專利名稱：：液晶顯示裝置的制造方法和液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及液晶顯示裝置的制造方法和液晶顯示裝置。更詳細而言，涉及能夠?qū)崿F(xiàn)優(yōu)異的顯示品質(zhì)的有源矩陣型液晶顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
：液晶顯示裝置是低電耗的顯示裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)輕量化及薄型化，所以，被廣泛地利用于電視、個人計算機用監(jiān)視器等。液晶顯示裝置為非自發(fā)光型的顯示裝置，通常，對夾持在一對基板(有源矩陣基板及彩色濾光片基板)之間的液晶分子的取向進行電控制，通過調(diào)節(jié)從背光源供給的光量能夠進行顯示。但是，液晶顯示裝置一般存在視野角特性較差的缺點，所以，在提高視野角特性方面存在改善的余地。相對于此，研發(fā)有在像素內(nèi)將液晶分子的傾斜方向分割為2以上的區(qū)域的取向分割的技術(shù)。根據(jù)該技術(shù)，在向液晶層施加電壓的情況下，液晶分子在像素內(nèi)向不同的方向傾斜，所以能夠改善視野角特性。此外，液晶分子的取向(傾斜)方向不同的各區(qū)域也被稱為疇，取向分割也被稱為多疇。作為進行取向分割的液晶模式，在水平取向模式中，可列舉多疇扭轉(zhuǎn)向列(TN;TwistNematic)模式、多疇雙折射控制(ECB;ElectricallyControlledBirefringence)模式、多疇光學補償雙折射(OCB;OpticallyCompensatedBirefringence)模式等。另一方面，在垂直取向模式中，可列舉多疇垂直取向(MVA;Multi-DomainVerticalAlignment)模式、PVA(PatternedVerticalAlignment)模式、多疇VAECB(VerticalAlignmentECB)模式、多疇VAHAN(VerticalAlignmentHybrid-alignedNematic)模式、多疇VATN(VerticalAlignmentTwistedNematic)模式等，在各模式的液晶顯示裝置中，完成了用于實現(xiàn)更加廣視野角化的各種改良。作為進行取向分割的方法，可列舉研磨法、光取向法等。作為研磨法，提案有將研磨區(qū)域和非研磨區(qū)域在利用形成有圖案的抗蝕劑分離的狀態(tài)下進行取向膜的研磨處理的方法。但是，研磨法通過用巻繞在輥上的布摩擦取向膜表面來進行取向處理。因而，在研磨法中，可能會產(chǎn)生布毛、削片等垃圾，或產(chǎn)生由靜電引起的開關(guān)元件的破壞、特性轉(zhuǎn)變、劣化等不良現(xiàn)象。另一方面，光取向法是使用光取向膜作為取向膜材料，向光取向膜照射(曝光)紫外線等的光，由此使取向膜產(chǎn)生取向限制力和/或使取向膜的取向限制方向變化的取向方法。因而，由于光取向法能夠以非接觸的方式進行取向膜的取向處理，所以能夠抑制在取向處理中的污垢、垃圾等的產(chǎn)生。此外，通過使用形成有具有所期望的圖案的透光部的圖案光掩模進行取向膜的曝光，能夠在不同的條件下對取向膜面內(nèi)的所希望的區(qū)域進行光照射，因此能夠容易地形成具有所希望的設計的疇。作為與光取向法相關(guān)的技術(shù)，例如公開有下述的技術(shù)，沿著通過取向分割形成的分割區(qū)域之間的邊界形成開口部的技術(shù)(例如，參照專利文獻1)，在分割取向區(qū)域的邊界部設置與該分割取向區(qū)域的液晶分子的取向狀態(tài)不同的區(qū)域的技術(shù)(例如，參照專利文獻2)。另外，液晶顯示裝置，一般在位于進行圖像(視頻)顯示的顯示區(qū)域的周圍的邊框區(qū)域(顯示外區(qū)域)配置用于對背光源的光進行遮光的遮光層。作為遮光層，通常使用形成在彩色濾光片基板上的樹脂制的黑矩陣(BM:blackmatrix)。但是，近年來，從縮小基板間的間隔(單元厚度)、提高液晶顯示裝置的響應速度的觀點出發(fā)，BM要求形成為非常薄。其結(jié)果，BM中的光透過率增加，在邊框區(qū)域產(chǎn)生漏光，會對在顯示區(qū)域顯示的圖像帶來不良影響。因此，在現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示裝置中，在提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量方面還有進一步改善的余地。相對于此，公開了下述技術(shù)，通過在形成于邊框區(qū)域的引出配線間設置遮光罩(Lightshielddevice:遮光器件)，能夠抑制在顯示區(qū)域的邊緣產(chǎn)生漏光(例如，參照專利文獻3)。但是，在配置遮光罩以覆蓋鄰接的引出配線的情況下，在一方的引出配線和遮光罩的層間設置的絕緣膜存在成膜不良，在其之間產(chǎn)生漏電的時候，遮光罩成為覆蓋不同的信號流入的另一方的引出配線的結(jié)構(gòu)，導致鄰接的引出配線受到相互的信號的影響。另外，在鄰接的兩根引出配線和遮光罩之間的兩處產(chǎn)生絕緣膜的成膜不良時，在鄰接的引出配線間經(jīng)由遮光罩產(chǎn)生配線漏電。因此，引出配線和遮光罩有必要分離配置。但是，如果引出配線和遮光罩的間隔離的過遠，則遮光罩就不能夠?qū)碜员彻庠吹墓膺M行充分的遮光，會產(chǎn)生漏光，顯示質(zhì)量下降。另一方面，如果引出配線和遮光罩的間隔過小，則在制造工序中，在引出配線的金屬膜上產(chǎn)生膜殘留，在該膜殘留與鄰接的引出配線漏電的情況下，存在不能夠修正該漏電的情況。即，即使通過利用激光切離該部(膜殘留)以修正漏電，還存在遮光罩也熔接的可能性，所以這種情況下，會出現(xiàn)修正不當。專利文獻1:日本特開2000-257646號公報專利文獻2:日本特開2002-31804號公報專利文獻3:美國專利第6975377號說明書
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明就是鑒于上述現(xiàn)狀而提出的，其目的在于提供一種不會產(chǎn)生不良現(xiàn)象而能夠提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置的制造方法以及液晶顯示裝置。本發(fā)明的發(fā)明者們，對于不會產(chǎn)生不良現(xiàn)象而能夠提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置的制造方法以及液晶顯示裝置進行了各種研究，著眼于在進行了基于光取向法的取向分割的情況下在各疇間產(chǎn)生的暗線、即暗的線。在現(xiàn)有技術(shù)中，通過在面內(nèi)具有一樣的透光部的圖案的光掩模，對與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)娜∠蚰みM行曝光，所以，發(fā)現(xiàn)在顯示區(qū)域中各疇間產(chǎn)生的暗線與在邊框區(qū)域中各疇間產(chǎn)生的暗線的形態(tài)(平面形狀、間距等)是相同的，并且，使用設置有第一掩模部和第二掩模部的光掩模，其中，上述第一掩模部形成有適于形成顯示區(qū)域的疇的透光部的圖案，上述第二掩模部形成有與掩模部的透光部的圖案不同的透光部的圖案，通過隔著第二掩模部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著第一掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光，由此，設定顯示區(qū)域的所希望的疇形式(疇和在疇間產(chǎn)生的暗線的配置形式)，并使得邊框區(qū)域中在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積與現(xiàn)有技術(shù)相比不同，更加優(yōu)選使之變大，結(jié)果，發(fā)現(xiàn)能夠抑制邊框區(qū)域附近產(chǎn)生漏光，能夠很好的解決上述課題，從而達成本發(fā)明。艮P，本發(fā)明涉及一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，上述制造方法包括使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第一掩模部和按照與第一掩模部的透光部的形態(tài)不同的形態(tài)在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第二掩模部的光掩模，隔著第二掩模部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著第一掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的曝光工序。由此，能夠適當?shù)匾?guī)定疇和在疇間產(chǎn)生的暗線的配置形態(tài)，在顯示區(qū)域?qū)崿F(xiàn)所希望的顯示特性，另一方面，能夠使得邊框區(qū)域中在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積與現(xiàn)有技術(shù)不同。即，能夠在邊框區(qū)域產(chǎn)生暗線，從而能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，由于為了在邊框區(qū)域中產(chǎn)生所希望的形態(tài)的暗線，只是改變第二掩模部的透光部的圖案，對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，所以在本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法中也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠制造不會產(chǎn)生不良現(xiàn)象并能夠提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置。下面，對本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法進行詳細敘述。