為10.0~16.0,更優(yōu)選為11.0~15.0。HLB小于10.0時，水溶性低，添加在聚乙烯醇的水溶液中時，有時會發(fā)生渾濁。另外，HLB大于16時，親水性過高，有時會使阻氧層的吸濕性增加。另外，從摩擦系數(shù)及溶解性的觀點(diǎn)考慮，聚氧乙烯蓖麻油醚表面活性劑的重均分子量為8005000，優(yōu)選為10003000。作為這種聚氧乙烯蓖麻油醚表面活性劑的具體例，可以列舉竹本油脂株式會社制造的派奧恁(A^才二y)D-225、派奧恁D-240-W、派奧係D-230、派奧恁D-236、派奧恁D-225-K、花王株式會社制造的EMANONCH陽25、EMANONCH-40、EMANONCH-60等。使用聚氧乙烯蓖麻油醚表面活性劑的情況下，在阻氧層的總固體成分中，其添加量優(yōu)選為1.010質(zhì)量％，更優(yōu)選為2.0~6.0質(zhì)量％。添加量變少時，有時摩擦系數(shù)下降的效果變小，另一方面，添加量過多時，阻氧層的涂敷性劣化，有時發(fā)生涂敷不均。作為阻氧層中的表面活性劑的含量，在阻氧層的總固體成分中，優(yōu)選為0.12質(zhì)量％。阻氧層的膜厚優(yōu)選為0.05pm以上1.5pm以下，更優(yōu)選為O.lpm以上l.Ojim以下。阻氧層可以通過制備用于形成阻氧層的涂敷液、將該涂敷液涂敷在感光層上來形成。關(guān)于阻氧層的涂敷方法，可以應(yīng)用逐次涂敷法和一次性進(jìn)行多層涂敷的方法的任一種方法。(感光層)本發(fā)明的光掩膜版具有的感光層為含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的感光層。感光層為可以用紫外光至可見光形成圖像的層。即，感光層為利用紫外光至可見光進(jìn)行圖像樣式的曝光后，使用顯影液進(jìn)行顯影處理，由此可以形成圖像的層。在環(huán)境問題上，感光層優(yōu)選為堿顯影型的層，即，曝光部分固化、在堿顯影液中不溶化的感光層。本發(fā)明中的感光層優(yōu)選為至少含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物，且由利用紫外光至可見光的曝光而聚合、固化的感光性組合物形成的層。作為該感光性組合物，可列舉例如至少含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的光聚合性組合物。下面，對感光層含有的各成分進(jìn)行說明。<遮光材料〉感光層含有遮光材料。本發(fā)明中的遮光材料是指吸收250nm400nm的光、優(yōu)選形成涂膜時的光密度(O.D.)為2.5以上7.0以下的光吸收劑。本發(fā)明中的遮光材料為具有使應(yīng)用光掩膜的活性光線的波長的光反射、吸收而不透過的功能的材料，具體而言，為實(shí)質(zhì)上對用作掩膜時的曝光光源(水銀燈、金屬鹵化物燈、氤燈等)發(fā)出的波長域200nm450nm、優(yōu)選250nm400nm左右的光可以遮避的材料，是指形成涂膜時需要的光密度(O.D.)為2.5以上7.0以下、優(yōu)選為3.0以上7.0以下的材料。本發(fā)明中的遮光材料根據(jù)利用光掩膜版制成的光掩膜的使用目的等適當(dāng)選擇即可。作為遮光材料，具體而言，優(yōu)選使用金屬粒子(包括金屬化合物粒子、復(fù)合粒子、芯殼粒子等)、顏料及其以外的粒子、富勒烯等。作為可以用于本發(fā)明的遮光材料，優(yōu)選為黑色材料，作為該黑色材料，優(yōu)選黑色顏料及金屬微粒的至少1種。下面，對可以應(yīng)用于本發(fā)明的遮光材料進(jìn)行詳細(xì)說明。一金屬粒子一使用金屬粒子作為遮光材料的情況下，該金屬粒子可以是由l種金屬構(gòu)成的金屬粒子，也可以是組合有2種以上的金屬的金屬粒子，還可以是合金。另外，金屬粒子可以是金屬和金屬化合物的復(fù)合微粒。從遮蔽能力、耐光性、耐熱性的觀點(diǎn)考慮，可以優(yōu)選使用含有金屬化合物的粒子作為遮光材料。作為金屬粒子中所含的優(yōu)選的金屬的實(shí)例，可以列舉選自銅、銀、金、鉑、鈀、鎳、錫、鈷、銠、銥、鐵、鈣、釕、鋨、錳、鉬、鎢、鈮、鉭、鈦、鉍、銻、鉛及它們的合金中的至少1種。進(jìn)一步優(yōu)選的金屬為選自銅、銀、金、鉑、鈀、鎳、錫、鈷、銠、鈣、銥及它們的合金中的至少l種，更優(yōu)選的金屬為選自銅、銀、金、鉑、鈀、錫、鈣及它們的合金中的至少131禾中，特別優(yōu)選的金屬為選自銅、銀、金、鉬、錫及它們的合金中的至少l種。尤其優(yōu)選銀粒子(作為銀，優(yōu)選膠體銀)，還優(yōu)選具有銀錫合金部的粒子。對具有銀錫合金部的粒子在后面進(jìn)行敘述。所謂金屬化合物，為上述金屬和金屬以外的其它元素的化合物。作為金屬和其它元素的化合物，可列舉金屬的氧化物、硫化物、硫酸鹽、碳酸鹽等，作為金屬化合物粒子，優(yōu)選這些粒子。其中，從色相或微粒形成的容易程度考慮，優(yōu)選硫化物的粒子。作為金屬化合物的實(shí)例，有氧化銅(11)、硫化鐵、硫化銀、硫化銅(n)、鈦黑等，但從色相、微粒形成的容易程度或穩(wěn)定性的觀點(diǎn)考慮，特別優(yōu)選硫化銀。復(fù)合粒子是指金屬和金屬化合物鍵合而成為1個粒子的粒子。可以列舉例如粒子的內(nèi)部和表面組成不同的粒子、2種粒子合二為一而成的粒子等。另外，金屬化合物和金屬可以分別為l種，也可以為2種以上。作為金屬化合物和金屬的復(fù)合微粒的具體例，優(yōu)選列舉銀和硫化銀的復(fù)合微粒、銀和氧化銅(II)的復(fù)合微粒等。使用復(fù)合粒子作為遮光材料的情況下，作為該復(fù)合粒子，可以是具有芯殼結(jié)構(gòu)的復(fù)合粒子(芯殼粒子)。所謂芯殼型的復(fù)合粒子(芯殼粒子)，是指用殼材料包覆芯材料的表面而成的粒子。作為構(gòu)成芯殼型的復(fù)合粒子的殼材料，可列舉例如選自Si、Ge、Al、Sb、InP、Ga、As、GaP、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdTe、PbS、PbSe、PbTe、Se、Te、CuCl、CuBr、Cul、T1C1、T舊r、T1I或它們的固溶體及含有其90mol。/。以上的固溶體中的至少1種半導(dǎo)體，或選自銅、銀、金、鉬、鈀、鎳、錫、鈷、銠、銥、鐵、釕、鋨、錳、鉬、鎢、鈮、鉭、鈦、鉍、銻、鉛、鈣及它們的合金中的至少l種金屬。為了使反射率下降，也優(yōu)選使用殼材料作為折射率的調(diào)節(jié)劑。作為優(yōu)選的芯材料，可以列舉選自銅、銀、金、鈀、鎳、錫、鉍、銻、鉛及它們的合金中的至少l種。具有芯殼結(jié)構(gòu)的復(fù)合粒子的制作方法沒有特別限制，作為代表的方法，可列舉以下的(1)及(2)。(1)通過氧化、硫化等在用公知的方法制成的金屬微粒的表面形成14金屬化合物的殼的方法，例如，使金屬微粒分散在水等分散劑中，添加硫化鈉或硫化銨等硫化物的方法。利用該方法，可以硫化粒子的表面而形成芯殼粒子o此時，使用的金屬粒子可以用氣相法、液相法等公知的方法制作。就金屬粒子的制作方法而言，記載于例如"超微粒子的技術(shù)和應(yīng)用中的最新動向n"(株式會社住友建設(shè)技術(shù)研究(住^x夕/y廿一于)、2oo2年發(fā)行)。(2)在制作金屬粒子的過程中，在表面連續(xù)形成金屬化合物的殼的方法，例如，在金屬鹽溶液中添加還原劑，還原一部分金屬離子，制作金屬微粒，接著添加硫化物，在制成的金屬微粒的周圍形成金屬硫化物的方法。金屬粒子除可以使用市售的金屬粒子之外，可以通過金屬離子的化學(xué)還原法、無電解電鍍法、金屬的蒸發(fā)法等來制備。例如，對棒狀的銀微粒而言，以球形銀微粒為種粒，其后，進(jìn)一步添加銀鹽，在CTAB(十六烷基三甲基溴化銨)等表面活性劑的存在下，使用抗壞血酸等還原力比較弱的還原劑，由此可得到銀棒或銀線。其在《先進(jìn)材料(AdvancedMaterials)》2002,14,80-82中有記載。另外，同樣地記載在《材料化學(xué)與物理(MaterialsChemistryandPhysics)》2004，84，197-204、《先進(jìn)功能材料(AdvancedFunctionalMaterials"2004,14,183-189。另外，作為使用有電分解的方法，記載于《材料快報(bào)(MaterialsLetters)》2001,49,91-95，通過照射微波而生成銀棒的方法記載于《材料研究學(xué)報(bào)(JournalofMaterialsResearch)》2004,19,469-473。相反，作為并用反膠束和超聲波的實(shí)例，可列舉《物理化學(xué)學(xué)報(bào)(JournalofPhysicalChemistry)》B2003,107,3679-3683。關(guān)于金粒子，同樣記載于《物理化學(xué)學(xué)報(bào)(JournalofPhysicalChemistry)》B1999，103、3073-3077及《朗繆爾(Langmuir)》1999,15,701-709、《美國化學(xué)會志(JournalofAmericanChemicalSociety)》2002,124,14316-14317。棒狀粒子的形成方法，也可以將上述記載的方法進(jìn)行改良(調(diào)節(jié)添加量、控制pH)而制備。作為具有銀錫合金部的粒子，包含由銀錫合金構(gòu)成的粒子、由銀錫合金部分和其它金屬部分構(gòu)成的粒子及由銀錫合金部分和其它合金部分構(gòu)成的粒子。在具有銀錫合金部的粒子中，至少一部分由銀錫合金構(gòu)成，這可以通過如下方法來確認(rèn)，例如，使用株式會社日立制作所制造的HD-2300和諾蘭(Noran)公司制造的EDS(能量分散型X射線分析裝置)，利用加速電壓200kV測定各個粒子的中心15nmX15nm區(qū)域的能譜。具有銀錫合金部的粒子的黑濃度高，少量使用或用薄膜可以顯現(xiàn)優(yōu)異的遮光性能，同時具有高的熱穩(wěn)定性，因此，可以在不損害黑濃度的情況下在高溫(例如200度以上)下進(jìn)行熱處理，可以穩(wěn)定地確保高度遮光性。一顏料及其以外的粒子一作為遮光材料，可以使用顏料及其以外的粒子。在使用顏料時，可以構(gòu)成更接近于黑色的色相。在使用顏料作為遮光材料時，可以單獨(dú)使用顏料，也可以與上述金屬粒子同時使用。作為顏料及其以外的粒子，可列舉例如包含碳黑、鈦黑、石墨等黑色材料的粒子。作為黑色顏料，可列舉例如脂溶性黑色HB(C.L26150)、莫若賴特堅(jiān)牢黑B(C.I.顏料黑1)及碳黑等。作為碳黑的實(shí)例，優(yōu)選PigmentBlack(顏料黑)7(碳黑C.I.No.77266)。作為市售品，可列舉三菱碳黑MA100(三菱化學(xué)株式會社制造)、三菱碳黑#5(三菱化學(xué)株式會社制)。