專利名稱：光電子裝置的制作方法
光電子裝置
本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的光電子裝置。
在考慮通it^目干的光所照明的表面或相干的光所投影到的表面時(shí)，在 反射光的遠(yuǎn)場(chǎng)中可感知到所謂斑點(diǎn)圖案形式的表現(xiàn)出不規(guī)則亮度的照明 圖案。斑點(diǎn)圖案在此在照明表面的成像中例如會(huì)形成在眼睛的視網(wǎng)膜上， 或由于該表面的表面結(jié)構(gòu)上所反射的光的干涉效應(yīng)而形成在解析位置的 檢測(cè)系統(tǒng)上。典型的表面結(jié)構(gòu)通常由表面的 1度來(lái)給出。在眼睛位置或 檢測(cè)器位置或表面的照明區(qū)域連續(xù)地改變時(shí)，該連續(xù)變化的斑點(diǎn)圖案大都 以不期望的方式4lt感知為閃光。
本發(fā)明的特定的實(shí)施形式的至少一個(gè)任務(wù)是提供一種具有相干的輻 射源的光電子裝置，其可使斑點(diǎn)圖案的印象減輕。
該任務(wù)通過(guò)一種具有獨(dú)立權(quán)利要求1的特征的物件來(lái)完成。該物件的 其他有利的實(shí)施形式和改進(jìn)方案在從屬權(quán)利要求中進(jìn)行描述并且此外由 以下的描述和附圖中得知。
根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施形式的光電子裝置在此特別是包括
-第一輻射源，其適于在工作中發(fā)出相干的第一電磁輻射的第一束，
—第一相位修改元件，其位于第一電磁輻射的光路中用于改變第一束的 部分區(qū)域中的第一電磁輻射的相位，以及
-輻射轉(zhuǎn)向元件，其位于第一電磁輻射的光路中以使第一束的輻射方向 改變。
在此，特別是第一束的部分區(qū)域中的相位改變意味著第一束的第一部 分區(qū)域中的相位相對(duì)于第二部分區(qū)域中的相位的改變。因此，特別是也可 稱為兩個(gè)部分區(qū)域的相位的相位差改變.
相干的第一電磁輻射的第一束在此特別是可以為第一電磁輻射的輻 射束或第 一電磁輻射的光束。 一束電磁輻射特別是可表示如下的電磁輻 射該電磁輻射優(yōu)選可沿著任意的或特定的傳播方向、光路或輻射方向而 傳播，并且在此特別優(yōu)選的是可以橫向于光路地在空間上受到限制。
此外，該光電子裝置可以適于將第一束轉(zhuǎn)向到表面上。此表面在此譬如可以是投影屏幕。
笫一相位修改元件的作用可以是使第一電磁輻射的相位至少部分地、 即在笫一部分區(qū)域中或在多個(gè)部分區(qū)域中發(fā)生變化，使得可以產(chǎn)生"粗的"
相位波前(Phasenfront)。這特別是意味著第一電磁輻射在第一相位修 改元件之后雖然還是相干的輻射，但不再具有平滑的相位波前。
由于可以被光電子裝置照明的表面或者第一束被投影到其上的表面 通常具有^MI度，所以通常在借助具有平滑的相位波前的相干電磁輻射對(duì) 該表面照明時(shí)，在觀察者處產(chǎn)生斑點(diǎn)圖案的印象。該斑點(diǎn)圖案是一種干涉 圖像，其由相干電磁輻射在WI^面的各部分區(qū)域上的反射而造成。當(dāng)一
束具有平滑的相位波前的這種相干電磁輻射在表面上移動(dòng)時(shí)，于^1也產(chǎn)生 斑點(diǎn)圖案的印象，因?yàn)橹灰摫砻娴奶囟ǖ牟糠謪^(qū)域位于該束中(即由該 M蓋)，則該電磁輻射的相位在該部分區(qū)域中保持相同。
借助根據(jù)本發(fā)明的光電子裝置所產(chǎn)生的第一電磁輻射的粗的相位波 前，可有利地使這種斑點(diǎn)圖案的印象減輕或消失。這可以下述方式來(lái)實(shí)現(xiàn) 在第 一光束在表面上進(jìn)行最少量的移動(dòng)時(shí)，在觀察者處所產(chǎn)生的干涉圖像 持續(xù)地改變，因?yàn)樵诠潭ǖ牟糠謪^(qū)域中入射至該表面上的電磁輻射的相位 由于"粗的"相位波前而持續(xù)地改變。通過(guò)折疊，即粗的相位波前與該表面 的^L^t變的疊加，可持續(xù)地產(chǎn)生變化的干涉圖像或斑點(diǎn)圖案。通過(guò)在觀察 者處所產(chǎn)生的干涉圖像的持續(xù)改變，由于眼睛的惰性而形成干涉圖像或斑 點(diǎn)圖案的時(shí)間上平均的效應(yīng)。眼睛的時(shí)間上的平均因此可有利地4吏斑點(diǎn)圖 案的印象減輕或甚至消失。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施形式中，第一相位修改元件適于使第一束的一部分 的相位相對(duì)于第一束的另 一部分的相位而發(fā)生變化。為此，可以有利的是， 第一相位修改元件具有第一區(qū)域和第二區(qū)域，它們分別i殳計(jì)用于和/或適 于用來(lái)分別以不同的程度來(lái)修改第一電磁輻射的相位。第一相位《務(wù)改元件 特別適于在第一束的多個(gè)部分區(qū)域中分別使第一電磁輻射的相位改變。為 此，第一相位修改元件可具有多個(gè)相位修改區(qū)域。通過(guò)這種方式，第一電 磁輻射在輻射方向上在第 一相位修改元件之后在與第 一束的輻射方向成 橫向的方向中，特別是例如在與輻射方向成垂直的方向中，可在第一束的 光束橫截面的不同區(qū)域中具有不同的相位。在此可以有利的是，分別構(gòu)建 第一和第二區(qū)域，使第一電磁輻射的相位在整個(gè)第一區(qū)域中恒定地修改， 且第 一 電磁輻射的相位在整個(gè)第二區(qū)域中恒定地修改但不同于第 一 區(qū)域 中的修改，由此可在第一束的光M截面上產(chǎn)生階梯式的相位輪廊。第一電磁輻射由此可在與第 一束的光束方向成橫向的方向中具有相位跳躍或 相位等級(jí)。在此可以是特別有利的是，可產(chǎn)生隨機(jī)分布的階梯式相位輪廓，
因?yàn)檫@種相位輪廓可51起表面上的斑點(diǎn)圖案的快速改變，這樣可如上所述 地通過(guò)觀察者眼睛的平均效應(yīng)而有利地抑制斑點(diǎn)圖案的感知。