上述取向膜是通過曝光進行取向處理的光取向膜，通常由根據(jù)光線的照射方向或者光線的照射區(qū)域的移動方向，液晶的取向方向發(fā)生變化的材料(光取向材料)形成。上述疇是隨著施加在液晶層的電壓變化發(fā)生變化的液晶層中包含的液晶分子的傾斜方向相互不同的多個區(qū)域。上述第一掩模部通常至少與顯示區(qū)域?qū)O置。即。上述第一掩模部也可以與顯示區(qū)域、邊框區(qū)域的一部分相對應設置，隔著第一掩模部對顯示區(qū)域和邊框區(qū)域的一部分的取向膜進行曝光也可以。另一方面，上述第二掩模部通常與邊框區(qū)域?qū)O置。在本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法中，透光部的形態(tài)不同，通常是指透光部的大小、平面形狀、排列方向以及配置(分布)的至少一種不同。此外，所謂配置也包括間距和周期。另外，在本說明書中，所謂間距通常是指相鄰的兩個物體(部件)的相對應的兩點間的距離，所謂透光部的間距通常是指相鄰的兩個透光部的相對應的兩點間的距離。另外，第一掩模部的透光部的間距與第二掩模部的透光部的間距不同的情況下，上述制造方法優(yōu)選包括使用設置有第一掩模部和第二掩模部的光掩模，隔著第二掩模部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著第一掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的曝光工序，其中，上述第一掩模部按照一定間距在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個透光部，上述第二掩模部按照與第一掩模部的透光部的間距不同的間距在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個透光部。本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法，只要是包括上述曝光工序，則不被其它工序特別限定。此外，通過本發(fā)明而制造的液晶顯示裝置具備一對相對的基板、在基板間設置的液晶層、和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇。作為通過本發(fā)明制造的液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)，只要是以上述取向分割的矩陣型液晶顯示裝置的標準的結(jié)構(gòu)要素作為必需，則對于其它結(jié)構(gòu)要素沒有特別限定。另外，通過本發(fā)明而制造的液晶顯示裝置優(yōu)選是有源矩陣型液晶顯示裝置，但是也可以是單純矩陣型液晶顯示裝置。下面，對于本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法中優(yōu)選的方式進行詳細說明，此外，也可以將下面所示的各種方式進行適當組合加以利用。從提高液晶顯示裝置的顯示質(zhì)量和響應性的觀點出發(fā)，優(yōu)選上述取向膜被設置在兩方的基板的液晶層側(cè)的表面。從進一步發(fā)揮本發(fā)明的效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選對在液晶層側(cè)的表面分別設置有取向膜的兩方的基板進行上述曝光工序。上述曝光工序優(yōu)選為使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的掩模部和在遮光區(qū)域內(nèi)形成有比掩模部的透光部細的多個透光部的掩模微細部的光掩模，隔著掩模微細部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的方式(以下，也稱為第一方式)。由此，能夠適當?shù)匾?guī)定疇和在疇間產(chǎn)生的暗線的配置形態(tài)，在顯示區(qū)域?qū)崿F(xiàn)所希望的顯示特性，另一方面，能夠使邊框區(qū)域中在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積與現(xiàn)有技術(shù)相比變大。因此，能夠更加容易且有效地抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，由于為了在邊框區(qū)域更多地產(chǎn)生暗線，只是變更掩模微細部的透光部的圖案，對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，所以通過該方式也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。此外，所謂掩模微細部的透光部比掩模部的透光部細，更加具體而言，優(yōu)選掩模微細部的透光部的大小和間距的至少一個比掩模部的透光部的大小和/或間距小，更加優(yōu)選掩模微細部的透光部的大小和間距比掩模部的透光部的大小和間距小。在上述第一方式中，上述掩模部(第一掩模部)的多個透光部的平面形狀沒有特別限定，但是從對各像素內(nèi)有效地進行取向分割并且高精度地形成掩模部的透光部的觀點出發(fā)，多個透光部優(yōu)選為大致相同的平面形狀，更加優(yōu)選平面形狀為大致矩形。此外，在本說明書中，所謂"大致相同"，只要起到本發(fā)明的各效果的程度的相同即可，既可以是完全相同也可以是實質(zhì)上相同。另一方面，在上述第一方式中，上述掩模微細部(第二掩模部)的多個透光部的平面形狀沒有特別的限定，能夠與所希望的暗線形狀結(jié)合而進行適當?shù)卦O定。在上述第一方式中，雖然上述掩模部的多個透光部的配置形態(tài)沒有特別的限定，但是從對排列為矩陣狀的各像素內(nèi)有效地進行取向分割并且抑制光掩模的制造成本的觀點來說，上述掩模部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個透光部的反復圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個透光部的反復圖案，進一步優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有平面視圖大致矩形的多個透光部的反復圖案。另外從上述同樣的觀點出發(fā)，上述反復圖案優(yōu)選至少形成在與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。這樣，上述掩模部優(yōu)選具有所謂的條紋圖案，上述掩模部的透光部優(yōu)選為所謂的狹縫。即，上述掩模部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個狹縫的條紋圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個狹縫的條紋圖案，進一步優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有平面視圖大致矩形的多個狹縫的條紋圖案。另外，上述條紋圖案優(yōu)選至少形成在與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。此外，作為掩模部的反復圖案并沒有特別限定于條紋圖案，例如，也可以是點圖案等。此外，在本說明書中，所謂"大致一定"，只要起到本發(fā)明的各效果的程度的一定即可，既可以是完全一定也可以是實質(zhì)上一定。另外，在上述第一方式中，雖然掩模微細部的多個透光部的配置形態(tài)沒有特別限定，但是從高精度地形成掩模微細部的透光部，并且更加容易地進行掩模部及掩模微細部的透光部的設計，更加簡便地實施本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法的觀點出發(fā)，上述掩模微細部，優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個遮光部的反復圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個遮光部的反復圖案。此外，作為掩模微細部的反復圖案雖然沒有特別限定，但是優(yōu)選條紋圖案及點圖案。這樣，上述掩模微細部優(yōu)選具有所謂的條紋圖案，上述掩模微細部的透光部優(yōu)選為所謂的狹縫。另外，上述掩模微細部可以具有所謂的格子狀圖案，上述掩模微細部的透光部也可以是所謂的點。即，上述掩模微細部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個狹縫的條紋圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個狹縫的條紋圖案。另外，上述掩模微細部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個點的格子狀圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個點的格子狀圖案。另外，從這樣的觀點出發(fā)，在上述第一方式中，上述制造方法，優(yōu)選包括使用設置有掩模部和掩模微細部的光掩模，隔著掩模微細部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的曝光工序，其中上述掩模部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有多個遮光部的反復圖案；上述掩模微細部按照比掩模部的透光部的間距小的間距(更加優(yōu)選小的間距和大小)并按照大致一定的間距在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個透光部的反復圖案，另外，上述光掩模也可以優(yōu)選設置有具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定(大致一定)的間距反復形成有相互平行的多個狹縫的條紋圖案的掩模部；和具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照與掩模部的狹縫平行且比掩模部的狹縫的寬度和間距小的寬度和間距反復形成有多個狹縫的條紋圖案的掩模微細部。