專利名稱：用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及rop、FED、IXD等平板顯示，CRT用蔭罩、印刷電路板、半導(dǎo)體等領(lǐng)域，尤其涉及一種光掩膜版(Photo mask blanks)防塵保護(hù)裝置。
背景技術(shù)：
在曝光制程中，若光掩膜版上被微塵顆粒所污染，則會形成一個失真的影像在晶圓上，如此即產(chǎn)生一個瑕疵在晶片上。為了增加晶片生產(chǎn)良率，同時減少光掩膜版使用時清潔和檢驗的次數(shù)，通常會在光掩膜版表面覆蓋上一層防塵保護(hù)膜，用以防止微塵 顆粒直接掉落于光掩膜版表面。在利用貼合膠和框架將防塵保護(hù)膜罩在光掩膜版表面時，受環(huán)境、機器、人員等各方面因素的影響，個別微塵顆粒會被覆蓋在防塵保護(hù)膜里面，從而吸附在光掩膜版表面。此時，就需要將防塵保護(hù)膜拆除，將微塵顆粒除去，然后重新清洗光掩膜版，再貼覆上新的防塵保護(hù)月吳。具體請參考圖I和圖2，現(xiàn)有技術(shù)中用于保護(hù)光掩膜版10的防塵保護(hù)裝置通常包括防塵保護(hù)膜20以及用于固定防塵保護(hù)膜20的框架60，防塵保護(hù)膜20和框架60限定的空間60’覆蓋光掩膜版10的圖案區(qū)域；當(dāng)有微塵顆粒30被覆蓋在防塵保護(hù)膜20與光掩膜版10限定的空間60’內(nèi)時，需要先將防塵保護(hù)膜20拆除。拆除時是使用一根金屬撬棒50作為工具放在撬棒支點40上，利用杠桿原理將防塵保護(hù)膜20翹起，然后移走。在這一過程中，撬棒支點40可能對光掩膜版10上的圖形造成刮傷，從而引起光掩膜版10的報廢。另一方面，防塵保護(hù)膜20拆除后，需要重新清洗，然后再貼覆上新的防塵保護(hù)膜20，這一過程將延長光掩膜版10的制作周期，延誤晶片生產(chǎn)，嚴(yán)重的會引起客戶投訴。

實用新型內(nèi)容本實用新型提出一種用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其目的在于更加方便的去除防塵保護(hù)膜與光掩膜版之間的微塵顆粒。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，所述光掩膜版具有圖案區(qū)域，所述防塵保護(hù)裝置包括防塵保護(hù)膜以及用于固定所述防塵保護(hù)膜的框架，所述防塵保護(hù)膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域；所述防塵保護(hù)裝置還包括至少一個移動窗，所述框架上開設(shè)有至少一個開孔，所述移動窗滑動安裝在所述開孔處。進(jìn)一步的，還包括一通過所述開孔伸入到所述空間內(nèi)的吸塵管。進(jìn)一步的，還包括設(shè)置于所述框架上的卡槽，所述移動窗通過所述卡槽滑動安裝在所述開孔處。進(jìn)一步的，所述框架包括多個首尾相連的邊框。進(jìn)一步的，所述框架包括四個首尾相連的邊框。進(jìn)一步的，所述四個邊框均為矩形長條狀。進(jìn)一步的,所述框架的高度為3mnT7mm。[0013]進(jìn)一步的，每個邊框上至少開設(shè)有一個開孔。進(jìn)一步的，其中兩個相鄰的邊框上各開設(shè)一個開孔。進(jìn)一步的，所述開孔的形狀為長方形、圓形或三角形。進(jìn)一步的，所述防塵保護(hù)膜為長方形。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果主要體現(xiàn)在在框架的開孔上添加可滑動的移動窗，當(dāng)光掩膜版和防塵保護(hù)膜之間存在微塵顆粒時，打開移動窗，通過吸塵原理使用吸塵管從開孔伸入將微塵顆粒吸出并移走，避免了去除防塵保護(hù)膜并重新清洗防塵保護(hù)膜的步驟，節(jié)約了清理時間，還可以避免去除防塵保護(hù)膜時對光掩膜版上圖案的傷害。

圖I為微塵顆粒在光掩膜版上的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)中去除防塵保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型一實施例的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為了便于了解，下面結(jié)合具體實施例來對本實用新型進(jìn)行一步的描述。請參考圖3，在本實用新型中，提出一種用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，所述光掩膜版11具有圖案區(qū)域(圖中未示出)，所述防塵保護(hù)裝置包括防塵保護(hù)膜21以及用于固定所述防塵保護(hù)膜21的框架61，所述防塵保護(hù)膜21通過粘合劑貼在所述框架61上，所述防塵保護(hù)膜21和所述框架61限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架61通過粘合劑貼在所述光掩膜版11上；所述防塵保護(hù)裝置還包括至少一個移動窗71，所述框架61上開設(shè)有至少一個開孔81，所述移動窗71滑動安裝在所述開孔81處。當(dāng)光掩膜版11和防塵保護(hù)膜21之間存在微塵顆粒31時，打開移動窗70，即可通過吸塵原理從開孔81將微塵顆粒31吸出并移走。在本實施例中，所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置還包括一通過所述開孔81伸入到所述空間內(nèi)的吸塵管90，用手控制吸塵管90接觸微塵顆粒31，根據(jù)吸附原理微塵顆粒31粘附在吸塵管90上，再用手拿出吸塵管90，從而移除微塵顆粒31。在本實施例中，所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置還包括設(shè)置于所述框架61上的卡槽(圖中未示出)，所述移動窗71通過所述卡槽滑動安裝在所述開孔81處。在本實用新型的其他實施例中，移動窗71也可以通過其他方式安裝在所述開孔81處，例如是頂針安裝，需要注意的是，頂針安裝需確保移動窗71是可以打開和關(guān)閉的。本實施例中，所述框架61包括四個首尾相連的邊框，四個邊框均為矩形長條狀，與光掩模版11的圖案區(qū)域的形狀相匹配。