替選地或者附加地，可實(shí)施第一相位修改元件，使得分別構(gòu)建第一區(qū) 域和第二區(qū)域，使得笫一電磁輻射的相位與第一輻射方向成橫向(特別是 垂直)地連續(xù)修改。通過(guò)這種方式，可產(chǎn)生連續(xù)的相位輪廓。特別是例如 可產(chǎn)生周期性的、特別優(yōu)選為正弦形式的相位輪廊。 一種可產(chǎn)生連續(xù)的相
位輪廓的相位修^ut件在此可以是有利的，因?yàn)橛纱丝梢詫⒀苌鋼p耗最小 化。
在另一實(shí)施形式中，相位修改元件圃盤形或板形地以橫向于(特別是 垂直于)第一光束的輻射方向的兩個(gè)主延/f申方向來(lái)實(shí)施，并且例如可以是 多邊形，特別是矩形或正方形，此外也可以是圓形、橢圓形或上述各種形 狀的組合。兩個(gè)主延伸方向在此例如可互相垂直。在圃形或橢圓形的相位 修改元件中，其中一個(gè)主延伸方向可以沿著半徑而另一個(gè)主延伸方向沿著
一個(gè)旋轉(zhuǎn)角度來(lái)設(shè)定。第一相位修^LiL件的不同的相位修改區(qū)域的布置在 此可沿著一個(gè)主延伸方向來(lái)實(shí)施，使得多個(gè)不同的相位修改區(qū)域可形成帶
狀的圖案。在圓形或橢圓形的相位修改元件的情況下，多個(gè)不同的相位修
改區(qū)域也可形成扇形的、圃環(huán)或橢圓環(huán)形式的圖案。替選地或者附加地，
不同的相位修改區(qū)域的布置也可在第二主延伸方向中實(shí)施，使得例如可以
以矩陣形式來(lái)布置多個(gè)相位修改區(qū)域。相位修改區(qū)域的尺寸(即例如帶的
寬度)在此優(yōu)選可以大于第一電磁輻射的波長(zhǎng)。相位輪廓在此可有利地具
有與相位修改區(qū)域的布置相同的圖案，即例如帶狀圖案或矩陣形式的圖案。
可以特別有利的是，相位輪廓的振幅(即由笫一相位修改元件所造成 的相位的變化)在第一和第二區(qū)域之間改變至少1.5tt，即至少270。。在 此，第一和第二區(qū)域不必互相鄰接。特別是階梯形式的相位輪廓可具有隨 機(jī)的相位分布。在此，笫一相位修改元件可具有多個(gè)部分區(qū)域，其數(shù)目大 于或等于5并且小于或等于15。此外，連續(xù)的周期性相位^^廓(例如， 正弦形相位輪廓)可在照明區(qū)域中具有多個(gè)周期，周期的數(shù)目為大于或等 于1并且小于或等于5。
如果第一束例如設(shè)計(jì)用于在表面上移動(dòng)，則可以有利的是，相位修改 元件設(shè)置在第一束中，使第一束的相位輪廓在第一束入射至此表面上時(shí)在此表面上平行于第一束的移動(dòng)方向而改變。在相位修改區(qū)域布置成帶狀 時(shí)，第一束在表面上的由此得到的相位輪廓具有帶狀區(qū)，這些帶狀區(qū)優(yōu)選 垂直于笫一束的移動(dòng)方向。例如，該束也可在兩個(gè)移動(dòng)方向上在表面上移 動(dòng)，其中該束在一個(gè)移動(dòng)方向中比在另一移動(dòng)方向中更快地移動(dòng)。在此可 以有利的是，前面所述的內(nèi)容適用于該快速的移動(dòng)方向。
在此，可有利地構(gòu)建相位修改元件，使得第一電磁輻射的振幅和/或 強(qiáng)度不改變或幾乎不改變，使得該相位修改元件不會(huì)造成功率損耗或只會(huì)
造成較小的功率損耗。特別地，在此第一相位修改元件可AA全部的第一 束且在此優(yōu)選為透明的。
第一相位修改元件在此可具有至少兩個(gè)對(duì)第一電磁輻射而言光學(xué)路 徑長(zhǎng)度并不相同的區(qū)域，其中不同的路徑長(zhǎng)度可由不同的厚度和/或不同
的折射率造成。這特別是可以意味著第一束在第一相位改變?cè)闹辽?兩個(gè)區(qū)域中必須橫越兩個(gè)不同的光學(xué)^^長(zhǎng)度，使第一束的經(jīng)由第一區(qū)域 而輻射的部分的第一電磁輻射的相位相對(duì)于第一束的經(jīng)由第二區(qū)域而輻 射的部分的相位發(fā)生變化.不同的厚度例如可通iit目位修改元件的至少一 個(gè)輻射入射面或輻射出射面的結(jié)構(gòu)化來(lái)實(shí)現(xiàn)。不同的折射率例如可通過(guò)除 了支承體材料之外添加或使用不同的材料來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，第一相位修改元 件可具有透明的玻璃或透明的塑料，或由這些材料構(gòu)成。在此，可以在部 分區(qū)域中通過(guò)離子交換或離子^來(lái)使折射率改變。此外，相位修改元件
的材料的密度在不同的部分區(qū)域中可不相同。
此外，第一相位修改元件可以實(shí)施為全息像板(holographische Bildplatte)。在此，相位修改區(qū)域、即例如第一區(qū)域和第二區(qū)域可具有全 息的結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)適于將第 一電磁輻射的相位分別修改為彼此不同。
相位修改元件特別是可以透射性地或者反射性地實(shí)施，這意味著在 第一電磁輻射穿過(guò)該相位修改元件時(shí)或在表面上^^射時(shí)，相位修改元件可 修改該第一電磁輻射的相位。
在另 一 實(shí)施形式中，通過(guò)第 一相位修^tit件對(duì)笫 一 電磁輻射的相位的 改變可隨著時(shí)間而變化。這例如可借助下述方式來(lái)實(shí)現(xiàn)第一相位修^tit 件可橫向于第一束的輻射方向(即不平行于第一電磁輻射的M)而移動(dòng)。 例如，在此可以是一種周期性的移動(dòng)，特別優(yōu)選的是在與第一電磁輻射的 光路垂直的方向中移動(dòng)。此外，在此可以涉及直線的移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)，替選地 或者附加地，在第一相位修改元件的至少一個(gè)區(qū)域中或多個(gè)區(qū)域中第一電 磁輻射的相位修改可隨著時(shí)間而變化。該移動(dòng)在此例如可借助為此設(shè)計(jì)的和/或合適的馬達(dá)或壓電元件來(lái)引起。如果第 一相位修改元件相對(duì)于第一 束移動(dòng)，則可產(chǎn)生斑點(diǎn)圖案的持續(xù)改變，這樣例如除了使斑點(diǎn)圖案發(fā)生變 化之外，譬如由于第一光束在粗的表面上的移動(dòng)而進(jìn)一步增強(qiáng)上面所描述