此外，所謂"一定(大致一定)"，只要是起到上述效果的程度的一定即可，既可以是完全一定，也可以是實質(zhì)上一定，也可以是大致一定。另外，在本說明書中，所謂"平行"，只要是起到本發(fā)明的各效果的程度的平行即可，既可以是完全平行，也可以是實質(zhì)上平行，也可以是大致平行。上述曝光工序優(yōu)選，使用設置有掩模部和掩模邊框部的光掩模，隔著掩模邊框部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的方式(以下，也稱為"第二方式")，其中，上述掩模部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有相互平行的多個狹縫的條紋圖案，上述掩模邊框部具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著與掩模部的狹縫的排列方向不同的排列方向按照一定的間距反復形成有多個狹縫的條紋圖案。由此，能夠有效地對排列成矩陣狀的各像素內(nèi)進行取向分割，并且抑制光掩模的制造成本，與現(xiàn)有技術(shù)相比在邊框區(qū)域內(nèi)能夠增大在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積。因此，能夠更加容易且有效地抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，由于為了在邊框區(qū)域中產(chǎn)生更多的暗線，只是改變掩模邊框部的透光部的圖案，對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，所以通過該方式也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。此外，在本說明書中，所謂"一定"，只要是起到本發(fā)明的各效果的程度的一定即可，既可以是完全一定，也可以是實質(zhì)上一定，也可以是大致一定。在上述第二方式中，雖然上述掩模部中的多個狹縫的平面形狀沒有特別限定，但是從有效地對各像素內(nèi)進行取向分割并且精度良好地形成掩模部的狹縫的觀點出發(fā)，掩模部的多個狹縫優(yōu)選為大致相同的平面形狀，更加優(yōu)選平面形狀為大致矩形。另外，從上述同樣的觀點出發(fā)，上述掩模部的條紋圖案優(yōu)選至少形成在與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。在上述第二方式中，上述掩模邊框部中的多個狹縫的平面形狀沒有特別限定，能夠與所希望的暗線形狀相匹配而進行適當?shù)卦O定。另一方面，從精度良好地形成掩模邊框部的狹縫并且更加容易地進行掩模部和掩模邊框部的狹縫的設計以及更加簡便地實施本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法的觀點出發(fā)，上述掩模邊框部的多個狹縫優(yōu)選為大致相同的平面形狀，更加優(yōu)選平面形狀為大致矩形。另外，從上述相同的觀點出發(fā)，上述掩模邊框部的條紋圖案優(yōu)選至少形成在與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。在上述第二方式中，作為掩模邊框部的形態(tài)優(yōu)選以下的形態(tài)。艮P，在上述第二方式中，上述掩模邊框部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著相對于掩模部的狹縫正交的方向反復形成有多個狹縫的條紋圖案的形態(tài)，另外，優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著相對于掩模部的狹縫傾斜的方向反復形成有多個狹縫的條紋圖案，并且上述掩模邊框部的狹縫在與掩模部的狹縫的間距相同的方向具有相同大小的間距的形態(tài)。上述曝光工序優(yōu)選使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的掩模部和在遮光區(qū)域內(nèi)按照與掩模部的透光部的圖案不同的圖案形成有多個透光部的掩模邊框部的光掩模，隔著掩模邊框部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的方式(以下，也稱為"第三方式")。由此，與現(xiàn)有技術(shù)相比在邊框區(qū)域內(nèi)能夠增大在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積。因此，能夠更加容易且有效地抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，由于為了在邊框區(qū)域中產(chǎn)生更多的暗線，只是改變掩模邊框部的透光部的圖案，對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，所以通過該方式也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)在上述第三方式中，雖然上述掩模部的多個透光部的平面形狀沒有特別限定，但是從有效地對各像素內(nèi)進行取向分割并且精度良好地形成掩模部的狹縫的觀點出發(fā)，掩模部的多個透光部優(yōu)選為大致相同的平面形狀，更加優(yōu)選平面形狀為大致矩形。另一方面，在上述第三方式中，上述掩模微細部的多個透光部的平面形狀沒有特別限定，能夠與所希望的暗線形狀相匹配而進行適當?shù)卦O定。在上述第三方式中，雖然上述掩模部的多個透光部的配置形態(tài)沒有特別限定，但是從有效地對排列成矩陣狀的各像素內(nèi)進行取向分割并且抑制光掩模的制造成本的觀點出發(fā)，上述掩模部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個遮光部的反復圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個遮光部的反復圖案，進而優(yōu)選在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有平面視圖大致矩形的多個遮光部的反復圖案。另外，從上述同樣的觀點出發(fā)，上述反復圖案優(yōu)選形成在至少與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。這樣，上述掩模部優(yōu)選具有所謂的條紋圖案，上述掩模部的透光部優(yōu)選是所謂的狹縫。即，上述掩模部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個狹縫的條紋圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個狹縫的條紋圖案，進而優(yōu)選在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有平面視圖大致矩形的多個狹縫的條紋圖案。另外，上述條紋圖案優(yōu)選至少形成在與顯示區(qū)域?qū)膮^(qū)域的一端至另一端。此外，作為掩模部的反復圖案并沒有特別限定在條紋圖案，例如，也可以是點圖案等。另外，在上述第三方式中，雖然掩模邊框部的多個透光部的配置形態(tài)沒有特別限定，但是從高精度地形成掩模邊框部的透光部，并且更加容易地進行掩模部及掩模邊框部的透光部的設計，更加簡便地實施本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法的觀點出發(fā)，上述掩模邊框部，優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個遮光部的反復圖案，更加優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個遮光部的反復圖案。此外，作為掩模邊框部的反復圖案，只要與掩模部的圖案不同則沒有特別的限定，但是優(yōu)選點圖案。這樣，上述掩模邊框部優(yōu)選具有所謂的格子狀圖案，上述掩模邊框部的透光部優(yōu)選是所謂的點。即，上述掩模邊框部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)反復形成有多個點的格子狀圖案，更加優(yōu)選在遮光區(qū)域內(nèi)按照大致一定的間距反復形成有具有大致相同的平面形狀的多個點的格子狀圖案。在上述第三方式中，上述掩模部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有相互平形的多個狹縫的條紋圖案，上述掩模邊框部優(yōu)選具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有多個點的格子狀圖案。由此，能夠有效地對排列成矩陣狀的各像素內(nèi)進行取向分割，并且抑制光掩模的制造成本，與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠增大邊框區(qū)域中在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積。作為上述曝光工序中的曝光方式，優(yōu)選掃描方式和拍攝方式。艮P，上述曝光工序優(yōu)選，在掃描基板及光源的至少一方的同時對取向膜進行曝光的方式(掃描方式)，或者，在固定基板及光源的狀態(tài)下對取向膜進行曝光的方式(拍攝方式)。根據(jù)掃描方式，由于基板面內(nèi)的照射光量的穩(wěn)定性良好，所以能夠抑制取向方向、預傾角等的特性的偏差的產(chǎn)生。另外，由于曝光裝置只需小型即可，所以能夠降低裝置成本。進而，能夠?qū)⒃诠庋谀Ｖ挟a(chǎn)生不良狀況或破損時的更換光掩模的成本降低。此外，在掃描方式中，在沿掃描方向配置有透光部的間距不同的其他面板的情況下，必須與該面板匹配而更換掩模，但是另一方面，在拍攝方式下，通過預先在掩模內(nèi)形成多個面板用的圖案，能夠?qū)Σ煌N類的面板進行一次曝光。此外，在掃描方式下掃描光源的情況下，光源和光掩模通常一體移動。上述曝光工序雖然也基于被曝光的取向膜的材料，但是優(yōu)選從相對于基板面的法線傾斜的方向入射紫外線。由此，使用不特別的取向膜就能夠在各液晶模式中容易地賦予液晶層適合的預傾角，結(jié)果，能夠提高液晶分子的響應速度。