作為鈦黑的實(shí)例，優(yōu)選Ti02、TiO、TiN或它們的混合物。作為市售品，可列舉三菱綜合材料株式會社制造的(商品名)12S或13M。在本發(fā)明中，也可以使用上述以外的公知的顏料作為遮光材料。顏料一般大致區(qū)分為有機(jī)顏料和無機(jī)顏料，但優(yōu)選有機(jī)顏料。作為優(yōu)選使用的顏料的實(shí)例，可以列舉偶氮類顏料、酞菁類顏料、蒽醌類顏料、二噁嗪類顏料、喹吖酮類顏料、異吲哚啉酮類顏料、硝基類顏料。這種有機(jī)顏料的色相可列舉例如黃色顏料、橙色顏料、紅色顏料、紫色顏料、藍(lán)色顏料、綠色顏料、褐色顏料、黑色顏料等。16下面，將本發(fā)明中可以使用的其它顏料等粒子列舉如下。但是，在本發(fā)明中，并不限定于這些。作為具體的實(shí)例，可以優(yōu)選使用日本特開2005-17716號公報(bào)中記載的色料、日本特開2005-361447號公報(bào)中記載的顏料、日本特開2005-17521號公報(bào)中記載的著色劑。另外，也可以參照"顏料手冊、日本顏料技術(shù)協(xié)會編、誠文堂新光社、1989"、"染料索引、英國染色家協(xié)會、第三版、(COLOURINDEX、THESOCIETYOFDYES&COLOURIST、THIRDEDITION)1987"中記載的顏料來適當(dāng)使用。在將顏料與金屬類粒子一起使用時，優(yōu)選使用與金屬類粒子的色相存在補(bǔ)色關(guān)系的顏料。另外，顏料可以使用l種，也可以2種以上組合使用。作為優(yōu)選的顏料的組合，可以列舉紅色類及藍(lán)色類的相互存在補(bǔ)色關(guān)系的顏料混合物和黃色類及紫色類的相互存在補(bǔ)色關(guān)系的顏料混合物的組合、或在上述混合物中進(jìn)一步加入有黑色顏料的組合、或藍(lán)色類和紫色類和黑色類的顏料的組合。作為本發(fā)明中的遮光材料，特別優(yōu)選為碳黑。使用碳黑作為遮光材料時，感光層可以僅含有碳黑，也可以并用碳黑和其它色料(例如其它著色劑)。在并用碳黑和其它色料的情況下，感光層中所含的全部著色劑中的50質(zhì)量％以上為碳黑時，可使感光層的色濃度為高濃度，故優(yōu)選。將使用顏料作為遮光材料時，優(yōu)選平均粒徑為5jim以下的顏料，更優(yōu)選平均粒徑為lpm以上4pm以下的顏料。需要說明的是，在用于形成感光層的感光性組合物中，優(yōu)選利用分散劑使顏料分散。感光層固體成分中的遮光材料的含量，考慮利用光掩膜版制作的光掩膜的濃度、制作光掩膜時的感度、分辨率等而確定，因其種類而異，優(yōu)選為1050質(zhì)量％，更優(yōu)選為1535質(zhì)量％。<粘合劑聚合物>感光層含有粘合劑聚合物。本發(fā)明中的粘合劑聚合物沒有特別限定，從對堿性水溶液的溶解性，顯影性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選具有酸基的有機(jī)聚合物，進(jìn)一步優(yōu)選含有羧基的有機(jī)聚合物。作為粘合劑聚合物的骨架，優(yōu)選選自丙烯酸樹脂、聚乙烯基乙縮醛樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚氨酯樹脂、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸樹脂、苯乙烯類樹脂、聚酯樹脂中的高分子骨架，其中，特別優(yōu)選丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、苯乙烯類樹脂等乙烯基共聚物、聚氨酯樹脂。作為粘合劑聚合物，優(yōu)選使用丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚氨酯、粘合劑聚合物的優(yōu)選的實(shí)例為具有(a)含有羧酸或磺酸的重復(fù)單元及(b)賦予自由基交聯(lián)性的重復(fù)單元的共聚物。作為(a)含有羧酸或磺酸的重復(fù)單元，優(yōu)選為含有羧酸的重復(fù)單元。作為(a)含有羧酸或磺酸的重復(fù)單元(以下也稱為重復(fù)單元(a)。)的具體例，可列舉以下的(a-l)~(a-13)所示的結(jié)構(gòu)，但本發(fā)明并不限定于這些結(jié)構(gòu)。將總重復(fù)單元數(shù)設(shè)定為100時，共聚物中的重復(fù)單元(a)的含量為其中的5~50、優(yōu)選為525、更優(yōu)選為515。作為(b)賦予自由基交聯(lián)性的重復(fù)單元(以下也稱為重復(fù)單元(b)。)的具體例，可列舉以下的(b-O(b-ll)所示的結(jié)構(gòu)，但本發(fā)明并不限定于這些結(jié)構(gòu)。將總重復(fù)單元數(shù)設(shè)定為100時，共聚物中的重復(fù)單元(b)的含量為其中的590、優(yōu)選為2085、更優(yōu)選為40~80。本發(fā)明中的粘合劑聚合物可以具有下述通式(1)表示的重復(fù)單元(以下也稱為重復(fù)單元(1)。)。(1)通式(1)中，X表示氧原子、硫原子或-NH-基團(tuán)，Y表示氫原子、20碳數(shù)112的烷基、碳數(shù)5~12的脂環(huán)式烷基、碳數(shù)620的具有芳香環(huán)的基團(tuán)。Z表示氧原子、硫原子或-NH-基團(tuán)，R，表示碳數(shù)118的烷基、碳數(shù)5~20的具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的垸基或碳數(shù)6~20的具有芳香環(huán)的基團(tuán)。作為重復(fù)單元(1)的具體例，可列舉以下的(1-1)(1-9)所示的結(jié)構(gòu)，但本發(fā)明并不限定于這些結(jié)構(gòu)。將總重復(fù)單元數(shù)設(shè)定為100時，重復(fù)單元(1)的含量為其中的1~40、優(yōu)選為3~25、更優(yōu)選為515。作為重復(fù)單元(a)、(b)、(1)的優(yōu)選的組合的具體例，可列舉下述表l所示的(PP-1)(PP-IO)，但本發(fā)明并不限定于這些。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>在本發(fā)明中，用作粘合劑聚合物的聚氨酯樹脂優(yōu)選具有交聯(lián)性基團(tuán)。在此，所謂交聯(lián)性基團(tuán)是指，在對光掩膜版進(jìn)行曝光時，在感光層中發(fā)生的自由基聚合反應(yīng)的過程中使粘合劑聚合物交聯(lián)的基團(tuán)。只要是具有這種功能的基團(tuán)，就沒有特別限定，例如，作為可以進(jìn)行加成聚合反應(yīng)的官能團(tuán)，可列舉乙烯性不飽和結(jié)合基、氨基、環(huán)氧基等。還可以是通過光照射能夠成為自由基的官能團(tuán)，作為這種交聯(lián)性基團(tuán)，可列舉例如:硫醇基、鹵素基、鎰鹽結(jié)構(gòu)等。其中，優(yōu)選乙烯性不飽和結(jié)合基，特別優(yōu)選下述通式(1A)~(3A)表示的官能團(tuán)。,C=《通式(1A)在通式(1A)中，R'RS分別獨(dú)立地表示氫原子或1價的有機(jī)基團(tuán)。作為R1，優(yōu)選列舉氫原子或可以具有取代基的垸基等，其中，從自由基反應(yīng)性高方面考慮，優(yōu)選氫原子、甲基。作為W及R3，分別獨(dú)立地列舉氫原子、鹵素原子、氨基、羧基、垸氧羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的垸基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的垸氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷氨基、可以具有取代基的芳氨基、可以具有取代基的烷基磺?；?、可以具有取代基的芳基磺?；龋渲?，從自由基反應(yīng)性高方面考慮，優(yōu)選氫原子、羧基、烷氧羰基、可以具有取代基的垸基、可以具有取代基的芳基。在通式(1A)中，X表示氧原子、硫原子或-N(R12)-，尺12表示氫原子或1價的有機(jī)基團(tuán)。作為R,2的1價的有機(jī)基團(tuán)，可列舉可以具有取代基的烷基等。其中，作為R12，從自由基反應(yīng)性高方面考慮，優(yōu)選氫原子、甲基、乙基、異丙基。作為可以導(dǎo)入的取代基，可列舉烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、鹵素原子、氨基、烷氨基、芳氨基、羧基、烷氧羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、烷基磺?；?、芳基磺?；?。通式(2A)在通式(2A)中，R^RS分別獨(dú)立地表示氫原子或1價的有機(jī)基團(tuán)。作為R4~R8，優(yōu)選列舉氫原子、鹵素原子、氨基、二烷氨基、羧基、烷氧羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷氨基、可以具有取代基的芳氨基、可以具有取代基的烷基磺?；?、可以具有取代基的芳基磺?；?，其中，優(yōu)選氫原子、羧基、垸氧羰基、可以具有取代基的垸基、可以具有取代基的芳基。作為可以導(dǎo)入的取代基，可例示與通式(1A)同樣的基團(tuán)。另外，Y表示氧原子、硫原子或-N(R12)-。R"與通式(1A)的R12含義相同，優(yōu)選的實(shí)例也同樣。RICIRl一6RRICYRY<formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula>在通式(3A)中，WRH分別獨(dú)立地表示氫原子或1價的有機(jī)基團(tuán)。作為R9，優(yōu)選列舉氫原子或可以具有取代基的烷基等，其中，從自由基反應(yīng)性高方面考慮，優(yōu)選氫原子、甲基。作為R，R11，分別獨(dú)立地列舉氫原子、鹵素原子、氨基、二烷氨基、羧基、烷氧羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的垸氨基、可以具有取代基的芳氨基、可以具有取代基的烷基磺?；?、可以具有取代基的芳基磺酰基等，其中，從自由基反應(yīng)性高方面考慮，優(yōu)選氫原子、羧基、烷氧羰基、可以具有取代基的垸基、可以具有取代基的芳基。作為可以導(dǎo)入的取代基，可例示與通式(1A)同樣的基團(tuán)。另外，Z表示氧原子、硫原子或-N(R12)-或可以具有取代基的亞苯基。R^與通式(1A)的1112含義相同，優(yōu)選的實(shí)例也同樣。