當(dāng)然，在本實用新型的其他實施例中，所述框架61的形狀也可以根據(jù)光掩模版11上的圖案區(qū)域的形狀作適應(yīng)性變化，例如，所述框架61也可以包括五個首尾相連的邊框，亦或是，所述框架61為圓環(huán)形，只要保證防塵保護(hù)膜21能夠覆蓋圖案區(qū)域，防止微塵顆粒31直接掉落于光掩膜版11表面即可。其中，每個邊框的形狀也可以適應(yīng)性變化，不僅僅局限于矩形長條狀。本實施例中，僅在其中兩個相鄰的邊框上各開設(shè)一個開孔81，另外兩個相鄰的邊框不開設(shè)開孔，降低制作成本。在本實用新型的其他實施例中，也可以在每個邊框上均開設(shè)一個開孔81，便于吸塵管90對所述光掩膜版21的圖案區(qū)域各個地方進(jìn)行清理。所述框架61的高度例如為4mm、5_或6_。本實施例中，所述開孔81的形狀為長方形?？梢岳斫獾氖?，框架61上的開孔81和移動窗71不限形狀，可以為圓形、矩形及三角形等形狀。只要保證移動窗71與開孔81的尺寸匹配，保證其密封性，在移動窗71遮住開孔81時不能讓微塵顆粒進(jìn)入即可，這樣才能保證光掩膜版11不被污染。本實施例中，所述防塵保護(hù)膜21為長方形，由透明的高分子聚合物制成，便于光線的透過。當(dāng)然，所述除塵保護(hù)膜21可以根據(jù)工藝的要求設(shè)置為其他形狀，或者由其它透明材料制成。結(jié)合圖3所示，所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置的工作原理如下在使用過程中，正常情況下，移動窗71是關(guān)閉的，開孔81不讓微塵顆粒31進(jìn)入，當(dāng)微塵顆粒31進(jìn)入并且粘附在光掩膜版11的表面時，就需要把移動窗71拉動打開，伸入吸塵管90，讓吸塵管 90接觸微塵顆粒31，基于吸附原理，微塵顆粒31會吸附在吸塵管90上，隨后移走吸塵管90，再關(guān)閉移動窗71，從而達(dá)到潔凈光掩膜版11的目的。本實用新型提出的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，通過在框架的開孔上添加可滑動的移動窗，當(dāng)光掩膜版和防塵保護(hù)膜之間存在的微塵顆粒時，打開移動窗，通過吸塵原理使用吸塵管從開孔伸入將微塵顆粒吸出并移走，避免了去除防塵保護(hù)膜并重新清洗防塵保護(hù)膜的步驟，節(jié)約了清理時間，還可以避免去除防塵保護(hù)膜時對光掩膜版上圖案的傷害。綜上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不對本實用新型起到任何限制作用。任何所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的技術(shù)方案的范圍內(nèi)，對本實用新型揭露的技術(shù)方案和技術(shù)內(nèi)容做任何形式的等同替換或修改等變動，均屬未脫離本實用新型的技術(shù)方案的內(nèi)容，仍屬于本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，所述光掩膜版具有圖案區(qū)域，所述防塵保護(hù)裝置包括防塵保護(hù)膜以及用于固定所述防塵保護(hù)膜的框架，所述防塵保護(hù)膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域；其特征在于，所述防塵保護(hù)裝置還包括至少一個移動窗，所述框架上開設(shè)有至少一個開孔，所述移動窗滑動安裝在所述開孔處。
2.如權(quán)利要求I所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，還包括一通過所述開孔伸入到所述空間內(nèi)的吸塵管。
3.如權(quán)利要求I所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于所述框架上的卡槽，所述移動窗通過所述卡槽滑動安裝在所述開孔處。
4.如權(quán)利要求I所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述框架包括多個首尾相連的邊框。
5.如權(quán)利要求4所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述框架包括四個首尾相連的邊框。
6.如權(quán)利要求4所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述四個邊框均為矩形長條狀。
7.如權(quán)利要求4所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述框架的高度為 3mm 7mmο
8.如權(quán)利要求4所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，每個邊框上至少開設(shè)一個開孔。
9.如權(quán)利要求4所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，其中兩個相鄰的邊框上各開設(shè)一個開孔。
10.如權(quán)利要求I所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述開孔的形狀為長方形、圓形或三角形。
11.如權(quán)利要求I至10中任一項所述的用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，其特征在于，所述防塵保護(hù)膜為長方形。
專利摘要本實用新型提出一種用于光掩膜版的防塵保護(hù)裝置，通過在框架的開孔上添加可滑動的移動窗，當(dāng)光掩膜版和防塵保護(hù)膜之間存在微塵顆粒時，打開移動窗，通過吸塵原理使用吸塵管從開孔伸入將微塵顆粒吸出并移走，避免了去除防塵保護(hù)膜并重新清洗防塵保護(hù)膜的步驟，節(jié)約了清理時間，還可避免去除防塵保護(hù)膜時對光掩膜版上圖案的傷害。
文檔編號G03F1/64GK202794840SQ20122052048
公開日2013年3月13日 申請日期2012年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月11日
發(fā)明者朱丹遺 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司