上述紫外線優(yōu)選偏振紫外線。這樣，通過向取向膜照射各向異性的紫外線，能夠容易引起取向膜內(nèi)的分子、即構(gòu)成取向膜的分子的各異向的再排列或化學反應。因此，能夠進一步均勻地控制取向膜附近的液晶分子的取向方向。此外，紫外線的波長范圍根據(jù)進行曝光的取向膜的材料進行適當?shù)卦O定即可。上述曝光工序優(yōu)選對取向膜進行曝光，使得在各像素內(nèi)形成在俯視基板時取向膜表面附近的液晶分子沿相互反平行方向取向的兩個區(qū)域。由此，能夠容易實現(xiàn)多疇TN模式、多疇ECB模式、多疇VAECB(VerticalAlignmentElectricallyControlledBirefringence)模式、多疇VAHAN(VerticalAlignmentHybrid—alignedNematic)模式、多疇VATN(VerticalAlignmentTwistedNematic)模式等寬視野角的液晶顯示裝置。此外，在本說明書中，取向膜表面附近優(yōu)選為取向膜表面。另外，上述取向膜優(yōu)選設置在兩基板上，上述液晶顯示裝置的制造方法優(yōu)選，按照使各基板的取向膜表面附近的液晶分子在俯視基板時在各像素內(nèi)沿相互反平行方向取向，并且一個基板的取向膜表面附近的液晶分子與另一個基板的取向膜表面附近的液晶分子在俯視基板時沿相互正交的方向取向的方式，進行兩基板的取向膜的曝光和兩基板的貼合。由此，能夠容易地對每1像素形成四個疇。因此，例如，如上下左右四個方向所示，能夠在相互正交的四個方向的任一個方向?qū)崿F(xiàn)寬視野角化。另外，四個疇的對稱性好，所以相互正交的四個方向的任一個的視野角特性也能夠相同。結(jié)果，能夠?qū)崿F(xiàn)沒有視野角依存性的液晶顯示裝置。此外，在本說明書中，所謂"正交"只要是起到本發(fā)明的各效果的程度的正交即可，既可以是完全或?qū)嵸|(zhì)上正交，也可以是大致正交，但是上述方式中，更加具體而言，優(yōu)選能夠?qū)崿F(xiàn)VATN模式的顯示的程度的正交。進而，上述液晶層優(yōu)選包含具有負的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，上述取向膜優(yōu)選是在沒有對液晶層施加電壓時，使液晶分子相對于取向膜表面接近垂直取向的取向膜(垂直取向膜)。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)垂直取向模式的液晶顯示裝置。此外，在本說明書中所謂"接近垂直"，只要是起到本發(fā)明的各效果的程度的垂直即可，具體而言，優(yōu)選是能夠?qū)崿F(xiàn)VATN模式的顯示的程度的垂直，更加具體而言，優(yōu)選按照使液晶分子的長軸方向相對于取向膜表面的法線方向具有O.15°(更加優(yōu)選12。)的程度的角度的方式進行取向。另一方面，上述液晶層優(yōu)選包含具有正的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，上述取向膜優(yōu)選是在沒有對液晶層施加電壓時，使液晶分子相對于取向膜表面接近水平取向的取向膜(水平取向膜)。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)水平取向模式的液晶顯示裝置。此外，在本說明書中所謂"接近水平"，只要是起到本發(fā)明的各效果的程度的水平即可，具體而言，優(yōu)選是能夠?qū)崿F(xiàn)TN模式的顯示的程度的水平，更加具體而言，優(yōu)選按照使液晶分子的長軸方向相對于取向膜表面具有O.15°(更加優(yōu)選12。)的程度的角度的方式進行取向。本發(fā)明還涉及通過本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法制造的液晶顯示裝置。根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法，能夠使邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積與現(xiàn)有技術(shù)相比不同，更加優(yōu)選增大。結(jié)果，能夠制造抑制了邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生的液晶顯示裝置。本發(fā)明還提供一種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置具有顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，在顯示區(qū)域沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線，在邊框區(qū)域包括按照與第一暗線的間距不同的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線的區(qū)域(以下也將該液晶顯示裝置稱為"本發(fā)明的第一液晶顯示裝置")。下面，詳細說明本發(fā)明的第一液晶顯示裝置。本發(fā)明的第一液晶顯示裝置具備一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇。因此，本發(fā)明的第一液晶顯示裝置適合于取向分割后的矩陣型液晶顯示裝置，具有優(yōu)異的視野角特性。此外，本發(fā)明的第一液晶顯示裝置優(yōu)選是有源矩陣型液晶顯示裝置，也可以是單純矩陣型液晶顯示裝置。上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線的顯示區(qū)域，和包括按照與第一暗線的間距不同的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線的區(qū)域的邊框區(qū)域。由此，相比于顯示區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線，使邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量、即暗的區(qū)域的面積不同(更優(yōu)選增大)，能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，通過變更邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的形態(tài)，也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量。此外，在本說明書中，所謂暗線與顯示的灰度等級無關(guān)，是因液晶分子的取向狀態(tài)而產(chǎn)生的暗的線，即所謂的向錯線，另外，在顯示中間灰度以上的灰度等級并且正面觀察(從顯示面法線方向觀察)時，是即使不被遮光材料遮光也比顯示該中間灰度的區(qū)域暗(亮度小)的線。另外，所謂中間灰度表示除去最低灰度等級(黑)和最高灰度等級(白)的任意的灰度等級。進而，所謂的中間灰度以上的灰度等級表示黑以外的灰度等級(中間灰度和最高灰度等級)，優(yōu)選是按高低二等分全部灰度等級時的高的一方的灰度等級，更加優(yōu)選最高灰度等級(白)。作為本發(fā)明的第一液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)，只要是將上述的結(jié)構(gòu)要素作為必須而形成的結(jié)構(gòu)，既可以包含其它的構(gòu)成要素也可以不包含其它的構(gòu)成要素，沒有特別的限定，但是本發(fā)明的第一液晶顯示裝置，在顯示區(qū)域中，鄰接的疇間產(chǎn)生的暗線(以下，也稱為"疇邊界暗線")也可以通過BM、金屬配線等遮光部件進行遮光。這種情況下，上述液晶顯示裝置也可以具有顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，顯示區(qū)域具有沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距配置的多個第一遮光部件，邊框區(qū)域包括按照與第一遮光部件的間距不同的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線的區(qū)域；另外，也可以具有顯示區(qū)域，該顯示區(qū)域具有對在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生的多個第一暗線進行遮光的第一遮光部件；和邊框區(qū)域，該邊框區(qū)域包括按照與第一遮光部件的間距不同的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線的區(qū)域。作為制造本發(fā)明的第一液晶顯示裝置的方法沒有特別限定，但是優(yōu)選上述本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法。由此，能夠更加容易實現(xiàn)本發(fā)明的第一液晶顯示裝置。另外，在這種情況下，本發(fā)明的第一液晶顯示裝置中的取向膜是通過曝光進行取向處理的光取向膜，優(yōu)選通過液晶的取向方向根據(jù)光線的照射方向或者光線的照射區(qū)域的移動方向發(fā)生變化的材料(光取向材料)形成。下面，對本發(fā)明第一液晶顯示裝置的優(yōu)選方式進行詳細地說明。上述第二暗線優(yōu)選按照比上述第一暗線的間距小的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生。由此，相比于在顯示區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線，在邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量、即暗的區(qū)域的面積增大，能夠有效地抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。