從維持感光層的顯影性的觀點(diǎn)考慮，作為粘合劑聚合物分子量，按重均分子量計(jì)，優(yōu)選為5000-300000的范圍，更優(yōu)選的范圍為20000~150000。在感光層中可以以任意量含有粘合劑聚合物，但從圖像強(qiáng)度等觀點(diǎn)考慮，在感光層的總固體成分中，優(yōu)選粘合劑聚合物的含量為1090質(zhì)量％、更優(yōu)選為3080質(zhì)量％。<乙烯性不飽和化合物>所謂乙烯性不飽和化合物，是指具有至少一個乙烯性不飽和鍵的化合物，在感光層接受活性光線的照射時，通過光聚合引發(fā)劑的作用進(jìn)行加成聚合，有助于交聯(lián)、固化。乙烯性不飽和化合物可以從例如具有至少一個、優(yōu)選2個以上、更優(yōu)選2~6個末端乙烯性不飽和鍵的化合物中任意選擇。是具有單體、預(yù)聚體、即二聚物、三聚物及低聚物或它們的混合物以及它們的共聚物等化學(xué)形態(tài)的乙烯性不飽和化合物。作為乙烯性不飽和化合物的實(shí)例，可列舉不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來酸等)和多元醇化合物的酯、不飽和羧酸和多元胺化合物的酰胺等。作為多元醇化合物和不飽和羧酸的酯的單體的具體例，作為丙烯酸酯，有乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四亞甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1,4-環(huán)己烷二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚異氰酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。作為甲基丙烯酸酯，有四亞甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、雙-[對(3-甲基丙烯酰氧基-2-羥基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、雙-[對(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲垸等。作為衣康酸酯，有乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，5-丁二醇二衣康酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯等。作為丁烯酸酯，有乙二醇二丁烯酸酯、四亞甲基二醇二丁烯酸酯、季戊四醇二丁烯酸酯、山梨糖醇四二丁烯酸酯等。作為異丁烯酸酯，有乙二醇二異丁烯酸酯、季戊四醇二異丁烯酸酯、山梨糖醇四異丁烯酸酯等。作為馬來酸酯，有乙二醇二馬來酸酯、三乙二醇二馬來酸酯、季戊四醇二馬來酸酯、山梨糖醇四馬來酸酯等。而且，也可以列舉上述酯單體的混合物。另外，作為多元胺化合物和不飽和羧酸的酰胺的單體的具體例，有亞甲基雙-丙烯酰胺、亞甲基雙-甲基丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙-丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙-甲基丙烯酰胺、二乙三胺三丙烯酰胺、苯二甲基雙丙烯酰胺、苯二甲基雙甲基丙烯酰胺等。作為其它實(shí)例，可列舉使日本特公昭48-41708號公報(bào)中記載的1分子中具有2個以上的異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物與下述通式(m)表示的含有羥基的乙烯基單體加成而得到的1分子中含有2個以上的聚合性乙烯基的乙烯基尿烷化合物等。CH2=C(R)COOCH2CH(R，)OH(m)(其中，R及R，分別獨(dú)立地表示H或CH3。)另外，可列舉使日本特開昭51-37193號、日本特公平2-32293號的各公報(bào)中記載的那樣的尿烷丙烯酸酯類、日本特開昭48-64183號、日本特公昭49-43191號、日本特公昭52-30490號各公報(bào)中記載的那樣的聚酯丙烯酸酯類、使環(huán)氧樹脂和(甲基)丙烯酸反應(yīng)而得到的環(huán)氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。而且，也可以使用日本粘接協(xié)會志Vol.20，No.7,300308頁(1984年)中作為光固化性單體及低聚物介紹的化合物。作為本發(fā)明中優(yōu)選使用的乙烯性不飽和化合物，優(yōu)選使用通過具有多個異氰酸酯基的化合物和具有羥基的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的加成反應(yīng)而得到的具有多個尿烷鍵的聚合性化合物。這種乙烯性不飽和化合物記載于例如日本特公昭56-17654號公報(bào)。需要說明的是，相對感光層的總質(zhì)量，這些乙烯性不飽和化合物的含量通常為5~80質(zhì)量％、優(yōu)選為30~70質(zhì)量％的范圍。<增感色素>感光層含有增感色素。所謂增感色素，是指可以將吸收的光的能量通過能量轉(zhuǎn)移或電子遷移向光聚合引發(fā)劑傳遞的色素。對增感色素而言，只要是具有該功能的增感色素，就不特別限定吸收波長，可根據(jù)用于曝光的激光的波長適當(dāng)選擇，在本發(fā)明中，特別優(yōu)選使用在360nm450nm的波長區(qū)域具有極大吸收的增感色素。作為增感色素，可列舉例如玫瑰紅、曙紅、藻紅、份菁類化合物、香豆素酮類化合物、具有繞丹寧環(huán)的色素等。另外，作為本發(fā)明中的增感色素，優(yōu)選下述通式(I)表示的增感色素(以下適當(dāng)稱為"特定增感色素"。)。通式(I)中，R'及RS分別獨(dú)立地表示氫原子或一價的非金屬原子團(tuán)。X表示-N(R6R7)。R2、R4、R5、W及W分別獨(dú)立地表示氫原子或一價的非金屬原子團(tuán)，W可以與R1、R2、113或114為了形成脂肪族性或芳香族性的環(huán)而鍵合。Z表示為了與相鄰的原子共同形成酸性核而需要的2價的非金屬原子團(tuán)。特定增感色素的特征之一在于，在350nm450nm的波長區(qū)域具有特別優(yōu)異的吸收特性。而且，特定增感色素可使感光層中所含的各種引發(fā)劑化合物有效地發(fā)生分解，顯示出非常高的感光性。一般而言，已知由增感色素/弓I發(fā)劑化合物構(gòu)成的光弓I發(fā)體系的增感機(jī)理的路徑為(a)基于從增感色素的電子激發(fā)狀態(tài)向引發(fā)劑化合物的電子遷移反應(yīng)，引發(fā)劑化合物還原分解；(b)基于從引發(fā)劑化合物向增感色素的電子激發(fā)狀態(tài)的電子遷移，引發(fā)劑化合物氧化分解；(c)基于從增感色素的電子激發(fā)狀態(tài)向弓I發(fā)劑化合物的能量轉(zhuǎn)移，弓I發(fā)劑化合物由電子激發(fā)狀態(tài)分解，特定增感色素可以使這些任一類型的增感反應(yīng)均有效地發(fā)生。本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的光掩膜版發(fā)揮的高感度及優(yōu)異的保存穩(wěn)定性是以感光層含有特定增感色素作為必需成分為依據(jù)的。其作用機(jī)理尚不明確，但可推測如下。首先，作為有助于特定增感色素高感度化的主要原因，推測為由于特定增感色素顯示出高強(qiáng)度的發(fā)光(硅光及/或磷光)光譜，因此，作為一種可能性，由于特定增感色素的激發(fā)狀態(tài)的壽命比較長，因此，可提高與引發(fā)劑化合物反應(yīng)的效率。作為其它可能性，特定增感色素的分子結(jié)構(gòu)也過程(電子遷移等)的效率、以及提高至引發(fā)劑化合物分解的后續(xù)反應(yīng)的效率。其次，作為有助于提高特定增感色素的保存穩(wěn)定性的主要原因，推測為由于特定增感色素在自然時效條件下的色素凝聚、匯合等少，因此，可抑制增感效率下降。增感色素在光引發(fā)反應(yīng)中發(fā)揮重要的作用，在感光層中的凝聚或匯合會大大影響曝光引起的自由基產(chǎn)生量的減少(感度減少)、即保存穩(wěn)定性的減少，因此，可以認(rèn)為，色素凝聚、匯合等少的特定增感色素大大有助于提高光掩膜版的保存穩(wěn)定性。下面，對通式(I)表示的增感色素(特定增感色素)進(jìn)行詳細(xì)說明。通式(I)中，Z表示為了形成酸性核而需要的2價的非金屬原子團(tuán)，優(yōu)選表示含有雜原子的5元或6元環(huán)結(jié)構(gòu)。在此，所謂"酸性核"，是利用詹姆斯(James)編《照相過程理論》(TheTheoryofThePhotographicProcess)第4版、麥克米蘭出版社、1977年、198頁而定義的。作為通式(I)中的酸性核的具體例，可列舉1,3-二羰基核(例如1,3-茚滿二酮、1，3-二噁烷-4,6-二酮等)、吡唑啉酮核(例如3-甲基-l-苯基_2-吡唑啉-5-酮、l-苯基-2-吡唑啉-5-酮、1-(2-苯并噻唑)-3-甲基-2-吡唑啉-5-酮等)、異噁唑啉酮核(例如3-苯基-2-異噁唑啉-5-酮、3-甲基-2-異噁唑啉_5_酮等)、羥基吲哚核(例如l-垸基-2，3-二氫-2-羥基吲哚等)、2-硫代-2,4-噻唑垸二酮核(例如繞丹寧及其N取代衍生物、例如3-甲基繞丹寧、3-乙基繞丹寧、3-苯基繞丹寧、3-烯丙基繞丹寧、3-芐基繞丹寧、3-羧甲基繞丹寧、3-羧乙基繞丹寧、3-甲氧基羰基甲基繞丹寧、3-羥乙基繞丹寧、3-嗎啉代乙基繞丹寧等)、2-硫代-2，4-噁唑垸二酮核、1，3-噁唑垸-2，4-二酮核(例如3-乙基-l，3-噁唑垸-2，4-二酮等)、硫茚酮核(例如3(2H)-硫茚酮、3(2H)-硫茚酮-l，l-二氧化物等)、2-硫代-2,5-噻唑垸二酮核(例如3-乙基-2-硫代-2,5-噻唑垸二酮等)、2，4-噻挫烷二酮核(例如2,4-噻唑垸二酮、3-乙基-4-噻唑垸二酮、3-苯基-2,4-噻唑垸二酮等)、噻唑垸酮核(例如4-噻唑烷酮、3-乙基-4-噻唑垸酮、2-乙基巰基-4-噻唑烷酮、2-甲苯基氨基-4-噻唑烷酮等)、2-亞氨基-2-噁唑啉-4-酮核(即擬海因核等)、2,4-咪唑垸二酮核(即海因核、例如2，4-咪唑垸二酮、3-乙基-2，4-咪唑烷二酮、1，3-二乙基-2，4-咪唑烷二酮等)、2-硫代-2，4-咪唑烷二酮核(即硫代海因核、例如2-硫代-2，4-咪唑垸二酮、3-乙基-2-硫代-2,4-咪唑烷二酮、1,3-二乙基-2-硫代-2,4-咪唑烷二酮等)、咪唑啉-5-酮核(例如2-丙基巰基-2-咪唑啉-5-酮等)、呋喃-5-酮核、硫茚羥核(例如5-甲基硫茚羥等)、2-亞氨基-2，4-噁唑烷二酮核等。這些酸性核還可以具有取代基。