的、變化的斑點(diǎn)圖案通it^察者的眼睛的平均效應(yīng)。
在一個(gè)實(shí)施形式中，由第一輻射源所發(fā)出的電磁輻射特別是具有在紫 外至紅外波長(zhǎng)范圍中的頻鐠的電磁輻射。此外，該頻鐠優(yōu)選可以具有可見(jiàn) 光的波長(zhǎng)范圍。該頻鐠特別是可包括至少一個(gè)成份，其波長(zhǎng)介于大約 400nm到大約800nm之間。特別優(yōu)選的是，第一電磁輻射具有藍(lán)、綠或 紅色波長(zhǎng)，并且特別優(yōu)選地包括單色的電磁輻射。
在一個(gè)實(shí)施形式中，相干的第一電磁輻射具有大的相干長(zhǎng)度。這特別 是可以意味著第一電磁輻射具有數(shù)量級(jí)是由米至百米或更大的相千長(zhǎng) 度。
特別優(yōu)選的是，第一電磁輻射是可良好準(zhǔn)直的，使得相干的第一電磁 輻射的笫一束在準(zhǔn)直之后具有小的發(fā)散性，于是第一束的光M截面在遠(yuǎn) 離第一輻射源的距離處只稍微擴(kuò)大或甚至未擴(kuò)大。第一電磁輻射的該距離 在此可在數(shù)米的數(shù)量級(jí)中a
此外有利的是，第一輻射源適于發(fā)出強(qiáng)度高的第一電磁輻射。高的強(qiáng) 度在此可通過(guò)第一電磁輻射的高的功率和小的射A^截面來(lái)給出。例如，
該射J^截面可具有一微米至翁:微米范圍中的直徑或邊長(zhǎng)，優(yōu)選為大約5 微米。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施形式中，第一輻射源包括激光器.在此，該激光 器例如可具有激光二極管，該激光二敗管在具有緊湊的構(gòu)造尺寸的情況下 可產(chǎn)生高射束質(zhì)量的相干的第一電磁輻射。
該激光二級(jí)管在此可包括具有有源區(qū)的半導(dǎo)體層序列，其適于在工作 時(shí)發(fā)出相干的第 一電磁輻射的第 一束。半導(dǎo)體層序列在此可以實(shí)施為外延 層序列或具有外^g:序列的發(fā)出輻射的半導(dǎo)體芯片(即實(shí)施為外延生長(zhǎng)的 半導(dǎo)體層序列)。在此，半導(dǎo)體層序列例如可以基于InGaAlN來(lái)實(shí)施?；?于InGaAlN的半導(dǎo)體芯片和半導(dǎo)體層序列特別是指以外延方式制造的 半導(dǎo)體層序列通常具有由不同的單個(gè)的層構(gòu)成的層序列，該層序列包含至 少一個(gè)單個(gè)的層，該單個(gè)的層具有來(lái)自III-V化合物半導(dǎo)體材料系 InxAlyGai_x_yN的材料，其中(te^1， 05y5l且x + y51。具有至少一個(gè)基 于InGaAlN的有源層的半導(dǎo)體層序列例如可優(yōu)選發(fā)出如下電磁輻射該電磁輻射帶有在紫外至綠色波長(zhǎng)范圍中的一個(gè)或更多個(gè)頻譜成份。
替選地或者附加地，半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片也可以基于
InGaAlP，也就是說(shuō)，半導(dǎo)體層序列可具有不同的單個(gè)的層，其中至少一 個(gè)單個(gè)的層具有來(lái)自III-V化合物半導(dǎo)體材料系InxAlyGai-x_yP的材料，其 中0￡xSl， 0SySl且x + yH具有至少一個(gè)基于InGaAlP的有源層的半 導(dǎo)體芯片或者半導(dǎo)體層序列例如可以優(yōu)i^C射如下電磁輻射其在綠色至 紅色波長(zhǎng)范圍中具有一個(gè)或更多個(gè)頻鐠成份。
替選地或者附加地，半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片也可具有其他的 III-V-化合物半導(dǎo)體材料系，例如基于AlGaAs的材料，或具有n-vi-化 合物半導(dǎo)體材料系。特別地，具有基于AlGaAs的材料的有源層可以適于 發(fā)出如下電磁輻射該電磁輻射在紅色至紅外波長(zhǎng)范圍中具有一個(gè)或更多 個(gè)頻鐠成份。
在另一實(shí)施形式中，第一輻射源具有輻射出射面，工作時(shí)所產(chǎn)生的相 干的第 一電磁輻射可以經(jīng)由此輻射出射面發(fā)出。特別是在包括半導(dǎo)體層序 列或半導(dǎo)體芯片的激光二極管的情況下，半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片可具 有該輻射出射面。例如，半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片可以是itJL射式激光 二極管。這特別是可以意味著該輻射出射面由半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯 片的側(cè)面形成。此外，該輻射出射面例如也可包括多個(gè)側(cè)面。替選地，半 導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片也可以是垂直發(fā)射式激光二fel管(VCSEL),使 該輻射出射面可由半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片的主表面形成。此外，第一
輻射源可包括多個(gè)半導(dǎo)體層序列或半導(dǎo)體芯片，或包括具有多個(gè)有源區(qū)的 一個(gè)半導(dǎo)體層序列或一個(gè)半導(dǎo)體芯片。通過(guò)這種方式，例如可能在第一有
源區(qū)中產(chǎn)生電磁輻射，其在第二有源區(qū)中例如可通過(guò)光學(xué)泵浦而產(chǎn)生第一
電磁輻射。此外，第一輻射源也可具有用來(lái)混合頻率或特別是用來(lái)4吏頻率