上述液晶顯示裝置，優(yōu)選具有顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，在顯示區(qū)域沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線，并且沿鄰接的疇間的與第一方向正交的第二方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第三暗線，在邊框區(qū)域包括按照比第一暗線的間距小的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線，并且按照比第三暗線的間距小的間距相對于第二方向平行地產(chǎn)生多個第四暗線的區(qū)域。這樣，通過邊框區(qū)域具有沿正交的兩個方向密集地產(chǎn)生暗線的區(qū)域，能夠進一步增大邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量、即暗的區(qū)域的面積，能夠進一步抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。此外，沿正交的兩個方向密集地產(chǎn)生暗線的區(qū)域優(yōu)選配置在邊框區(qū)域的角部。由此，能夠更加容易實現(xiàn)該方式。即，上述液晶顯示裝置具有平面視圖方形的顯示區(qū)域和設置在顯示區(qū)域的周圍的平面視圖帶狀的邊框區(qū)域，上述顯示區(qū)域在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線，并且沿著鄰接的疇間的與第一方向正交的第二方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第三暗線，上述邊框區(qū)域在角部具有按照比第一暗線的間距小的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線，并且按照比第三暗線的間距小的間距相對于第二方向平行地產(chǎn)生多個第四暗線的區(qū)域。本發(fā)明還涉及一種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有不同于顯示區(qū)域中的疇的配置而配置的疇(下面，將該液晶顯示裝置稱為"本發(fā)明的第二液晶顯示裝置")。下面，對本發(fā)明的第二液晶顯示裝置進行詳細說明。本發(fā)明的第二液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇。因此，本發(fā)明的第二液晶顯示裝置適合于取向分割的矩陣型液晶顯示裝置，具有優(yōu)異的視野角特性。此外，本發(fā)明的第二液晶顯示裝置優(yōu)選是有源矩陣型液晶顯示裝置，但是也可以是單純矩陣型液晶顯示裝置。上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有不同于顯示區(qū)域中的疇的配置而配置的疇。由此，相比于在顯示區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線，能夠使邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積不同(更加優(yōu)選增大)，能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，通過邊框區(qū)域中的疇的配置形態(tài)的變更，不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量。作為本發(fā)明的第二液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)，只要是將上述的結(jié)構(gòu)要素作為必要結(jié)構(gòu)而形成，既可以包含其它的結(jié)構(gòu)要素也可以不包含其它的結(jié)構(gòu)要素，沒有特別的限定，但是本發(fā)明的第二液晶顯示裝置與本發(fā)明的第一液晶顯示裝置的情況相同，在顯示區(qū)域中，鄰接的疇間產(chǎn)生的暗線(疇邊界暗線)也可以通過BM、金屬配線等遮光部件遮光。作為制造本發(fā)明的第二液晶顯示裝置的方法沒有特別地限定，但是優(yōu)選上述本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法。由此，能夠更加容易實現(xiàn)本發(fā)明的第二液晶顯示裝置。另外，這種情況下，本發(fā)明的第二液晶顯示裝置中的取向膜是通過曝光進行取向處理的光取向膜，優(yōu)選通過液晶的取向方向根據(jù)光線的照射方向或者光線的照射區(qū)域的移動方向發(fā)生變化的材料(光取向材料)形成。本發(fā)明還涉及一種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的組合不同的組合的疇(以下，也將該液晶顯示裝置稱為"本發(fā)明的第三液晶顯示裝置")。下面，對于本發(fā)明的第三液晶顯示裝置進行詳細說明。本發(fā)明的第三液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇。因此，本發(fā)明的第三液晶顯示裝置適合于被取向分割的矩陣型液晶顯示裝置，具有優(yōu)異的視野角特性。此外，本發(fā)明的第三液晶顯示裝置優(yōu)選是有源矩陣型液晶顯示裝置，但也可以是單純矩陣型液晶顯示裝置。上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的組合不同的組合的疇。由此，相比于顯示區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線，能夠使邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積不同(優(yōu)選增大)，能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，通過變更邊框區(qū)域中的疇的配置形態(tài)，不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域中的顯示質(zhì)量。作為本發(fā)明的第三液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)，只要是將上述結(jié)構(gòu)要素作為必要結(jié)構(gòu)，既可以包含其它結(jié)構(gòu)要素也可以不包含其它結(jié)構(gòu)要素，沒有特別限定，但是本發(fā)明的第三液晶顯示裝置與本發(fā)明的第一液晶顯示裝置的情況相同，在顯示區(qū)域中，鄰接的疇間產(chǎn)生的暗線(疇邊界暗線)也可以通過BM、金屬配線等遮光部件遮光。作為制造本發(fā)明的第三液晶顯示裝置的方法沒有特別的限定，但是優(yōu)選上述本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法。由此，能夠更加容易地實現(xiàn)本發(fā)明的第三液晶顯示裝置。另外，這種情況下，本發(fā)明的第三液晶顯示裝置中的取向膜是通過曝光進行取向處理的光取向膜，優(yōu)選通過液晶的取向方向根據(jù)光線的照射方向或者光線的照射區(qū)域的移動方向發(fā)生變化的材料(光取向材料)形成。本發(fā)明還涉及一種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的形狀不同的形狀的疇(以下，也將該液晶顯示裝置稱為"本發(fā)明的第四液晶顯示裝置")。下面，對本發(fā)明的第四液晶顯示裝置進行詳細敘述。本發(fā)明的第四液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇。因此，本發(fā)明的第四液晶顯示裝置適合于被取向分割的矩陣型液晶顯示裝置，具有優(yōu)異的視野角特性。此外，本發(fā)明的第四液晶顯示裝置優(yōu)選是有源矩陣型液晶顯示裝置，但也可以是單純矩陣型液晶顯示裝置。上述液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，上述邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的形狀不同的形狀的疇。由此，為了能夠抑制在邊框區(qū)域產(chǎn)生漏光，能夠適當設定邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的形狀。因此，能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。另外，通過變更邊框區(qū)域中的疇間產(chǎn)生的暗線的形態(tài)，也不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量。作為本發(fā)明的第四液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)，只要是將上述結(jié)構(gòu)要素作為必要結(jié)構(gòu)，既可以包含其它結(jié)構(gòu)要素也可以不包含其它結(jié)構(gòu)要素，沒有特別限定，但是本發(fā)明的第四液晶顯示裝置與本發(fā)明的第一液晶顯示裝置的情況相同，在顯示區(qū)域中，鄰接的疇間產(chǎn)生的暗線(疇邊界暗線)也可以通過BM、金屬配線等遮光部件遮光。作為制造本發(fā)明的第四液晶顯示裝置的方法沒有特別的限定，但是優(yōu)選上述本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法。由此，能夠更加容易地實現(xiàn)本發(fā)明的第四液晶顯示裝置。另外，這種情況下，本發(fā)明的第四液晶顯示裝置中的取向膜是通過曝光進行取向處理的光取向膜，優(yōu)選通過液晶的取向方向根據(jù)光線的照射方向或者光線的照射區(qū)域的移動方向發(fā)生變化的材料(光取向材料)形成。在本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置中，上述疇優(yōu)選在每1像素設置有2個以上、4個以下，更加優(yōu)選在每1像素設置4個。由此，在抑制制造工序的繁雜化的同時能夠?qū)崿F(xiàn)視野角特性優(yōu)異的液晶顯示裝置。