作為可以導(dǎo)入酸性核的優(yōu)選的取代基，可列舉烯基、芳香族基團(tuán)、芳香族雜環(huán)殘基等具有不飽和鍵的取代基。作為通式(I)中的優(yōu)選的酸性核，可列舉2-硫代-2,4-噁唑烷二酮核、1，3-噁唑烷-2，4-二酮核、2-亞氨基-2,4-噁唑烷二酮核，進(jìn)一步優(yōu)選為1,3-噁唑垸-2,4-二酮核、2-亞氨基-2，4-噁唑烷二酮核。通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、R6或R7表示的一價的非金屬原子團(tuán)，優(yōu)選取代或非取代的烷基、取代或非取代的芳基及取代或非取代的垸氧基。在通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、W或W表示的烷基的實(shí)例，可以列舉碳原子數(shù)為1~20的直鏈狀、支鏈狀及環(huán)狀的烷基，作為其具體例，可以列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二垸基、十三烷基、十六垸基、十八垸基、二十烷基、異丙基、異丁基、仲丁基、叔丁基、異戊基、新戊基、l-甲基丁基、異己基、2-乙基己基、2-甲基己基、環(huán)己基、環(huán)戊基、2-降冰片基。其中，更優(yōu)選碳原子數(shù)為112的直鏈狀烷基、碳原子數(shù)為312的支鏈狀烷基及碳原子數(shù)為510的環(huán)狀烷基。在通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、W或R表示的垸基為取代垸基時的取代基，可列舉由除去氫的l價的非金屬原子團(tuán)構(gòu)成的基團(tuán)。作為取代烷基具有的取代基的優(yōu)選的實(shí)例，可列舉鹵素原子(-F、-Br、-Cl、-1)、羥基、垸氧基、芳氧基、巰基、垸硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-垸基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-垸基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二烷基氨基甲酰氧基、N,N-二芳基氨基甲29酰氧基、N-垸基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基、酰氧基、酰硫基、?；被?、N-垸基酰基氨基、N-芳基?；被㈦寤?、N'-烷基脲基、N',N'-二烷基脲基、N'-芳基脲基、N',N'-二芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N'-烷基-N-烷基脲基、N'-垸基-N-芳基脲基、N，,N'-二烷基-N-烷基脲基、N',N'-二烷基-N-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N'，N'-二芳基-N-垸基脲基、N'，N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-烷基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-垸基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、?；?、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲?；?、N-垸基氨基甲?；?、N,N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲?；-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亞磺?；?、芳基亞磺?；?、垸基磺?；?、芳基磺酰基、磺基(-S03H)及其共軛堿基(以下稱為磺酸根合基)、烷氧基磺?；?、芳氧基磺?；眮喕酋；?sulfmamoylgroup)、N—烷基氨亞磺?；?、N，N—二烷基氨亞磺酰基、N—芳基氨亞磺酰基、N，N—二芳基氨亞磺酰基、N—烷基一N—芳基氨亞磺酰基、氨磺?；?、N—烷基氨磺酰基、N，N—二烷基氨磺?；—芳基氨磺?；?、N，N—二芳基氨磺酰基、N—烷基一N—芳基氨磺?；?、膦酸基(—P03H2)及其共軛堿基(以下稱為膦酸根(phosphonato)基)、二垸基膦酸基(—P03(alkyl)2)、二芳基膦酸基(—P03(aryl)2)、烷基芳基膦酸基(—P03(alkyl)(aryl))、單垸基膦酸基(—P03H(alkyl))及其共軛堿基(以后稱為烷基膦酸根合(alkylphosphonato)基)、單芳基膦酸基(—P03H(aryl))及其共軛堿基(以后稱為芳基膦酸根合(arylphosphonato)基)、膦酸基氧基(—OP03H2)及其共軛堿基(以后稱為膦酸根合氧基)、二烷基膦酸基氧基(—OP03(alkyl)2)、二芳基膦酸基氧基(—OP03(aryl)2)、烷基芳基膦酸基氧基(一OP03(alkyl)(aryl))、單烷基膦酸基氧基(—OP03H(alkyl))及其共軛堿基(以后稱為浣基膦酸根合氧基)、單芳基膦酸基氧基(—OP03H(aryl))及其共軛堿基(以后稱為芳基膦酸根合氧基)、氰基、硝基、芳基、雜芳基、烯基、炔基、甲硅烷基。作為這些取代基中的烷基的具體例，可以舉出所述的烷基，它們也可以進(jìn)一步具有取代基。在通式(I)中，R1、R2、R4、R5、W或W表示的取代烷基作為取代基具有的芳基的具體例，可以列舉苯基、聯(lián)苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羥苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲基硫代苯基、苯基硫代苯基、甲氨基苯基、二甲氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲?；交?、苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸根合苯基、膦酸基苯基、膦酸根合苯基等。在通式(I)中，R1、R2、R4、R5、W或W表示的取代垸基作為取代基具有的雜芳基，可列舉由含有至少一個氮、氧、硫原子的單環(huán)或多環(huán)芳香族環(huán)衍生的基團(tuán)。作為雜芳基中的雜芳環(huán)的實(shí)例，特別優(yōu)選列舉例如噻吩、噻嗯、呋喃、吡喃、異苯并呋喃、色烯、咕噸、吩噁嗪、吡咯、吡唑、異噻唑、異噁唑、吡嗪、嘧啶、噠嗪、吲哚嗪、異吲哚嗪、吲哚、吲唑、嘌呤、喹嗪、異喹啉、酞嗪、萘啶、喹唑啉、噌啉、蝶啶、咔唑、咔啉、菲、吖啶、萘嵌間二氮雜苯、菲繞啉、酞嗪、吩吡嗪、吩噁嗪、呋咱、吩噁嗪等，這些可以進(jìn)一步進(jìn)行苯并稠環(huán)，還可以具有取代基。在通式(I)中，R1、R2、R4、R5、W或R"表示的取代垸基作為取代基具有的烯基的具體例，可列舉乙烯基、l-丙烯基、l-丁烯基、桂皮酰基、2-氯-l-乙烯基等，作為炔基的實(shí)例，可列舉乙炔基、l-丙炔基、l-丁炔基、三甲基甲硅垸基乙炔基等。在通式(I)中，R'、R2、R4、R5、W或RJ表示的取代烷基作為取代基具有的?；?G'CO-)中的G1，可以列舉氫以及上述垸基、芳基。在這些取代基中，作為更優(yōu)選的取代基，可列舉鹵素原子(-F、-Br、-Cl、-1)、烷氧基、芳氧基、垸硫基、芳硫基、N-垸基氨基、N,N-二烷基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、?；被?、甲?；?、?；?、羧基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲?；-烷基氨基甲?；?、N，N-二垸基氨基甲?；-芳基氨基甲?；-烷基-N-芳基氨基甲?；⒒腔?、磺酸根合基、氨磺酰基、N-垸基氨磺?；?、N,N-二烷基氨磺?；?、N-芳基氨磺?；?、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酸基、膦酸根合基、二烷基膦酸基、二芳基膦酸基、單垸基膦酸基、烷基膦酸根合基、單芳基膦酸基、芳基膦酸根合基、膦酸氧基、膦酸根合氧基、芳基、烯基、亞烷基(亞甲基等)。在通式(I)中，R1、R2、R4、R5、116或R"表示的取代垸基作為取代基具有的亞烷基，可以列舉除去上述碳數(shù)120的烷基上的任一個氫原子而形成2價的有機(jī)殘基的亞烷基，可以優(yōu)選列舉碳數(shù)112的直鏈狀亞垸基、碳數(shù)3~12的支鏈狀亞垸基以及碳數(shù)5~10的環(huán)狀的亞烷基。通過組合上述取代基和亞烷基而得到的作為R1、R2、R4、R5、R6或R"優(yōu)選的取代烷基的具體例，可以列舉氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲基硫代甲基、甲苯基硫代甲基、乙氨基乙基、二乙氨基丙基、嗎啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-環(huán)己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙?；被一?、N-甲基苯甲?；被?、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲?；一,N-二丙基氨基甲?；谆?、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲?；谆?、磺丁基、磺酸根合丙基、磺酸根合丁基、氨磺酰丁基、N-乙基氨磺酰甲基、N,N-二丙基氨磺酰丙基、N-甲苯基氨磺酰丙基、N-甲基-N-(膦酸基苯基)氨磺酰辛基、膦酸基丁基、膦酸根合己基、二乙基膦酸基丁基、二苯基膦酸基丙基、甲基膦酸基丁基、甲基膦酸根合丁基、甲苯基膦酸基己基、甲苯基膦酸根合己基、膦酸氧基丙基、膦酸根合氧基丁基、節(jié)基、苯乙基、a-甲基芐基、1-甲基-苯基乙基、對甲基芐基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。在通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、R"或W優(yōu)選的芳基的具體例，可以列舉1個~3個苯環(huán)形成了稠環(huán)的芳基、苯環(huán)和5元不飽和環(huán)形成了稠環(huán)的芳基，作為具體例，可以列舉苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基，其中，更優(yōu)選苯基或萘基。