加倍的元件。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施形式中，第一輻射源并不具有準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)。這特 別是可以意味著由第 一輻射源所發(fā)出的第 一電磁輻射是一種發(fā)散的光 束，即并未被準(zhǔn)直。由第一輻射源所發(fā)出的第一束特別是可以具有大于或 等于5度并且小于或等于20度的發(fā)散角。特別地，第一束在由第一輻射 源發(fā)出時(shí)可具有數(shù)平方微米的射J^截面。例如，第一射M截面可具有 基本上是矩形的形狀，其邊長(zhǎng)在1微米至數(shù)微米的范圍中，例如3至5 微米。
在一個(gè)特別優(yōu)選的實(shí)施形式中，第一相位修改元件在笫一電磁輻射的光路中緊接著設(shè)置在第一輻射源之后。這特別是可以意味著第一輻射源 和笫一相位修改元件之間未設(shè)置聚焦光學(xué)系統(tǒng)或準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)。這可以意 味著第一束作為發(fā)散光束(即未準(zhǔn)直的光束)入射至第一相位修改元件 上。
在另一優(yōu)選的實(shí)施形式中，所述裝置此外包括第一光學(xué)元件，其中該 第 一光學(xué)元件在第一電磁輻射的光路中設(shè)置在第 一相位修改元件之后。特 別地，第一光學(xué)元件可以適于使第一束準(zhǔn)直和/或聚焦，并且由此例如包 括準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)或聚焦光學(xué)系統(tǒng)。在此，第一束在穿過(guò)第一光學(xué)元件之后 例如可具有更小的發(fā)散角或不具有發(fā)散角和/或具有更小的射束橫截面。 "更小的發(fā)散角，，以及"更小的射絲截面"在此特別是意味著在第一束的 輻射方向中，在第一光學(xué)元件之后的該第一束的發(fā)散角或射M截面小于 第一光學(xué)元件之前的發(fā)散角或射M截面。第一光學(xué)元件在此可i史置于離 第一輻射源為大于或等于0.5毫米且小于或等于5毫米、優(yōu)選小于或等于 2毫米的距離處。第一光學(xué)元件例如可以具有一個(gè)或更多的透鏡或具有透 鏡系統(tǒng)，其適于使第一輻射源所發(fā)出的發(fā)散光束準(zhǔn)直和/或聚焦。第一光 學(xué)元件在此例如可具有變形地(anamorphotisch )成型的透鏡以作為準(zhǔn)直 光學(xué)系統(tǒng)或準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)的一部分。
如上所述，相位修改元件可以適于產(chǎn)生第一電磁輻射的"粗的"相位 波前，其中第一束可以3JC散的。通過(guò)在第一束的光路中在第一相位修改 元件之后設(shè)置第一光學(xué)元件，例如可通過(guò)在共軛平面中、即在無(wú)窮或者在 一個(gè)表面上將第一束準(zhǔn)直而產(chǎn)生具有"粗的"相位波前的平面波。
通過(guò)在第一幅射源和第一光學(xué)元件之間設(shè)置第一相位修改元件，可以 有利地實(shí)現(xiàn)一種緊湊且構(gòu)造簡(jiǎn)單的裝置，因?yàn)閷?duì)在第一電磁輻射的iW中 設(shè)置在該光學(xué)元件之后的相位修改元件而言，該光電子裝置不需具有額外 的位置。
在另 一實(shí)施形式中，第一相位4務(wù)改元件與笫一輻射源隔開(kāi)一個(gè)距離， 該距離小于或等于笫一光學(xué)元件至第一輻射源的距離的一半。特別優(yōu)選 地，相位修改元件至第一輻射源的距離可以大于或等于第一光學(xué)元件至第 一輻射源的距離的10%且小于或等于該距離的20%。通過(guò)這種方式，可 有利地使用緊湊的笫一相位修改元件，該相位修改元件仍然足夠大，以使 可能的衍射效應(yīng)可忽略或可^L接受。
在另一優(yōu)選的實(shí)施形式中，輻射轉(zhuǎn)向元件適于^f吏第一束轉(zhuǎn)向到表面 上。這意味著為此可設(shè)置該輻射轉(zhuǎn)向元件以使第一束轉(zhuǎn)向到表面上。"轉(zhuǎn)向到表面上，，在此例如意味著第 一束在不同的時(shí)間點(diǎn)入射至表面的不同 的部分區(qū)域上。于是，輻射轉(zhuǎn)向元件可以設(shè)計(jì)成能夠在一時(shí)間中或一時(shí)間 間隔中實(shí)現(xiàn)和引起第一射束的射束方向連續(xù)地或者逐步地變化。在此，輻 射轉(zhuǎn)向元件可包括至少一個(gè)可轉(zhuǎn)向的鏡面。這種也稱為"掃描鏡面"的鏡面 且例如可在一維或二維中轉(zhuǎn)向。例如，此鏡面可圍繞兩個(gè)互相垂直的軸線 而分別旋轉(zhuǎn)一定的角度。此外，該鏡面可沿著一個(gè)或多個(gè)空間方向、例如 沿著兩個(gè)不平行的空間方向而連續(xù)地或逐步地和/或周期地偏移。
此外，輻射轉(zhuǎn)向元件可以適于和/或設(shè)計(jì)成讓第一束周期性地掃過(guò)固 定的立體角區(qū)域。特別地，該固定的立體角區(qū)域可以是具有正方形或矩形 橫截面的立體角區(qū)域。這特別是可以意味著第一束可轉(zhuǎn)向到該表面的四 邊形的區(qū)域、特別優(yōu)選是正方形區(qū)域或矩形區(qū)域上。替選地或者附加地， 該固定的立體角區(qū)域也可以具有圓形、橢圓形或其他形狀的橫截面，該立 體角區(qū)域特別是可以為上述形狀的組合。該立體角區(qū)域在此優(yōu)選可以以行 的形式在相鄰的行中被掃過(guò)。
借助上述的掃描鏡面，則第一束可轉(zhuǎn)向至一表面，譬如墻壁、熒光屏、 銀幕等等，并且由此使第一電磁輻射投影至該表面上.該表面的在不同的 時(shí)刻被第一射束照明的部分區(qū)域特別是可解釋成文字?jǐn)?shù)字或圖形的顯示 的像素，于是在通過(guò)行形式和列形式地掃描該表面的限定的面iMt該表面 進(jìn)行連續(xù)的照明時(shí)，在同時(shí)4吏第一電磁輻射的強(qiáng)度改變的情況下可4吏信息 顯示在該表面上。該光電子裝置因此可以是一種投影裝置，其使用所謂的 "飛點(diǎn)(flying spot)"方法^t信息進(jìn)行投影。
在一個(gè)特別優(yōu)選的實(shí)施形式中，該光電子裝置形成投影儀、特別是激 光器投影儀的至少一部分。此外，該光電子裝置可以是這種投影儀。
在另一實(shí)施形式中，光電子裝置此外包括第二輻射源，其適于在工作 時(shí)發(fā)出相干的第二電磁輻射的第二束。