此外，如果疇是兩個，則在顯示畫面中，例如，上下、左右的任一方向能夠?qū)捯曇敖腔?，但是難以提高另一方向的視野角特性。另一方面，通過使得疇為四個，例如，在上下左右的四個方向，在相互正交的四個方向的任一個方向都能夠?qū)捯曇敖腔Ａ硗?，相互正交的四個方向的任意的視野角特性也能夠基本相同，即，能夠?qū)崿F(xiàn)對稱性優(yōu)異的視野角特性。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)沒有視野角依存性的液晶顯示裝置。此外，作為取向分割為四個疇的情況下的疇的配置形態(tài)，沒有特別限定，但是能夠例舉出矩陣狀、目字狀那樣的條紋狀等。此外，雖然使得疇為四個以上也沒有關(guān)系，但是制造工序會變繁雜并且取向處理時間也變長。另外，在四個疇的取向分割和其上的取向分割之間，在視野角特性方面在實用上并沒有太的不同。在本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置中，上述液晶層包含具有負的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，上述取向膜是設置在兩基板上，并且在沒有對液晶層施加電壓時使液晶分子相對于取向膜表面接近垂直取向的取向膜(垂直取向膜)也可以。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)垂直取向模式的液晶顯示裝置。在本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置中，上述液晶層包含具有正的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，上述取向膜是設置在兩基板上，并且在沒有對液晶層施加電壓時使液晶分子相對于取向膜表面接近水平取向的取向膜(水平取向膜)也可以。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)水平取向模式的液晶顯示裝置。在本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置中，上述液晶顯示裝置，優(yōu)選在俯視基板時，設置在一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向與設置在另一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向正交。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)多疇TN模式或者多疇VATN模式的液晶顯示裝置。此外，所謂VATN(VerticalAlignmentTwistedNematic)模式，是通過使用俯視基板時的相互的基板的取向處理方向大致正交的垂直取向膜，在沒有對液晶層施加電壓時，具有液晶分子垂直取向并且扭曲取向的結(jié)構(gòu)的模式。此外，上述方式中，所謂"正交"，更加具體而言，優(yōu)選為能夠?qū)崿F(xiàn)VATN模式的顯示的程度的正交。另外，本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置，可以進行適當組合，進而，在本發(fā)明的第一第四液晶顯示裝置中說明的各種方式也可以進行適當?shù)慕M合加以使用。根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法，適當規(guī)定疇、疇間產(chǎn)生的暗線的配置形態(tài)，能夠在顯示區(qū)域中實現(xiàn)所希望的顯示特性，并且另一方面，能夠使邊框區(qū)域中在疇間產(chǎn)生的暗線的數(shù)量和/或暗線的面積與現(xiàn)有技術(shù)相比不同。即，能夠在邊框區(qū)域產(chǎn)生能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生的暗線。另外，為了在邊框區(qū)域中產(chǎn)生所希望的形態(tài)的暗線，只是改變第二掩模部的透光部的圖案，對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，所以，在本發(fā)明的液晶顯示裝置中不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象。因此，能夠制造不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置。另外，根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示裝置，不會特別產(chǎn)生不良現(xiàn)象，能夠抑制邊框區(qū)域中的漏光的產(chǎn)生。因此，能夠不產(chǎn)生不良現(xiàn)象地提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量。圖1是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的平面示意圖。圖2是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的顯示區(qū)域的結(jié)構(gòu)的截面示意圖。圖3是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的1子像素的對于垂直取向膜的光照射方向的平面示意圖，(a)表示第一基板，(b)表示第二基板。此外，在圖3中，虛線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，實線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。圖4是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的1子像素的對于垂直取向膜的光照射方向、施加電壓時的液晶分子的取向方向和偏光板的偏光軸方向的平面示意圖。此外，在圖4中，虛線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，實線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖4中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖5(a)是實施方式1涉及的第一基板(TFT陣列基板)的平面示意圖，(b)是實施方式l涉及的第二基板(CF基板)的平面示意圖。圖6是表示實施方式1涉及的曝光工序(第一次掃描時)的基于掃描方式的取向膜(基板)的曝光形式的示意圖，(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，圖6(b)中黑線箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)，白色空心箭頭表示第一基板的移動方向。圖7是表示實施方式1涉及的曝光工序中對于取向膜(基板)的光的照射方式的截面示意圖。圖8是表示實施方式1涉及的曝光工序(第二次掃描時)的基于掃描方式的取向膜(基板)的曝光形式的示意圖，(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，圖8(b)中黑線箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)，白色空心箭頭表示第一基板的移動方向。圖9是表示實施方式1涉及的對于第一基板的曝光工序(第一次掃描和第二次掃描時)的光掩模的與顯示區(qū)域?qū)牟糠值男螒B(tài)(上段)、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第一基板的子像素(下段)的正面示意圖，圖中，黑色箭頭表示光照射方向。圖IO是表示實施方式1涉及的對于第一基板的曝光工序(第一次掃描和第二次掃描時)的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)牟糠值男螒B(tài)(上段)、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第一基板的顯示區(qū)域的角部附近(下段)的正面示意圖，在下段的圖中，通過曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像圖示。圖11是表示實施方式1涉及的對于第二基板的曝光工序(第一次掃描和第二次掃描時)的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)牟糠值男螒B(tài)(左側(cè))、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第二基板的顯示區(qū)域的角部附近(右側(cè))的正面示意圖，右側(cè)的圖中，通過該曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像圖示。圖12是顯示中間灰度以上的灰度等級時的實施方式1涉及的液晶顯示裝置的顯示區(qū)域的角部附近的正面示意圖。圖13是表示實施方式1涉及的曝光工序中基于拍攝(shot)方式的取向膜(基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，在圖13(b)中，黑色箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)。圖14是表示實施方式1涉及的對于基板的曝光工序的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)牟糠值钠渌男螒B(tài)(上段)、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的基板的顯示區(qū)域的端部附近(下段)的正面示意圖，在下段的圖中，通過該曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像圖示。