在通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、W或R7表示的優(yōu)選的取代芳基的具體例，可使用在形成上述芳環(huán)的碳原子上作為取代基具有(氫原子以外的)1價的非金屬原子團(tuán)的基團(tuán)的取代芳基。作為優(yōu)選的取代基的實(shí)例，可以例示上述烷基、取代烷基以及前面作為取代烷基中的取代基所示的基團(tuán)。作為這種取代芳基的優(yōu)選的具體例，可以列舉聯(lián)苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羥苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲基硫代苯基、甲苯基硫代苯基、乙氨基苯基、二乙氨基苯基、嗎啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、N-環(huán)己基氨基甲酰氧基苯基、N-苯基氨基甲酰氧基苯基、乙酰氨基苯基、N-甲基苯甲酰氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲酰苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N,N-二丙基氨基甲酰苯基、N-(甲氧基苯基)氨基甲?；交?、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲?；交?、磺苯基、磺酸根合苯基、氨磺酰苯基、N-乙基氨磺酰苯基、N,N-二丙基氨磺酰苯基、N-甲苯基氨磺酰苯基、N-甲基-N-(膦酸基苯基)氨磺酰苯基、膦酸基苯基、膦酸根合苯基、二乙基膦酸基苯基、二苯基膦酸基苯基、甲基膦酸基苯基、甲基膦酸根合苯基、甲苯基膦酸基苯基、甲苯基膦酸根合苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。在通式(I)中，作為R1、R2、R4、R5、R6或R7優(yōu)選的垸氧基，可列舉碳數(shù)1~15的垸氧基，作為其具體例，可列舉甲氧基、乙氧基等。作為R1及R3的更優(yōu)選的實(shí)例，可列舉取代或無取代的烷基及取代或無取代的烷氧基。作為R'及RS的進(jìn)一步優(yōu)選的實(shí)例，可列舉可以具有取代基的碳數(shù)115的垸基或可以具有取代基的碳數(shù)1~15的烷氧基，具體可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、己基、甲氧基、乙氧基。特別優(yōu)選R1及W兩者為取代或無取代的烷基或者取代或無取代的烷氧基的情況。作為RS及R的更優(yōu)選的實(shí)例，可列舉取代或無取代的烷基、即通式(I)中的X為二垸氨基。作為116及尺7的進(jìn)一步優(yōu)選的實(shí)例，為可以具有取代基的碳數(shù)215的烷基，具體可列舉乙基、丁基。作為通式(I)中的R1、R3、R"及R7，這些取代基優(yōu)選的主要原因不確定，但通常認(rèn)為，通過具有這種取代基，利用光吸收產(chǎn)生的電子激發(fā)狀態(tài)和引發(fā)劑化合物的相互作用特別大，可提高引發(fā)劑化合物產(chǎn)生自由基、酸或堿的效率(感度提高效果)；由于在芳香族環(huán)的鄰位上具有取代基，因此，取代基X采取扭曲結(jié)構(gòu)，增感色素之間難以凝聚，可抑制其在感光層中的凝聚(保存穩(wěn)定性提高效果)。另外，作為^的更優(yōu)選的實(shí)例，可列舉可以具有取代基的碳數(shù)1~15的垸基及碳數(shù)1~15的垸氧基。在特定增感色素內(nèi)，具有下述通式(II)(Vffl)表示的結(jié)構(gòu)的增感色素具有高的增感能力，而且可提供保存穩(wěn)定性也非常優(yōu)異的感光性組合物，因此特別優(yōu)選。其中，作為特定增感色素，最優(yōu)選通式(II)表示的增感色素。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>通式(II)~(VID)中，X匕X豸及Y分別獨(dú)立地表示氧原子、硫原子或NR21，R'及RS分別獨(dú)立地表示氫原子或一價的非金屬原子團(tuán)。X表示-N(R6R7)。R2、RtR"分別獨(dú)立地表示氫原子或一價的非金屬原子團(tuán)，RS可以與R1、R2、113或114為了形成脂肪族性或芳香族性的環(huán)而鍵合。在此，通式(II)~(麗)中，R11120表示的一價的非金屬原子團(tuán)與上述通式(I)中的一價的非金屬原子團(tuán)的含義相同，優(yōu)選的范圍也同樣。而且，XM尤選氧原子。Y優(yōu)選NR21，R"表示氫原子或一價的非金屬原子團(tuán)，特別優(yōu)選氫原子、碳數(shù)110的烴基。下面，例示特定增感色素的優(yōu)選的具體例(例示化合物D-1例示化合物D-33)，但本發(fā)明并不限定于這些。(D—8)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>對特定增感色素的合成方法進(jìn)行敘述。特定增感色素可以通過例如具有活性亞甲基的酸性核和取代或非取代的芳香族環(huán)或雜環(huán)的縮合反應(yīng)來合成。所述的合成方法可以參照日本特公昭59-28329號公報(bào)。作為特定增感色素的合成方法之一，可列舉例如，如下述反應(yīng)式(a)所示，利用酸性核化合物和雜環(huán)上具有醛基或羰基的堿性核原料的縮合反應(yīng)的合成方法?？s合反應(yīng)可根據(jù)需要在堿(Base)存在下實(shí)施。作為堿，可以沒有限制地利用一般通用的堿，例如胺、吡啶類(三烷基胺、二甲基氨基吡啶、二氮雜雙環(huán)十一碳烯DBU等)、金屬酰胺類(二異丙基酰胺鋰等)、金屬醇鹽類(甲醇鈉、叔丁醇鉀等)、金屬氫化物類(氫化鈉、氫化鉀等)。OAo+baseA(a)關(guān)于特定增感色素，還可以進(jìn)行用于改良感光層的特性的各種化學(xué)修飾。例如，通過利用共價鍵、離子鍵、氫鍵等方法使特定增感色素和加成聚合性化合物結(jié)構(gòu)(例如丙烯?；蚣谆；?鍵合，可以抑制感光層(曝光膜)的高強(qiáng)度化或色素從曝光后的感光層中的不必要的析出。另外，通過特定增感色素和后述的引發(fā)劑化合物中的具有自由基產(chǎn)生能的部分結(jié)構(gòu)(例如鹵代烷基、鏺、過氧化物、聯(lián)二咪唑、鎿、聯(lián)二咪唑等還原分解性部位或硼酸酯、胺、三甲基甲硅烷基甲基、羧甲基、羰基、亞胺等氧化裂解性部位)的鍵合，可以特別顯著地提高引發(fā)體系在低濃度狀態(tài)下的感光性。而且，針對提高對堿系或水系顯影液的處理適用性的目的，在特定增感色素中導(dǎo)入親水性部位(羧基以及其酯、磺酸基以及其酯、環(huán)氧乙垸基等酸基或極性基團(tuán))是有效的。特別是酯型的親水性基團(tuán)具有如下特征由于在感光層中具有比較疏水的結(jié)構(gòu)，因此，相溶性優(yōu)異，且在顯影液中通過水解生成酸基，親水性增大。此外，例如，為了提高在感光層中的相溶性，抑制結(jié)晶析出，可以在特定增感色素中導(dǎo)入適當(dāng)?shù)娜〈?。例如，在某種感光體系中，有時芳基或烯丙基等不飽和鍵對提高相溶性非常有效，另外，通過利用導(dǎo)入支鏈垸基結(jié)構(gòu)等方法導(dǎo)入色素7l平面間的位阻，可以顯著抑制結(jié)晶析出。另外，通過導(dǎo)入膦酸基或環(huán)氧基、三垸氧基甲硅烷基等，可以提高對金屬或金屬氧化物等無機(jī)物的密合性。此外，也可以根據(jù)目的利用增感色素的聚合物化等方法。使用特定增感色素的情況下，只要使用至少1種上述通式(I)表示的增感色素即可，只要是該通式(I)所示，使用實(shí)施過例如前面敘述的修飾的增感色素等任意結(jié)構(gòu)的色素、或單獨(dú)使用還是2種以上并用、或添加量如何之類的使用方法的詳細(xì)情況，可以配合最終的感光材料的性能設(shè)計(jì)來適當(dāng)設(shè)定。例如，通過并用2種以上特定增感色素，可以提高對感光層的相溶性。對特定增感色素的選擇而言，除感光性之外，在使用的光源的發(fā)光波長的摩爾吸光系數(shù)為重要因素。通過使用摩爾吸光系數(shù)大的色素，可以使色素的添加量比較少，因此，比較經(jīng)濟(jì)，且從感光層的膜物性方面考慮也是有利的。需要說明的是，在本發(fā)明中，除了特定增感色素以外，只要不損害本發(fā)明的效果，可以并用其它通用的增感色素。感光層的感光性、分辨率或曝光膜的物性受光源波長中的吸光度的影響較大，因此，考慮這些而適當(dāng)選擇增感色素的添加量。例如，在吸光度低為0.1以下的區(qū)域中感度下降。另外，因暈影的影響而成為低分辨率。但是，針對使例如5pm以上的厚膜固化的目的，有時這種低吸光度的一方反而可提高固化度。例如，在將本發(fā)明的光掩膜版中的感光層設(shè)定為比較薄的膜厚時，增感色素的添加量優(yōu)選以使感光層的吸光度為0.11.5的范圍、優(yōu)選0.25~1的范屈的方式而設(shè)定。由于吸光度由特定增感色素的添加量和感光層的厚度來決定，因此，可以通過控制兩者的條件來得到規(guī)定的吸光度。感光層的吸光度可以利用常規(guī)方法進(jìn)行測定。作為測定方法，可列舉例如在透明或白色的支撐體上形成感光層，以使干燥后的涂敷量為在作為光掩膜版所需要的范圍內(nèi)適當(dāng)確定的厚度，用透過型的光學(xué)濃度計(jì)進(jìn)行測定的方法；在鋁等反射性的支撐體上形成感光層，測定反射濃度的方法等。相對構(gòu)成感光層的總固體成分100質(zhì)量份，增感色素的添加量優(yōu)選為0.05~30質(zhì)量份、更優(yōu)選為0.1~20質(zhì)量份、進(jìn)一步優(yōu)選為0.2~10質(zhì)量份的范圍。<光聚合引發(fā)劑〉作為本發(fā)明中的光聚合引發(fā)劑，可以適當(dāng)選擇使用專利文獻(xiàn)等中公知的各種光聚合引發(fā)劑或2種以上的光聚合引發(fā)劑的并用體系(光聚合引發(fā)體系)。在本發(fā)明中，將單獨(dú)使用的光聚合引發(fā)劑、并用有2種以上的光聚合引發(fā)劑的體系綜合簡稱為光聚合引發(fā)劑。在使用例如400nm左右的光作為光源時，作為光聚合引發(fā)劑，可廣泛使用苯酰、苯甲酰醚、米蚩酮、蒽醌、應(yīng)噸酮、吖啶、吩嗪、二苯甲酮、六芳基雙咪唑化合物、三嗪化合物等。