此外，該裝置可包括第二相位修改元件，其設(shè)置在第二電磁輻射的光 路中，且適于或設(shè)計(jì)用于在第二束的部分區(qū)域中使第二電磁輻射的相位改 變。替選地，該裝置可并不包括第二相位修改元件。這可以意味著，只有 第 一相位修^Ut件緊接著設(shè)置在第 一輻射源之后。
此外，該裝置可包括一種光學(xué)組合器以使第 一束和第二^目疊加成組 合的第一和第二射束。光學(xué)組合器在此譬如可以實(shí)施為二色性的鏡面或二 色性的棱鏡，其適于使第一束反射而使第二束透過(guò)，或使第一束透過(guò)而使第二束反射。
第二輻射源特別是可具有在上面參照第一輻射源所描述的特征。同 樣，第二相位修改元件也可以具有如上面結(jié)合第 一相位修改元件所描述的特征。
特別優(yōu)選地，該組合的第一和第二束入射至輻射轉(zhuǎn)向元件，使得只有 一個(gè)包括第 一和第二電磁輻射的束射到該表面上，但此束在其色覺(jué)中可以 通過(guò)第 一和第二電磁輻射分別的強(qiáng)度的變化來(lái)改變。
特別優(yōu)選的是，第一電磁輻射和第二電磁輻射可互相不同。
在另一優(yōu)選的實(shí)施形式中，該裝置此外包括第三輻射源，其適于或設(shè) 計(jì)用于在工作中發(fā)出相干的第三電磁輻射的笫三束。
此外，該裝置可在第三電磁輻射的光路中具有第三相位修改元件，以 使第三束的部分區(qū)域中的第三電磁輻射的相位改變。替選地，該裝置可以 并不具有第三相位修改元件。這可以意味著第一輻射源之后只設(shè)置第一相
位修^UL件。替選地，這可以意味著第一輻射源之后只設(shè)置第一相位修改 元件而第二輻射源之后i殳置笫二相位修改元件。
此外，該裝置可包括光學(xué)組合器，譬如二色性的鏡面或二色性的棱鏡， 以使第 一和/或第二束與第三^t目疊加。
第三輻射源或第三相位修改元件可具有上面結(jié)合第 一輻射源或第一 相位修改元件所描述的特征。特別地，輻射轉(zhuǎn)向元件可以在第一和/或第 二和/或第三輻射的光路中設(shè)置在光學(xué)組合器之后。
特別優(yōu)選的是，第一和第二和第三電磁輻射可互相不同。在此，第二 相位^務(wù)改元件和/或第二輻射源之后可設(shè)置第二光學(xué)元件，該第二光學(xué)元 件包括如上面結(jié)合第一光學(xué)元件所描述的特征。此外，第三相位修改元件 和/或第三輻射源之后可^:置第三光學(xué)元件，其包括如上面結(jié)合第一光學(xué) 元件所描述的特征。
笫一、第二和第三電磁輻射可特別優(yōu)選地包括紅、綠和藍(lán)色的波長(zhǎng)， 4吏轉(zhuǎn)向至該表面上的、由第一、第二和第三束所疊加的束可造成混色的色 覺(jué)。通過(guò)第一、第二和第三電磁輻射的強(qiáng)度上的相對(duì)變化，由此可造成變
化的發(fā)光印象。該光電子裝置由此例如可以實(shí)施為RGB投影機(jī)。
本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)和有利的實(shí)施形式以及改進(jìn)方案由以下結(jié)合

圖1 至3所描述的實(shí)施形式中得出。其中
圖1示出了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的具有第一輻射源的光電子裝置的示意
圖，
圖2和圖3示出了^iL據(jù)另外的實(shí)施例的具有第一輻射源的光電子裝置 的示意圖，
圖4示出了根據(jù)另一實(shí)施例的具有第一、笫二和第三輻射源的光電子 裝置的示意圖，
圖5A至5D示出了根據(jù)另外的實(shí)施例的相位修改元件的示意圖， 圖6A和6B示出了能夠通過(guò)相位1務(wù)改元件所產(chǎn)生的相位輪、雍的圖，
以及
圖7和圖8示出了關(guān)于斑點(diǎn)圖案對(duì)比度與帶狀的相位l^廓的相位修改 區(qū)域的數(shù)目以及相位輪廓的最大振幅的關(guān)系的圖。
在實(shí)施例和附圖中，相同或作用相同的組成部分分別"i殳有相同的參考 標(biāo)號(hào)。所示的元件和其相互之間的大小比例基本上不能視為合乎比例，更 為確切地說(shuō)，各元件例如層、部件、組件及其表面和區(qū)域?yàn)榱四芨玫仫@ 示和/或?yàn)榱四芨玫乇焕斫舛诤穸然蛟诔叽缟峡梢员豢浯蟮厥境觥?br> 圖1示出了具有第一輻射源11的光電子裝置1的一個(gè)實(shí)施例。第一 輻射源11適于在工作中發(fā)出相干的第一電磁輻射的第一束110。相干的 第一電磁輻射在此具有平滑的相位波前111，其中笫一電磁輻射的M沿 著以Pl來(lái)表示的方向而延伸。所示的實(shí)施例中的輻射源11優(yōu)選是激光器， 其可發(fā)出 一種具有大的相干長(zhǎng)度的第 一束第 一電磁輻射。
在第一電磁輻射的第一光束110的光路中，該輻射源11之后設(shè)置有 第一相位修^tit件21,其在第一光束110的光A^截面中具有第一和第 二相位修改區(qū)域211、 212，這些相位修改區(qū)域?qū)室浑姶泡椛涠苑謩e 具有不同的光學(xué)#長(zhǎng)度。在所示的實(shí)施例中，特別是第一相位修改元件 21的第一區(qū)域211所具有的光學(xué)5M^長(zhǎng)度小于第二區(qū)域212的光學(xué)# 長(zhǎng)度。通過(guò)這種方式，第一束110在橫穿笫一相位修改元件21之后具有 一種相位波前U2，其具有兩個(gè)部分區(qū)域1101和1102，其中在部分區(qū)域 1102中的相位相對(duì)于在部分區(qū)域1101中的相位而偏移，并且特別是第一 部分區(qū)域1101中的相位緊追著第二部分區(qū)域1102中的相位。通過(guò)第一相 位修改元件21，由此可實(shí)現(xiàn)一種具有階梯式輪廓的粗的相位波前112。替 選地或者附加地，第一相位修^it件21可以具有全息結(jié)構(gòu)，其可替選地或者附加地在部分區(qū)域1101和1102的相位之間造成相位差。
裝置1特別是在第一輻射源11和第一相位修改元件21之間不具有其 他元件，特別是不具有其他的光學(xué)元件，使得在光路中第一相位修改元件 21緊接著設(shè)置在第一輻射源11之后。