圖15是表示實施方式2涉及的曝光工序(第一次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖16是表示實施方式2涉及的曝光工序(第二次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖17是表示位于實施方式2涉及的液晶顯示面板的顯示區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖17(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖17(b)中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖18是表示位于實施方式2涉及的液晶顯示面板的邊框區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖18(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖18(b)中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖19是表示實施方式3涉及的曝光工序(第一次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖20是表示實施方式3涉及的曝光工序(第二次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖21是表示實施方式3涉及的液晶顯示面板的位于顯示區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖21(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖21(b)中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖22是表示實施方式3涉及的液晶顯示面板的位于邊框區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖22(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖22(b)中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖23是表示實施方式4涉及的曝光工序(第一次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖24是表示實施方式4涉及的曝光工序(第二次拍攝時)的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖25是表示實施方式4涉及液晶顯示面板的通過第一次拍攝和第二次拍攝曝光的區(qū)域的擴大平面示意圖，(a)表示顯示區(qū)域，(b)表示邊框區(qū)域。符號說明1:第一基板；2:第二基板；3:液晶層；3a、3b:液晶分子；4a、4b:透明電極；5a、5b:垂直取向膜；6a、6b:偏光板；7a、7b:相位差板；8:子像素；9:掃描信號線；10:數(shù)據(jù)信號線；11:TFT;12:像素電極；13:黑矩陣(BM);14:彩色濾光片；15:光線(偏振紫外線);16:鄰近間隙；17:預傾角；18:基板；19:引出配線；20a、20b、20c、20d、20e、20f、21a、21b、21c、21d、21e、21f:22a、22b、22c:掩模微細部；23a、23b、23c:掩模邊框部；25a、25b、25c、25d、25e、25f、.-狹縫；26a、26b:絕緣基板；27a、27b、27c、27d、27e、27f、28a、28b、28c、28d、28e、28f、7g、27h、27i、27j:暗線；g、28h、28i、28j、28k、281、28m、28n、28o、28p:疇；29:點；30a、30b、30c、30d、30e、30f、30g、30h、30i、30j、30k、301、30m、30n、30o、30p:中央液晶分子；31:顯示區(qū)域；32:邊框區(qū)域；33:端子區(qū)域；34a、34b、34c、34d、34e、34f、34g、34h、34i、34j、34k、341:曝光區(qū)域；100:液晶表示面板；200:液晶顯示裝置；P:偏光板6a的偏光軸方向；Q:偏光板6b的偏光軸方向；A、B:方向；R:紅的著色層；G:藍的著色層；B:綠的著色層；Wa、Wb、Wc、Wd:暗線的間距(間隔)；Pl、P2:狹縫的間距(間隔)；hl、h2:光掩模的偏移量(移動距離)。具體實施例方式下面，揭示實施方式，參照附圖更詳細地說明本發(fā)明，但是本發(fā)明并不限定于這些實施方式。(實施方式1)圖1是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的平面示意圖。如圖1所示，本實施方式的液晶顯示面板100，在基板面內(nèi)，具有平面視圖方形的顯示區(qū)域(有效顯示區(qū)域)31和配置在顯示區(qū)域31的周圍的平面視圖帶狀的邊框區(qū)域(非顯示區(qū)域，非有效顯示區(qū)域)32。顯示區(qū)域31是顯示圖像的區(qū)域，通過排列為矩陣狀的多個像素構(gòu)成。另一方面，邊框區(qū)域32是不顯示圖像的區(qū)域，配置在顯示區(qū)域31的周邊區(qū)域。此外，顯示區(qū)域31包括設置在各像素的周圍和/或內(nèi)部的遮光區(qū)域。另外，液晶顯示面板100在邊框區(qū)域32的周圍具有設置有用于連接驅(qū)動IC的多個端子的端子區(qū)域(基板突出部)33。圖2是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的顯示區(qū)域中的結(jié)構(gòu)的截面示意圖。如圖2所示，本實施方式的液晶顯示面板100具有作為相對的一對基板的第一基板1(例如，TFT陣列基板)和第二基板2(例如CF基板)；和設置在第一基板1和第二基板2之間的液晶層3。另外，第一基板1在絕緣基板26a的液晶層3側(cè)，從絕緣基板26a側(cè)依次具有用于向液晶層3施加驅(qū)動電壓的透明電極4a(像素電極)和垂直取向膜5a。此外，同樣，第二基板2在絕緣基板26b的液晶層3側(cè)，從絕緣基板26b側(cè)依次具有用于向液晶層3施加驅(qū)動電壓的透明電極4b(共同電極)和垂直取向膜5b。進而，第一基板1和第二基板2的與液晶層3相反的一側(cè)，從基板側(cè)起依次配置有相位差板7a、7b及偏光板6a、6b。此外，相位差板7a、7b也可以不設置，但是從實現(xiàn)寬視野角的觀點出發(fā)，優(yōu)選進行設置。另外，相位差板7a、7b也可以只設置任一個。液晶層3例如含有介電常數(shù)各向異性為負的向列液晶材料(負型向列液晶材料)。液晶層3內(nèi)的液晶分子，在驅(qū)動電壓沒有被施加在液晶層3上時(無電壓施加時)，取向為相對于垂直取向膜5a、5b的表面的大致垂直方向。實際上，液晶分子此時相對于垂直取向膜5a、5b的表面的法線方向大致傾斜取向為0.1。左右到幾度左右。即，液晶分子按照具有若干預傾角(優(yōu)選，85°以上，不足90°)的方式，通過垂直取向膜5a、5b取向。此外，在本說明書中，所謂預傾角是指，在無電壓施加時，基板面和取向膜附近的液晶分子3b的長軸方向所成的角度。另外，在無電壓施加時，將俯視基板時的取向膜表面附近的液晶分子3b傾斜的方向稱為預傾斜方向。另一方面，在將某閾值以上的充分的驅(qū)動電壓施加在液晶層3上時(電壓施加時)，液晶分子由預先設定的預傾角，向一定方向進一步傾斜。更具體而言，位于液晶層3的厚度方向上的大致中央的液晶分子3a，傾斜至相對于第一基板1和第二基板2面大致平行的方向。此外，垂直取向膜5a、5b通過光取向膜材料形成，垂直取向膜5a、5b規(guī)定的預傾斜方向，通過隔著光掩模從例如相對于基板面傾斜的方向曝光垂直取向膜5a、5b表面來決定。圖3是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的1子像素中的對于垂直取向膜的光照射方向的平面示意圖，(a)表示第一基板，(b)表示第二基板。此外，在圖3中，虛線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，實線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。圖4是表示實施方式1涉及的液晶顯示面板的1子像素中的對于垂直取向膜的光照射方向、電壓施加時的液晶分子的取向方向、和偏光板的偏光軸方向的平面示意圖。此外，在圖4中，虛線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，實線箭頭表示對于第二基板的光線照方向。另外，在圖4中，液晶分子是表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。如圖3所示，在俯視基板時，垂直取向膜5a、5b分別在子像素8內(nèi)，從反平行方向(平行并且反向的方向A和方向B)照射光。另外，對于垂直取向膜5a、5b的光的照射方向，如圖3及圖4所示，在貼合第一基板1以及第二基板2時，進行設定使之相互相差大致90°。由此，在各疇中，垂直取向膜5a規(guī)定的預傾斜方向(取向處理方向)和垂直取向膜5b規(guī)定的預傾斜方向(取向處理方向)相互相差大致90°。因此，液晶層3中包含的液晶分子，在對基板進行俯視時，在各疇中，在取向膜附近被取向為垂直取向膜5a、5b規(guī)定的預傾斜方向，在液晶層的厚度方向，按照使得這些大致正交的預傾斜方向平滑地相連的方式扭轉(zhuǎn)大致卯。取向。另外，如圖4所示，在俯視基板時，液晶分子3a向相對于光的照射方向偏離大致45°的方向取向。進而，各疇中的液晶分子3a分別向不同的四個方向傾斜。這樣，液晶顯示面板100通過使用預傾斜方向(取向處理方向)相互正交的垂直取向膜，使液晶分子扭曲大致卯。取向。因此，液晶顯示面板100具有四疇的VATN模式。此外，雖然各子像素8被分割為8個區(qū)域，但是由于液晶分子3a的傾斜方向是四個，所以液晶顯示面板100為四疇。于是，在這樣取向分割的液晶顯示面板100的鄰接的各疇間(疇邊界)產(chǎn)生暗線。對于鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的原因，能夠如下所述進行說明。