另外，在以400nm以上的可見光線為光源時，也提出了各種光聚合引發(fā)劑，可以列舉例如美國專利第2,850,445號中記載的某種光還原性染料、例如玫瑰紅、曙紅、藻紅等或染料和光聚合引發(fā)劑組合形成的體系、例如染料和胺的復(fù)合引發(fā)體系(日本特公昭44-20189號)、六芳基雙咪唑和自由基發(fā)生劑和染料的并用體系(日本特公昭45-37377號)、六芳基雙咪唑和對二烷基氨基亞芐基酮的體系(日本特公昭47-2528號、日本特開昭54-155292號)、環(huán)狀順式-ot-二羰基化合物和染料的體系(日本特開昭48-84183號)、環(huán)狀三嗪和份菁色素的體系(日本特開昭54-151024號)、3-香豆素酮和活性劑的體系(日本特開昭52-112681號、日本特開昭58-15503號)、雙咪唑、苯乙烯衍生物、硫醇的體系(日本特開昭59-140203號)、有機(jī)過氧化物和色素的體系(日本特開昭59-1504號、日本特開昭59-140203號、日本特開昭59-189340號、日本特開昭62-174203號、日本特公昭62-1641號、美國專利第4,766,055號)、染料和活性鹵素化合物的體系(日本特開昭63-178105號、日本特開昭63-258903號、日本特開平2-63054號)、染料和硼酸酯化合物的體系(日本特開昭62-143044號、日本特開昭62-150242號、日本特開昭64-13140號、日本特開昭64-13141號、日本特開昭64-13142號、日本特開昭64-13143號、日本特開昭64-13144號、日本特開昭64-17048號、日本特開平1-22卯03號、日本特開平1-298348號、日本特開平1-138204號)、具有繞丹寧環(huán)的色素和自由基發(fā)生劑的體系(日本特開平2-179643號、日本特開平2-244050號)等。作為本發(fā)明中的優(yōu)選的光聚合引發(fā)劑，可列舉六芳基雙咪唑化合物及三嗪化合物。作為六芳基雙咪唑化合物，可以使用歐洲專利第24629號、歐洲專利41第107792號、美國專利第US4410621號、歐洲專利第215453號及德國專利公開3211312號等各說明書中記載的各種化合物。作為優(yōu)選的六芳基雙咪唑化合物，可以列舉例如2,4,5,2，,4',5，-六苯基雙咪唑、2,2,-雙(2-氯苯基)-4，5,4，,5，-四苯基雙咪唑、2,2，-雙(2-溴苯基)-4，5,4，,5'-四苯基雙咪唑、2,2，-雙(2，4-二氯苯基)-4，5，4',5'-四苯基雙咪唑、2,2，-雙(2-氯苯基)-4,5，4，，5，-四(3-甲氧基苯基)-雙咪唑、2,5,2，，5，-四(2-氯苯基)-4,4，-雙(3,4-二甲氧基苯基)雙咪唑、2，2，-雙(2,6-二氯苯基)-4,5,4'，5'-四苯基雙咪唑、2,2，-雙(2-硝基苯基)-4,5，4，,5，-四苯基雙咪唑、2,2，-二-鄰甲苯基-4,5,4，,5'-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-乙氧基苯基)-4,5,4，,5，-四苯基雙咪唑、2,2，-雙(2，6-二氟苯基)-4,5,4',5，-四苯基雙咪唑等。作為三嗪化合物的具體例，可列舉例如若林等著《日本化學(xué)學(xué)會公報(bào)》，42、2924(1969)記載的化合物，例如:2-苯基4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基),S-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(2，，4，-二氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-S-三嗪、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-正壬基-4,6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(a,a，P-三氯乙基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪等。此外，可以列舉英國專利1388492號說明書記載的化合物，例如2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對甲基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4-氨基-6-三氯甲基-8-三嗪等；日本特幵昭53-133428號公報(bào)記載的化合物，例如2-(4-甲氧基-萘并-l-基)-4,6-雙三氯甲基-S-三嗪、2-(4-乙氧基-萘并-l-基)-4，6-雙-三氯甲基-S-三嗪、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-l-基]-4，6-雙-三氯甲基-S-三嗪、2-(4，7-二甲氧基-萘并小基)-4,6-雙-三氯甲基-S-三嗪、2-(苊并-5-基)-4,6-雙-三氯甲基-8-三嗪等；德國專利3337024號說明書記載的化合物，例如下述化合物等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage43</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage44</formula>另夕卜，可以列舉根據(jù)F.C.Schaefer等的《有機(jī)化學(xué)期刊(J.Org.Chem.)》29、1527(1964)記載的化合物，例如2-甲基-4，6-雙(三溴甲基)-S-三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-S-三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-S-三嗪、2-氨基-4-甲基-6-三溴甲基-S-三嗪、2-甲氧基-4-甲基-6-三氯甲基-S-三嗪等。.而且，可以列舉日本特開昭62-58241號公報(bào)記載的例如下述化合物等。44Nex-ciseATTVT、ZN丫NCC13CI3CCH3CC13而且，可以列舉日本特開平5-281728號公報(bào)記載的例如下述化合物每、NCC13NCC13CC13CsCCH2CH3<formula>formulaseeoriginaldocumentpage46</formula>作為三嗪化合物的具體例，還可以列舉下述化合物等。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage46</formula>六芳基雙咪唑化合物或三嗪化合物可以2種以上并用。在使用六芳基雙咪唑化合物或三嗪化合物作為光聚合引發(fā)劑時，相對上述乙烯性不飽和化合物的總量100質(zhì)量份，該六芳基雙咪唑化合物或三嗪化合物的用量優(yōu)選為0.05~50質(zhì)量份、更優(yōu)選為0.230質(zhì)量份?？梢圆⒂昧蓟p咪唑化合物或三嗪化合物與其它光聚合引發(fā)劑。對光聚合引發(fā)劑而言，已知通過根據(jù)需要與2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噁唑等硫醇化合物、N-苯基甘氨酸、N,N-二烷基氨基芳香族烷基酯等胺化合物等供氫性化合物并用，可以進(jìn)一步提高光引發(fā)能力。作為光引發(fā)能力特別高且在本發(fā)明中優(yōu)選的供氫性化合物，可列舉含巰基化合物。作為含巰基化合物的更優(yōu)選的具體例，可列舉下述通式(A)或(B)表示的化合物(以下，適當(dāng)稱為"含巰基雜環(huán)化合物"。)。需要說明的是，下述通式(A)或(B)表示各個互變異構(gòu)體的結(jié)構(gòu)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage47</formula>(通式(A)及(B)中，R2、W及W分別獨(dú)立地表示氫原子、取代或未取代的碳數(shù)1~18的直鏈或支鏈烷基、取代或未取代的碳數(shù)520的脂環(huán)式烷基或芳香族基團(tuán)。作為取代基，可列舉鹵素原子、羥基、氨基、硫醇基、乙?；Ⅳ然?。)下面，例示通式(A)及(B)表示的化合物的優(yōu)選的具體例(SH1)~(SH20)，但本發(fā)明并不限定于這些具體例。以下的結(jié)構(gòu)用上述互變異構(gòu)體的含-SH基結(jié)構(gòu)表示。通式(A)表示的化合物的具體例<formula>formulaseeoriginaldocumentpage48</formula>(SH4)(SH5)(SH6)通式(B)表示的化合物的具體例相對六芳基雙咪唑化合物等光聚合引發(fā)劑lmol，含巰基雜環(huán)化合物優(yōu)選以0.2mol10.0mo1的比率使用，更優(yōu)選為0.5mol6.0mo1的比率，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5mol4.0mo1的比率。m-MN.、y^SHm-N(SH18)//1-N、/P廣Mev_(SH19)(SH20)相對構(gòu)成感光層的總固體成分ioo質(zhì)量份，感光層中的光聚合引發(fā)劑的含量優(yōu)選為(U20質(zhì)量份、更優(yōu)選為0.5~15質(zhì)量份、進(jìn)一步優(yōu)選為1~10質(zhì)量份的范圍。<其它成分>一UV吸收劑一為了進(jìn)一步提高紫外區(qū)域的吸光度，也可以在感光層中同時添加UV吸收劑等。作為UV吸收劑，也可以使用日本特開平9-25360號公報(bào)中所記載的通過加熱處理在紫外區(qū)域顯現(xiàn)強(qiáng)吸收的化合物。一熱聚合抑制劑一除此之外，作為添加劑，為了在形成感光層時或保存光掩膜版中阻止可以聚合的含乙烯性不飽和鍵化合物的不必要的熱聚合，優(yōu)選添加少量的熱聚合抑制劑。進(jìn)一步優(yōu)選添加熱聚合防止劑。作為其實(shí)例，可列舉氫醌、對甲氧基苯酚、二-叔丁基-對甲酚、鄰苯三酚、叔丁基鄰苯二酚、苯醌、4，4，-硫代雙(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2，-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-巰基苯并咪唑、吩噻嗪、N-亞硝基苯基羥胺亞鈰鹽、N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽等。相對構(gòu)成感光層的總固體成分，熱聚合抑制劑的添加量優(yōu)選為約0.01質(zhì)量％約5質(zhì)量％。另外，根據(jù)需要，為了防止氧引起的聚合阻礙，可以添加山崳酸或山崳酰胺之類的高級脂肪酸衍生物等，在涂敷后的干燥過程中可以使其偏在于感光層的表面。相對構(gòu)成感光層的總固體成分，高級脂肪酸衍生物等的添加量優(yōu)選為約0.5質(zhì)量％~約10質(zhì)量°/。。一其它添加劑一而且，在本發(fā)明中使用的組合物中，可以根據(jù)需要添加公知的添加劑，例如增塑劑、表面活性劑等。