在沿著第一電磁輻射的方向Pl的光路中，在笫一相位修改元件21 之后設(shè)置有輻射轉(zhuǎn)向元件4，其使沿著方向Pl的射束方向改變成沿著方 向P2的射束方向。該輻射轉(zhuǎn)向元件4特別適于使方向P2改變。
圖2示出了光電子裝置2的另一實(shí)施例，其具有實(shí)施為激光二極管的 第一輻射源11。激光二極管在此可以具有本說(shuō)明書(shū)的發(fā)明內(nèi)容部分中所 述的至少一個(gè)實(shí)施形式的特征。激光二極管特別是具有半導(dǎo)體芯片，并且 實(shí)施為iiJL射式或者垂直發(fā)射式半導(dǎo)體芯片。激光4管在工作中發(fā)出具 有平滑的相位波前l(fā)ll的、相干的第一電磁輻射的第一束110，其具有沿 著方向Pl的光路。在此，輻射源11并不包括準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)或聚焦光學(xué)系 統(tǒng)，而;UL出發(fā)散的、相干的第一電磁輻射的第一束UO，其具有譬如是 矩形的射M截面，此射A^截面開(kāi)始時(shí)具有大約3微米和5微米的邊長(zhǎng) 且具有彎曲的平滑的相位波前。第一束110在此典型地具有大約5度至大 約20度的發(fā)/軟角1100。這些值在此應(yīng)當(dāng)純粹理解為示例性的，并且與所 使用的第一輻射源1的類型有關(guān)。
發(fā)散的第一束110橫穿具有多個(gè)相位修改區(qū)域的相位修改元件21, 使得笫一束在透過(guò)第一相位修改元件21之后具有相干的第一電磁輻射， 其帶有彎曲的粗的相位波前112。
在第一束110的光路中，大約與該輻射源11間隔lmm至2mm而在 第一相位修改元件21之后設(shè)置有第一光學(xué)元件31，該第一光學(xué)元件設(shè)計(jì) 成變形透鏡用于準(zhǔn)直以及射束成形。通過(guò)這種方式，第一束110在橫穿第 一光學(xué)元件31之后具有l(wèi)^上圃形的射J^lt截面和平坦的、粗的相位波 前113。第一束110特別是通過(guò)第一光學(xué)元件21來(lái)準(zhǔn)直且具有小的發(fā)散 性。
通過(guò)實(shí)施為可移動(dòng)的、例如可旋轉(zhuǎn)的掃描鏡面的該輻射轉(zhuǎn)向元件4， 輻射方向可改變成以P2來(lái)表示的方向。在此，掃描鏡面4可以圍繞垂直 于圖面的軸線而旋轉(zhuǎn)，如通過(guò)雙箭頭41所表明的那樣。此外，掃描鏡面 4也可圍繞與其垂直的軸線來(lái)移動(dòng)(例如旋轉(zhuǎn))，但出于清楚的原因并未 示出。通過(guò)這種方式，該方向P2可在由該掃描鏡面4的角度所設(shè)定的立體角范圍中連續(xù)地改變。
借助該掃描鏡面4，第一束110可轉(zhuǎn)向至例如優(yōu)選平坦的裝置9 (譬 如墻壁、熒光屏、銀幕等等)的表面91上，由此它們?cè)诓糠謪^(qū)域卯中由 光電子裝置2來(lái)照明，或第一束110在這些部分區(qū)域90中可投影至表面 上。這些部分區(qū)域卯特別是可解釋成文字?jǐn)?shù)字或圖形的顯示器的像素， 使得在通it^面91的限定的面積的行和列形式的掃描以使該表面91連續(xù) 地受到照射時(shí)(如通過(guò)雙箭頭41所示)，在同時(shí)使第一電磁輻射的強(qiáng)度改 變的情況下可以將信息顯示在表面91上。因此，傳^l所示的實(shí)施例，光 電子裝置2是投影裝置。
譬如由方向P3向該表面觀看的觀察者可以感知這樣顯示的信息。在 任何時(shí)刻，此觀察者可感知方向P3的反方向中由表面91所^^射的第一 電磁輻射的干涉圖像，其是由表面91的粗糙度和第一束110的粗的相位 波前113所給出的。該觀察者可感知的干涉圖^象或斑點(diǎn)圖案由第一束110 在該表面91的拓樸粗糙度結(jié)構(gòu)上的散射和衍射所造成。由于在第一束110 在該表面91上譬如沿著方向941移動(dòng)時(shí)，粗的相位波前113的位置持續(xù) ^M目對(duì)于該拓樸^^t變結(jié)構(gòu)而改變，所以在觀察者處該干涉圖4象并且由此 該斑點(diǎn)圖案印象也發(fā)生變化。由于觀察者的眼睛的惰性，則該觀察者僅僅 感知到時(shí)間上平均的斑點(diǎn)圖案，這意味著由于該干涉圖像的統(tǒng)計(jì)性質(zhì)，該 斑點(diǎn)圖案印象被明顯地減弱或甚至已不能被查覺(jué)。
為了強(qiáng)化該效應(yīng)，相位修^Lit件21例如可附加地在與沿著方向Pl 的射束方向不平行的方向中移動(dòng)，4吏得粗的相位波前113在時(shí)間上可變地 修改。
在圖3中在示意性透視圖中示出了光電子裝置3的另一實(shí)施例。在此， 光電子裝置3具有像先前的光電子裝置2的實(shí)施例中所述的特征，因此以 下只對(duì)另外的特征來(lái)說(shuō)明。笫一束具有高斯射束輪廓且通過(guò)光學(xué)元件 31(在所示的實(shí)施例中是準(zhǔn)直透鏡)來(lái)準(zhǔn)直。光學(xué)元件31在此與第一輻射 源ll相隔距離1103。
借助可在兩個(gè)互相正交的方向41和42中移動(dòng)的鏡面4，則第一束110 可轉(zhuǎn)向至表面91且在該表面91上在兩個(gè)方向941和942中以行和列的形 式移動(dòng)。在此，沿著方向941的移動(dòng)較沿著方向942的移動(dòng)更快，由此可 使光束110在相鄰的行中掃描該表面91。特別地，該移動(dòng)可以在方向942 中逐步進(jìn)行。此外，光電子裝置3包括相位修改元件21，其與輻射源21相隔距離 1102，該距離1102小于距離1103的20%,相位修^tit件21具有多個(gè)修 改相位的、帶狀設(shè)置的區(qū)域，其中顯示出純粹作為舉例用的第一區(qū)域211 和第二區(qū)域212。相位修^Ut件21在此適于產(chǎn)生第一電磁輻射的帶狀和 階梯形式的相位輪廓，并且在第一光束UO中定向，使得具有相同相位的 帶9211、 9212垂直于快速的移動(dòng)方向941。通過(guò)這種方式，可以有利地 有利于結(jié)合圖2所描述的、在時(shí)間上平均的斑點(diǎn)圖案的效應(yīng)。為了強(qiáng)化此 效應(yīng)，該相位修改元件21可附加地在與帶狀的區(qū)域211、 212相垂直的方 向中來(lái)回移動(dòng)。
圖4示出了光電子裝置4的一個(gè)實(shí)施例，該裝置能夠^L據(jù)先前的實(shí)施 例而將全彩的信息投影到表面91上。為此，光電子裝置3具有第一輻射 源11、第二輻射源12和第三輻射源13，它們例如分別發(fā)出(第一)紅色， (第二 )綠色和(第三)藍(lán)色的單色的相千的電磁輻射。相應(yīng)的波長(zhǎng)與相 應(yīng)的輻射源的關(guān)聯(lián)在此純粹是示例性的。就像先前的實(shí)施例一樣，輻射源 11、 12、 13之后分別設(shè)置第一、第二和第三相位4務(wù)改元件21、 22、 23以 及第一、第二和第三光學(xué)元件31、 32、 33。
由第一輻射源11所發(fā)出的第一束110和由第二輻射源12所發(fā)出的第 二束120經(jīng)由光學(xué)組合器而疊加成一束152 ，其具有第 一和第二電磁輻射， 并且由此包括第一束110和第二束120。光學(xué)組合器51在此實(shí)施為二色 性的鏡面，其可透過(guò)第一電磁輻射且使第二電磁輻射反射。束152此外借 助另一光學(xué)組合器52與由第三輻射源13所發(fā)出的第三束130疊加成束 153，該束因此包含第一、第二和第三電磁輻射。光學(xué)組合器52在此同樣 是二色性的鏡面，其可透過(guò)第 一和第二電磁輻射而使第三電磁輻射反射。 替選地，光學(xué)組合器51和52可以實(shí)現(xiàn)為單件式的部件。
包括笫一、第二和第三束IIO、 120、 130的束153如先前的實(shí)施例一 ##助輻射轉(zhuǎn)向元件4 (譬如掃描鏡面)而轉(zhuǎn)向至表面91上。通過(guò)掃描 鏡面位置和第一、第二和第三電磁輻射的相對(duì)強(qiáng)度的周期性改變，由此可 使在表面上實(shí)現(xiàn)全色的信息投影。
在圖5A和5B中示出了矩形的相位修^Ut件21的實(shí)施例，其示出多 個(gè)相位^^改區(qū)域的帶狀的或矩陣形式的設(shè)置。在此，為了清楚的緣故，只 標(biāo)明了第一區(qū)域211和第二區(qū)域212。在圖5C和5D中所示的實(shí)施例的 相位修改元件21具有圓形的形式。在圖5C中在此示出了相位修改區(qū)域 的扇形的布置，而在圖5D中則示出了一種對(duì)應(yīng)的矩陣形式的布置。替代能夠產(chǎn)生階梯式相位輪廓的離散的相位修改區(qū)域，各區(qū)域也可連續(xù)地互相
過(guò)渡，使得能夠產(chǎn)生連續(xù)的相位輪廓。矩形和圃形在圖5A至5D中只是 純粹示例性地示出。
圖6A示例性地示出了圖形601，其中示出了隨機(jī)分布的階梯狀的相 位輪廓。x軸在此表示射^t截面上的階梯分布，而y軸表示相移，即通
改。最大的相移幅度("幅度")、即最大的相移差在此大于270。。理論上 的觀察和計(jì)算顯示出利用可以產(chǎn)生根據(jù)圖6A的相位輪廊的相位修改元 件21，幾乎可使斑點(diǎn)對(duì)比度下降5倍。
圖6B在圖形602中示出了一種連續(xù)的正弦形式的相位輪廓，其具有 大約1.8個(gè)周期且振幅大約是2冗。理論上的觀察和計(jì)算顯示出，通過(guò)這種 方式幾乎可使斑點(diǎn)對(duì)比度下降3倍，這例如可借助電磁輻射的光束中的相 對(duì)應(yīng)的相位修^it件21的移動(dòng)而進(jìn)一步提高。
圖7在圖形701中示出了借助相位修^tit件21引起的斑點(diǎn)對(duì)比度下 降與最大相移幅度的關(guān)系。在此，最大相移幅度繪制在x軸上(以rad為 單位)而由此所得到的斑點(diǎn)對(duì)比度下降(SCR)繪制在y軸上。其中表明， 最大相移幅度至少為1.5兀時(shí);1有利的。
圖8在圖形801中針對(duì)大于1.5tc的最大相移幅度示出了在y軸上的 斑點(diǎn)對(duì)比度下降相對(duì)于x軸上所示的相位修改元件的相位修改區(qū)域的數(shù) 目的關(guān)系，其中該相位l務(wù)改元件可產(chǎn)生譬如像圖6A所示的隨機(jī)分布的階 梯狀的相位輪廓。
根據(jù)上述的實(shí)施形式和實(shí)施例，可實(shí)現(xiàn)一種具有緊湊的、節(jié)省位置且 成本低廉的構(gòu)造以及在極大地減少斑點(diǎn)圖案印象或者使之完全不能被感 知的方面的良好顯示特性的投影裝置。本發(fā)明在此并不由于借助實(shí)施例的 描述而受限于此。更確切地說(shuō)，本發(fā)明包含任意新的特征和各特征的任意 組合，特別是包含權(quán)利要求中的特征的任意組合，即使該特征或者該組合 本身沒(méi)有明確地在權(quán)利要求或者實(shí)施例中明確地說(shuō)明。
權(quán)利要求
1.一種用于將相干的第一電磁輻射的第一束(110)投影到表面(91)上的光電子裝置，包括第一輻射源(11)，其適于在工作中發(fā)出相干的第一電磁輻射的第一束(110)，第一相位修改元件(21)，其位于第一電磁輻射的光路中，用于改變第一束(110)的部分區(qū)域(1102)中的第一電磁輻射的相位，以及輻射轉(zhuǎn)向元件(4)，其位于第一電磁輻射的光路中以使第一束(110)的輻射方向(P1，P2)改變。
2. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第一輻射源(11)包 括激光器。
3. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中激光器具有激光二極管。
4. 根據(jù)上i^利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中由第一輻射 源(11)發(fā)射的第一束(110) ^!JC散的。
5. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中由第一輻射 源(11)發(fā)射的第一束(110 )具有大于或等于5度并且小于或等于20度 的發(fā)散角(1100)。
6. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一相位修 改元件(21)在第一電磁輻射的光路中緊接著設(shè)置在第一輻射源(110) 之后。
7. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中該裝置還包 括第一光學(xué)元件(31)，并且第一光學(xué)元件(31)在第一電磁輻射的光路 中設(shè)置在第一相位修改元件(21)之后。
8. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第一光學(xué)元件(31) 適于將第一束(110)準(zhǔn)直和/或聚焦。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的光電子裝置，其中第一光學(xué)元件(31) 具有距第一輻射源(110)大于或等于0.5mm且小于或等于5mm的距離(1103 )。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一相位修改元件(21)與第一輻射源(110)隔開(kāi)一個(gè)距離(1102)，該距離小于 第一光學(xué)元件(31)至第一輻射源(110)的距離(1103)的一半。
11. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一相位修 改元件(21)至少具有第一區(qū)域(211)和第二區(qū)域(212)，它們^L計(jì)為 分別不同程度地修改第 一電磁輻射的相位。
12. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第 一和第二區(qū)域(211 ， 212)分別構(gòu)建為使得第一電磁輻射的相位在整個(gè)第一區(qū)域(211)中恒定 地修改，且第一電磁輻射的相位在整個(gè)第二區(qū)域(212)中恒定地修改。
13. 根據(jù)權(quán)利要求ll所述的光電子裝置，其中第一和笫二區(qū)域(211， 212)分別構(gòu)建為使得第一電磁輻射的相位與第一射束方向成橫向地連續(xù) 修改。
14. 根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一和 第二區(qū)域(211， 212)至少部分地具有對(duì)于第一電磁輻射彼此不同的光學(xué) 絲長(zhǎng)度。
15. 根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一和 第二區(qū)域(211， 212)具有至少部分地彼此不同的全息結(jié)構(gòu)。
16. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中第一電磁輻 射的相位的改變能夠通過(guò)第一相位修改元件(21)而隨時(shí)間變化。
17. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第一相位修改元件(21) 能夠橫向于第一電磁輻射的光路而移動(dòng)。
18. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中輻射轉(zhuǎn)向元 件(4)適于使第一束(110)轉(zhuǎn)向到表面(91)。
19. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中輻射轉(zhuǎn)向元 件(4)包括至少一個(gè)能夠轉(zhuǎn)向的鏡面。
20. 根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的光電子裝置，其中輻射轉(zhuǎn)向元 件(4)適于讓第一束(110)周期性地掃過(guò)固定的立體角范圍。
21. —種根據(jù)上^5l利要求中的任一項(xiàng)所述的光電子裝置，用于附加 地將相干的第二電磁輻射的第二束(120)投影到表面(91)上，其中該 裝置此外包括第二輻射源(12)，其適于在工作時(shí)發(fā)出相干的第二電磁輻射的第二 束(120 )，以及光學(xué)組合器(51)，用于將第一束(110)與第二束(120)疊加。
22. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第二相位修改元件(22) 設(shè)置在第二電磁輻射的光路中，用于改變笫二束(120)的部分區(qū) 域中的第二電磁輻射的相位。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21或22所述的光電子裝置，用于附加地將相干的 第三電磁輻射的第三束投影到表面(91)上，該裝置具有第三輻射源(13)，其適于在工作時(shí)發(fā)出相干的第三電磁輻射的第三 束(130 )，以及光學(xué)組合器(52),用于將第一束(110)和/或第二束(120)與第三 束(130)疊加。
24. 根據(jù)上一權(quán)利要求所述的光電子裝置，其中第三相位修改元件(23) 設(shè)置在第三電磁輻射的光路中，用于改變第三束(130)的部分區(qū) 域中的第三電磁輻射的相位。
全文摘要
一種光電子裝置，用于將相干的第一電磁輻射的第一束(110)投影至表面(91)上，該光電子裝置特別是具有第一輻射源(11)，其適于在工作中發(fā)出相干的第一電磁輻射的第一束(110)。此外，該光電子裝置包括在第一電磁輻射的光路中的第一相位修改元件(21)，其使第一束(110)的部分區(qū)域(1102)中的第一電磁輻射的相位改變，以及包括在第一電磁輻射的光路中的輻射轉(zhuǎn)向元件(4)，其使第一束(110)的輻射方向(P1，P2)改變。
文檔編號(hào)G02B27/48GK101595737SQ200780050439
公開(kāi)日2009年12月2日 申請(qǐng)日期2007年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月24日
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