從膜厚的均勻性、分辨率及感度的觀點(diǎn)考慮，感光層的膜厚優(yōu)選為0.3Mm~7Mm的范圍。特別優(yōu)選的膜厚為0.5pm3Mm。在透明基材上，使用旋涂機(jī)、狹縫旋涂機(jī)、輥涂機(jī)、模頭涂敷機(jī)或幕涂機(jī)等，利用直接涂敷含有上述各必需成分及任意成分的涂敷液(光聚合性組合物)，可以設(shè)置感光層。(透明基材)作為本發(fā)明的光掩膜版中的透明基材，可以應(yīng)用玻璃板(例如石英、鈉鈣玻璃、無堿玻璃等)、透明塑料膜(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯等)那樣的透明基材。透明基材的厚度可以根據(jù)光掩膜版而適當(dāng)設(shè)定，優(yōu)選為lmm7mm的范圍。(密接性底涂層)在本發(fā)明的光掩膜版中，優(yōu)選在透明基材上設(shè)置密接性底涂層。設(shè)置密接性底涂層時，感光層設(shè)置在密接性底涂層上。在制作光掩膜時，密接性底涂層在曝光部強(qiáng)化透明基材和感光層的密接性，另外，在未曝光部，感光層容易從透明基材上剝離，因此，顯影性提高。為了提高與感光層的密接性，作為密接性底涂層，優(yōu)選具有聚合性化合物。作為聚合性化合物，特別優(yōu)選具有乙烯性不飽和鍵的化合物，具體而言，優(yōu)選使用上述"乙烯性不飽和化合物"中記載的化合物。作為乙烯性不飽和基團(tuán)，優(yōu)選使用(甲基)丙烯酰基、苯乙烯基、烯丙基醚基。另外，為了提高與透明基材的密接性，密接性底涂層優(yōu)選含有具有甲硅烷基的化合物。特別優(yōu)選使用上述乙烯性不飽和化合物和具有甲硅烷基的化合物。作為密接性底涂層中所含的化合物，具體而言，優(yōu)選3-氨基丙基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、3-氰基丙基三乙氧基硅垸、[2-(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基]三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅垸、乙烯基甲氧基硅烷、3-(N，N-二乙基氨基)丙基三甲氧基硅垸、乙基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、對苯乙烯基三甲氧基硅垸、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅垸，其中，特別優(yōu)選3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷。密接性底涂層的涂敷量，以干燥質(zhì)量計(jì)，優(yōu)選為2mg/m2~200mg/m2，進(jìn)一步優(yōu)選為5mg/m2100mg/m2。在本發(fā)明中，在透明基材上依次形成感光層和阻氧層，優(yōu)選在透明基材和感光層之間形成密接性底涂層，得到光掩膜版。[光掩膜及光掩膜的制造方法]51通過對己述的本發(fā)明的光掩膜版進(jìn)行曝光、顯影，可以制造光掩膜。具體而言，通過用近紫外光至可見光對將己述的光掩膜版進(jìn)行圖像樣式曝光后(曝光工序)，使用顯影液對曝光后的光掩膜版進(jìn)行顯影，除去感光層的未曝光部(顯影工序)，由此得到光掩膜。作為使用本發(fā)明的光掩膜版制作的光掩膜，通過使用放射390nm以上450nm以下的光的激光器(更優(yōu)選放射390nm以上420nm以下的光的激光器)對該光掩膜版進(jìn)行圖像樣式曝光后進(jìn)行顯影，由此制成的光掩膜(本發(fā)明的光掩膜)為優(yōu)選的方式。[曝光工序]曝光工序優(yōu)選通過如下方法來進(jìn)行，即，通過具有線圖像、網(wǎng)點(diǎn)圖像等的透明原畫對光掩膜版進(jìn)行圖像樣式曝光，或用數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)產(chǎn)生的激光掃描等進(jìn)行圖像樣式曝光。在本發(fā)明的光掩膜版的圖像形成中優(yōu)選使用利用激光的曝光。作為曝光光源，優(yōu)選放射350nm以上450nm以下的范圍的光的激光，具體優(yōu)選InGaN類半導(dǎo)體激光。作為放射350nm以上450nm以下的范圍的光的激光，可列舉例如以下的激光。<氣體激光器>可列舉Ar離子激光器(364nm、351nm)、Kr離子激光器(356nm、351nm)、He-Cd激光器(441nm、325nm)等。<固體激光器>可列舉Nd:YAG(YV04)禾卩SHG結(jié)晶X2次的組合(355nm)、Cr丄iSAF和SHG結(jié)晶的組合(430nm)等。<半導(dǎo)體激光器類>可以列舉KNb03環(huán)型諧振器(430nm)、波導(dǎo)型波長變換元件和AlGaAs、InGaAs半導(dǎo)體的組合(380nm450nm)、波導(dǎo)型波長變換元件和AlGalnP、AlGaAs半導(dǎo)體的組合(300nm350nm)、AlGalnN(350nm450nm)等。<其它激光器>作為脈沖激光器，可列舉N2激光器(337nm)、XeF(351nm)等。其中，在波長特性、成本方面，特別優(yōu)選AlGalnN半導(dǎo)體激光器(InGaN類半導(dǎo)體激光器400nm410nm)。[顯影工序]作為顯影液，可列舉日本特公昭57-7427號公報(bào)中記載的那樣的顯影液。硅酸鈉、硅酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、磷酸鈉、磷酸氫鈉、磷酸銨、磷酸氫銨、正硅酸鈉、碳酸氫鈉、氮水等無機(jī)堿性試劑，或者單乙醇胺或二乙醇胺等有機(jī)堿性試劑的水溶液是合適的。這樣的堿性試劑，以含它們的堿性水溶液的濃度為0.1質(zhì)量％10質(zhì)量％，優(yōu)選0.5質(zhì)量％5質(zhì)量％的方式添加。另外，在甩作顯影液的堿性水溶液中，可以根據(jù)需要含有少量的表面活性劑或芐醇、2-苯氧基乙醇、2-丁氧基乙醇之類的有機(jī)溶劑?？梢粤信e例如美國專利第3375171號及美國專利第3615480號中記載的物質(zhì)。而且，曰本特開昭50-26601號、日本特開昭58-54341號、日本特公昭56-39464號、日本特公昭56-42860號的各公報(bào)中記載的顯影液也優(yōu)異。作為特別優(yōu)選的顯影液，可列舉含有日本特開2002-202616公報(bào)中記載的非離子性化合物、pH為11.512.8、且具有3mS/cm30mS/cm的電導(dǎo)率的顯影液。在顯影工序中，作為使曝光后的光掩膜版與顯影液接觸的方式，可列舉手動處理、浸漬處理及利用機(jī)械的處理等。作為手動處理，可列舉例如如下方式使海綿或脫脂棉充分含有顯影液，一邊對其整體進(jìn)行擦拭，一邊處理，處理結(jié)束后充分地進(jìn)行水洗。作為浸漬處理，可列舉例如如下方法將曝光后的光掩膜版浸漬在放入了顯影液的缸或深罐中并攪拌后，一邊用脫脂棉或海綿等進(jìn)行擦拭，一邊充分地進(jìn)行水洗。浸漬時間優(yōu)選約為60秒鐘。機(jī)械處理可以使用自動顯影機(jī)。作為使用自動顯影機(jī)的情況，可以應(yīng)用以下任一種方式，例如，將放入顯影槽中的顯影液用泵吸上來，從噴霧噴嘴向曝光后的光掩膜版噴涂的處理方式；在充滿顯影液的槽中利用液體中導(dǎo)向輥等使曝光后的光掩膜版浸漬輸送而進(jìn)行處理的方式；實(shí)質(zhì)上將未使用的顯影液按每一枚曝光后的光掩膜版所需的量供給，即一次性使用的處理方式。無論在哪個方式中，都更優(yōu)選具有高壓洗滌、毛刷或水膠絨等機(jī)構(gòu)。另外，也可以利用激光曝光部和自動顯影機(jī)部分整體組裝成的裝置。另外，作為顯影時的顯影液的溫度，優(yōu)選為2(T035"C的范圍，更優(yōu)選為25"C3(TC的范圍。[其它工序]另外，對于光掩膜版，可以根據(jù)需要在曝光前、曝光中、從曝光至顯影之間全面實(shí)施加熱處理。通過實(shí)施加熱處理，可促進(jìn)感光層中的圖像形成反應(yīng)，可以產(chǎn)生感度提高、感度穩(wěn)定化之類的優(yōu)點(diǎn)。而且，以提高圖像強(qiáng)度為目的，對顯影后的圖像進(jìn)行全面后加熱或全面曝光也是有效的。顯影前的加熱通常優(yōu)選在15(TC以下的溫和條件下進(jìn)行。另一方面，顯影后的加熱可以利用非常強(qiáng)的條件。通常在15(TC50(TC的范圍進(jìn)行加另外，在對光掩膜版形成圖像后，可以在圖像上設(shè)置熱固化型的環(huán)氧樹脂等的保護(hù)膜。通過在圖像上設(shè)置保護(hù)膜，還可以進(jìn)一步提高膜強(qiáng)度。如上所述，使用本發(fā)明的光掩膜版可得到光掩膜。需要說明的是，在得到的光掩膜有缺陷時，可以如下進(jìn)行缺陷修正。在此，所謂光掩膜缺陷，黑部的情況主要是指黑部的發(fā)白(日文白抜rt)部分，例如使針孔那樣的光透過的缺陷。另外，白部的情況是指例如在本來應(yīng)該為白部的部分的透明基材上附著異物或感光層而使光透過率下降的缺陷。在產(chǎn)生黑部的發(fā)白部分時，將感光層用涂敷液(感光性組合物)涂敷在缺陷周圍部后，例如用HeCd激光器進(jìn)行曝光、顯影，除去不必要的感光層，由此可以修正缺陷。另外，也可以取代顯影，用YAG激光器通過消融除去不必要的部分。另一方面，在白部的缺陷的情況下，可以用YAG激光器等通過消融除去。此時，與Em掩膜不同，由于白部沒有感光層等的有機(jī)物成分，因此，完全不會伴隨激光消融而產(chǎn)生新的缺陷。通過使用本發(fā)明的光掩膜版，可以得到分辨率高、圖像邊緣部的直線性優(yōu)異的光掩膜。另外，可以以簡便的工序且高成品率地得到光掩膜。而且，光掩膜的缺陷修正也容易，可以廉價地制作光掩膜。使用本發(fā)明的光掩膜版得到的光掩膜可以優(yōu)選用于PDP、FED、LCD等平板顯示器、CRT用蔭罩、印刷線路板、半導(dǎo)體等領(lǐng)域中的光刻工序中。在將本發(fā)明中使用的光掩膜用于形成紫外感光性的抗蝕劑圖案時，還可以在超高壓水銀燈等紫外線曝光機(jī)中組裝帶通濾波器，選擇曝光波長。下面，例示實(shí)施例，對本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施例。[實(shí)施例1~15、比較例1~5]1、光掩膜版的制作(感光層的形成)在玻璃基板(10cmX10cm)上，以干燥涂敷質(zhì)量為1.4g/m2的方式涂敷下述組成的高感度光聚合性組合物P-l，使其在IO(TC下干燥1分鐘，形成感光層。<光聚合性組合物P-l>*碳黑分散液16.0質(zhì)量份(CDP-K8、東洋化成株式會社制、50質(zhì)量％丙二醇單甲醚醋酸酯溶乙烯性不飽和化合物(A-l)(下述結(jié)構(gòu)的化合物)4.2質(zhì)量份線狀有機(jī)高分子聚合物(B-l)(下述結(jié)構(gòu)的高分子粘合劑，重均分實(shí)施例5萬)增感色素(C-l)(下述結(jié)構(gòu)的化合物)光聚合引發(fā)劑(D-l)(下述結(jié)構(gòu)的化合物)鏈轉(zhuǎn)移劑(E-l)(下述結(jié)構(gòu)的含巰基化合物)氟系非離子表面活性劑(MegafbckF780、大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制)甲基乙基酮丙二醇單甲醚醋酸酯3.6質(zhì)量份0.21質(zhì)量份0.81質(zhì)量份0.3質(zhì)量份0.05質(zhì)量份58質(zhì)量份53質(zhì)量份[化18]55(阻氧層的形成)在該感光層上，涂敷下述組成的阻氧層涂敷液，在10(TC下干燥2分鐘，形成阻氧層。需要說明的是，就比較例5的光掩膜版而言，沒有形成阻氧層。<阻氧層涂敷液>水87g表2記載的水溶性高分子化合物(親水性樹脂1)表2記載的種表2記載的水溶性高分子化合物(親水性樹脂2)表2記載的種EMALEX710(日本乳膠株式會社制、表面活性劑)lg對形成的阻氧層的膜厚(pm)，用"SURFCOM130A、東京精密株式會社制"進(jìn)行直接膜厚測定。將測定值同時記載于表2。[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage57</column></row><table>PVA405:株式會社可樂麗公司制聚乙烯醇皂化度81.5士1.5平均聚合度500PVA505:株式會社可樂麗公司制聚乙烯醇皂化度73.5士1.5平均聚合度500PVPK30:株式會社BASF制聚乙烯基吡咯垸酮分子量約30,000KL-504:株式會社可樂麗公司制乙烯醇/衣康酸共聚物皂化度73.5士1.5平均聚合度500PEG#10000:株式會社WAKO制聚乙二醇分子量10000PluronicF68:株式會社ADEKA制乙二醇/丙二醇共聚物Aronl017:株式會社東亞合成丙烯酸鈉(40%水溶液)如上所述進(jìn)行操作，得到實(shí)施例115的光掩膜版(1)(15)及比較例1~5的光掩膜版(Cl)~(C5)。[實(shí)施例16~30、比較例610]在實(shí)施例115及比較例15中，將用于形成感光層的高感度光聚合性組合物P-l變更為下述組成的高感度光聚合性組合物P-2，除此之外，與實(shí)施例115及比較例1~5同樣地操作，得到實(shí)施例1630的光掩膜版(6)~(30)及比較例610的光掩膜版(C6)(C10)。<光聚合性組合物P-2>"碳黑分散物16質(zhì)量份(CDP-K8、東洋化成株式會社制、50%丙二醇單甲基醋酸酯溶液)乙烯性不飽和化合物(A-l)(上述結(jié)構(gòu)的化合物)4.2質(zhì)量份*線狀有機(jī)高分子聚合物(B-l)(上述結(jié)構(gòu)的高分子粘合劑，重均分子量5萬)3.6質(zhì)量份增感色素(C-l)(上述結(jié)構(gòu)的化合物)0.21質(zhì)量份光聚合引發(fā)劑(D-2)(下述結(jié)構(gòu)的化合物)1.6質(zhì)量份[化l〗(C2H5OOCH2C)2N氟系非離子表面活性劑0.05質(zhì)量份(MegafockF-780F、大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社制)熱聚合抑制劑(N-亞硝基苯基羥胺鋁鹽)甲基乙基酮丙二醇單甲基醋酸酯0.01質(zhì)量份58質(zhì)量份53質(zhì)量份2、光掩膜版的評價(1)感度評價對如上所述進(jìn)行操作得到的實(shí)施例及比較例的各光掩膜版(iox10cm)，作為激光繪圖機(jī)利用VIOLD(大日本網(wǎng)屏制造有限公司制)(激光輸出功率350mW、光源為405nm紫色激光)進(jìn)行曝光。接著，將曝光后的各光掩膜版在下述組成的堿性顯影液1L中3(TC下浸漬15秒鐘，進(jìn)行顯影、水洗，然后進(jìn)行干燥。進(jìn)一步在18(TC下進(jìn)行30分鐘加熱處理，得到期望的光掩膜(實(shí)施例及比較例的光掩膜)。搖動曝光量，將光掩膜的線/間隔lOHm/lOpm再現(xiàn)時的曝光量規(guī)定為最佳曝光量，評價曝光感度。將結(jié)果示于表3及表4。需要說明的是，顯影、加熱處理后的光掩膜的365nm的吸光度約為4.0。<堿性顯影液組成>包含下述組成的pH為11.95的水溶液氫氧化鉀0.2g1K硅酸鉀2.4g(Si02/K20=1.9)下述化合物5.0g乙二胺四醋酸四鈉鹽59施例及比較例的各光掩膜版(10X10cm)，作為激光繪圖機(jī)利用VIOLD(大日本網(wǎng)屏制造有限公司制)(激光輸出功率350mW、光源為405nm紫色激光)進(jìn)行曝光。接著，將曝光后的各光掩膜版在上述組成的堿性顯影液1L中3(TC下浸漬15秒鐘，進(jìn)行顯影、水洗，然后進(jìn)行干燥。進(jìn)--步在18(TC下進(jìn)行30分鐘加熱處理，得到期望的光掩膜(實(shí)施例及比較例的光掩膜)。搖動曝光量，將光掩膜的線/間隔10(im/10pm再現(xiàn)時的曝光量規(guī)定為最佳曝光量，此時，與曝光量--起，在相同條件下再描繪4、6、8、15、20、25、30)im的線/間隔，將可以再現(xiàn)的最細(xì)的線設(shè)定為分辨率。進(jìn)而，用日本KEYENCE株式會社制的Microscope(商品名VHX-100F)對10pm的線的邊緣部進(jìn)行攝影，用標(biāo)準(zhǔn)偏差cj表示邊緣部的直線性的偏差。cj值越小，表示直線性越優(yōu)異。將結(jié)果示于表3及表4。(3)保存穩(wěn)定性評價將實(shí)施例及比較例的各光掩膜版在高溫條件下(60°C)保存3天后，與上述(1)感度評價同樣地操作，搖動曝光量，求得線/間隔10|am/10(im再現(xiàn)時的曝光量。如果作為上述(1)感度評價的結(jié)果表示的初期的最佳曝光量(XQ)和保存3天后的曝光量(X3)之差(XQ—X3)的值小、下述式表示的曝光量變化率(％)在10%以內(nèi)，則評價為保存穩(wěn)定性良好。將結(jié)果同時記載于表3及表4。曝光量變化率(％)=(XQ—X3)/XQX100(4)透氧性的測定在透氧性非常高的聚乙烯膜(通過溶解除去富士膠片株式會社制"EVER-BEAUTYPAPER"的表面明膠層而制成的聚乙烯層壓紙)上，將實(shí)施例130、比較例110的各光掩膜版的制作中使用的阻氧層用涂敷液與各實(shí)施例及比較例的阻氧層同樣地涂敷，制作測定用的試樣。使用該試樣，用膜康法在25C、65%RH的環(huán)境下測定透氧性。測定裝置及測定條件的詳細(xì)情況如下所述。將測定結(jié)果示于表3及表4。測定裝置膜康公司制造"OX-TRAN2/21型ML/SL模塊"測定條件溫度25°C、濕度60%RH、透過氣體為氧、試樣面積為50cm:[表3]_<table>tableseeoriginaldocumentpage61</column></row><table>[表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage62</column></row><table>由表3及表4可知，各實(shí)施例的光掩膜版的感度高，且保存穩(wěn)定性也優(yōu)異，由此得到的各光掩膜的分辨率高，圖像邊緣部的直線性優(yōu)異。權(quán)利要求1、一種光掩膜版，其特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的感光層和25℃下的透氧性為50ml/m2·day·atm以上500ml/m2·day·atm以下的阻氧層。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩膜版，其特征在于，所述阻氧層的膜厚為0.05jum以上1.5Mm以下。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光掩膜版，其特征在于，所述阻氧層為含有水溶性高分子化合物的層。4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚乙烯醇。5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚乙烯醇的皂化度為30mol。/。以上85mol。/。以下。6、根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚乙烯醇為酸改性聚乙烯醇。7、根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚乙烯基吡咯烷酮。8、根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為聚亞烷基二醇。9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚亞垸基二醇為聚乙二醇。10、根據(jù)權(quán)利要求8所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚亞烷基二醇具有乙二醇及丙二醇作為構(gòu)成單元。11、根據(jù)權(quán)利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，所述水溶性高分子化合物為丙烯酸系樹脂。12、根據(jù)權(quán)利要求ll所述的光掩膜版，其特征在于，所述丙烯酸系樹脂為選自聚丙烯酸及其衍生物中的至少1種樹脂。13、根據(jù)權(quán)利要求12所述的光掩膜版，其特征在于，所述聚丙烯酸衍生物具有丙烯酸的金屬鹽作為構(gòu)成單元。14、一種光掩膜，其特征在于，所述光掩膜是通過以下方法制作的，所述方法中使用放射3卯nm以上450nm以下的光的激光器，對權(quán)利要求1所述的光掩膜版以圖像樣式進(jìn)行曝光后顯影。全文摘要本發(fā)明提供一種光掩膜版及使用該光掩膜版制成的光掩膜，所述光掩膜版的特征在于，在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引發(fā)劑、乙烯性不飽和化合物及粘合劑聚合物的感光層和25℃下的透氧性為50ml/m²·day·atm以上500ml/m²·day·atm以下的阻氧層。文檔編號G03F1/56GK101661223SQ200910166659公開日2010年3月3日申請日期2009年8月26日優(yōu)先權(quán)日2008年8月29日發(fā)明者長瀨博幸申請人:富士膠片株式會社