即，在取向分割的像素(子像素)的各疇內(nèi)，即使在施加電壓時液晶分子的傾倒方向相同，在不同的疇間，液晶分子的傾倒方向也互不相同。另外，由于液晶分子是連續(xù)彈性體，所以在不同的疇間，液晶分子取向，將向不同方向傾倒的液晶分子之間連續(xù)相連。因此，如圖4所示，例如，在4疇取向中的不同疇間(疇邊界)，液晶分子的取向方向，在正面觀察液晶顯示面板時，與偏光板的偏光軸方向大致相同或者大致正交。透過液晶分子在與該偏光板的偏光軸方向大致相同或者大致正交的方向上取向的區(qū)域的偏光，不產(chǎn)生基于液晶分子的延遲(相位差)。因此，在該區(qū)域中，透過設置在背光源側(cè)的偏光板的偏光，在液晶層不受任何影響而被設置在顯示畫面?zhèn)鹊钠獍迩袛唷＝Y(jié)果，液晶分子在與偏光板的偏光軸方向大致相同或者大致垂直的方向上取向的區(qū)域、即鄰接的各疇間(疇邊界)，成為亮度低的暗的線(在本說明書中為暗線)。此外，各子像素8具有與子像素區(qū)域?qū)纬傻南袼仉姌O。結(jié)果，在顯示區(qū)域31中，產(chǎn)生子像素電極的邊緣部的斜電場引起的暗線(邊緣部暗線)也可以。4疇的VATN模式的優(yōu)點為，如圖3所示，分別兩次照射第一基板1和第二基板2，通過合計四次的照射能夠形成液晶分子3a的取向方向互不相同的4個疇，所以能夠?qū)崿F(xiàn)裝置臺數(shù)的削減和取向處理時間的縮短(生產(chǎn)節(jié)拍時間的縮短)。另外，從實現(xiàn)液晶顯示面板的寬視野角化的觀點出發(fā)，優(yōu)選將1像素(1子像素)分割為4疇的方式。進而，能夠削減如現(xiàn)有技術(shù)的MVA模式等那樣用于形成在具有取向控制結(jié)構(gòu)物的液晶模式中所需要的肋(突起)等取向控制結(jié)構(gòu)物的光掩模，即能夠削減光刻工序，結(jié)果，能夠簡化制造工序。此外，在將l像素(l子像素)分割為2疇的情況下，例如，雖然能夠在上下、左右的任一方向?qū)崿F(xiàn)寬視野角化，但是并不能提高其他方向的視野角特性。另外，雖然將疇增加到5個以上也沒有關(guān)系，但是由于工序繁雜，處理時間變長，所以并不優(yōu)選。進而，能夠得知在4疇及以上的疇中，在視野角特性方面在實用上并沒有太大不同。在本實施方式中，偏光板6a、6b配置成在俯視面板(基板)時，偏光板6a的偏光軸方向P和偏光板6b的偏光軸方向Q相互大致正交。另外，偏光板6a的偏光軸方向P和偏光板6b的偏光軸方向Q中的一方被沿著相對于垂直取向膜5a的光的照射方向配置，偏光板6a的偏光軸方向P和偏光板6b的偏光軸方向Q的另一方被沿著相對于垂直取向膜5b的光的照射方向配置。因此，在施加電壓時，從偏光板6a側(cè)入射的光成為偏光軸方向P的偏光，在液晶層3中，沿著液晶分子的扭曲旋光90°，成為偏光軸方向Q的偏光，從偏光板6b射出。另一方面，在無電壓施加時，在液晶層3中，液晶分子保持垂直取向，偏光軸方向P的偏光不旋光而是直接透過液晶層3，被偏光板6b遮斷。這樣，液晶顯示面板100為常黑模式。此外，在本說明書中，偏光軸表示吸收軸。另外，偏光板6a的偏光軸方向P和偏光板6b的偏光軸方向Q并不特別限定于圖4所示的方向，只要適當設定即可，但是一對的偏光板6a、6b的偏光軸方向，優(yōu)選在俯視面板(基板)時相差大致90。。g卩，優(yōu)選偏光板6a、6b為正交尼科爾配置。此外，在本實施方式中，雖然對于垂直取向型的液晶顯示面板進行了說明，但是本實施方式的液晶顯示面板也可以是水平取向型的液晶顯示面板。這種情況下，液晶層3含有介電常數(shù)各向異性為正的向列液晶材料(正型向列液晶材料)，另外，在第一基板l及第二基板2的液晶層3側(cè)也可以設置水平取向膜以取代垂直取向膜5a、5b。下面，對于實施方式1的液晶顯示面板的制造方法進行說明。圖5(a)是實施方式l涉及的第一基板(TFT陣列基板)的平面示意圖。(b)是實施方式1涉及的第二基板(CF基板)的平面示意圖。首先，按照一般的方法準備取向膜形成前的一對的第一基板1和第二基板2。例如，如圖5(a)所示，作為第一基板1使用如下所述的TFT陣列基板在玻璃等構(gòu)成的絕緣基板(未圖示)上，依次形成掃描信號線9、引出配線19、TFTll、數(shù)據(jù)信號線10及像素電極12，由此，掃描信號線9及數(shù)據(jù)信號線IO被配置為隔著絕緣膜(未圖示)交叉成格子狀，進而，在每個交點配置TFT11和像素電極12，并且配置有與掃描信號線9及數(shù)據(jù)信號線10連接的引出配線19。這樣，配置有像素電極12的區(qū)域成為進行圖像顯示的顯示區(qū)域31，像素電極12被配置成矩陣狀的區(qū)域的周圍的區(qū)域成為邊框區(qū)域32。因此，引出配線19形成在邊框區(qū)域32。此外，與掃描信號線9連接的引出配線19也可以從與掃描信號線9相同的層形成，另外，與數(shù)據(jù)信號線IO連接的引出配線19也可以從與數(shù)據(jù)信號線IO相同的層形成。另一方面，作為第二基板2使用下述的CF基板例如，如圖5(b)所示，在由玻璃等構(gòu)成的絕緣基板(未圖示)上，依次形成黑矩陣(BM)13、由紅(R)、藍(B)及綠(G)三色的著色層構(gòu)成的彩色濾光片14、保護膜(未圖示)及透明電極膜(未圖示)，由此，配置有與各子像素(像素電極12)的邊界對應形成為格子狀、并形成為以帶狀覆蓋配置有各子像素的區(qū)域的周圍的BM13;和在被格子狀的BM13劃分的區(qū)域形成的彩色濾光片14。這樣，在本實施方式中，1像素由沿x軸方向(正面觀察顯示面時的橫向)排列的RGB的3個子像素構(gòu)成。另外，BM13形成為格子狀的區(qū)域成為顯示區(qū)域31，BM13形成為帶狀的區(qū)域成為邊框區(qū)域32。因此，邊框區(qū)域32雖然被BM13遮光，但是如上所述，通常，由黑色樹脂形成的BM13的膜厚近年來正在變薄。因此，在邊框區(qū)域32只配置BM13作為遮光部件，會從邊框區(qū)域32的沒有引出配線19的區(qū)域產(chǎn)生漏光。此外，第一基板1和第二基板2中使用的絕緣基板只要具有絕緣性的表面即可，并不特別限定于玻璃。另外，這些第一基板1和第二基板2的各構(gòu)成部件的材質(zhì)使用通常使用的材料即可。接著，對于第一基板1和第二基板2，通過旋轉(zhuǎn)澆鑄法等涂敷包含光取向膜材料的溶液后，例如，在180'C下進行60分鐘的光取向膜材料的燒制，由此，形成垂直取向膜5a、5b。作為光取向膜材料并沒有特別的限定，可例舉包含感光性基的樹脂等。更具體而言，優(yōu)選包括4-査耳酮基(下述化學式(l))、4，-査耳酮基(下述化學式(2))、香豆素基(下述化學式(3))、和肉桂?；?下述化學式(4))等感光性基的聚酰亞胺等。下述化學式(1)(4)的感光性基利用光(優(yōu)選紫外線)的照射產(chǎn)生交聯(lián)反應(包括二聚反應)、異構(gòu)化反應、光再取向等，據(jù)此，與光分解型的光取向膜材料相比能夠有效地縮小取向膜面內(nèi)的預傾角的偏差。另外，下述化學式(1)(4)的感光性基也包括苯環(huán)上結(jié)合有取代基的構(gòu)造。此外，下述化學式(4)的肉桂?；械聂驶€結(jié)合有氧原子的肉桂酸酯基(C6H5-CH=CH-COO-)具有易于合成的優(yōu)點。因而，作為光取向膜材料，更優(yōu)選包含肉桂酸酯基的聚酰亞胺。另外，燒制溫度、燒制時間和光取向膜的膜厚并沒有特別的限定，進行適當設定即可。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>另外，在本實施方式中，作為取向膜材料，使用與光反應在光線的照射方向產(chǎn)生液晶分子的預傾角的光取向膜材料，但也可以如在"M.Kimura、其它3名，"Photo-RubbingMethod:ASingle-ExposureMethodtoStableLiquid-CrystalPretiltAngleonPhoto-AlignmentFilm"、IDW，04:proceedingsofthe11thInternationalDisplayWorkshops、IDW，04Publicationcommittee、2004年、LCT2-1、p.35-38"中公開的光取向法，使用通過光的照射區(qū)域的移動方向能夠進行預傾斜方向的規(guī)定的光取向膜材料。在該情況下，不需要使光相對于基板傾斜入射，能夠使光相對于基板大致垂直地入射。接著，對于取向膜的曝光方法進行說明。圖6是表示實施方式1涉及的曝光工序(第一次掃描時)中的基于掃描方式的取向膜(基板)的曝光形態(tài)的示意圖。(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，在圖6(b)中，黑線箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)，白色空心箭頭表示第一基板的移動方向。圖7是表示實施方式1涉及的曝光工序中的相對于取向膜(基板)的光的照射形態(tài)的截面示意圖。圖8是表示實施方式1涉及的曝光工序(第二次掃描時)中的基于掃描方式的取向膜(基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，圖8(b)中，黑線箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)，白色空心箭頭表示第一基板的移動方向。圖9是表示實施方式1涉及的對于第一基板的曝光工序(第一次掃描及第二次掃描時)中的光掩模的與顯示區(qū)域?qū)牟糠值男螒B(tài)(上段)、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第一基板的子像素(下段)的正面示意圖，圖中，黑線箭頭表示光照射方向。圖10是表示實施方式1涉及的對于第一基板的曝光工序(第一次掃描和第二次掃描時)中的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域相對應的部分的形態(tài)(上段)、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第一基板的顯示區(qū)域的角部附近(下段)的正面示意圖，在下段的圖中，通過該曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像被圖示。圖11是表示實施方式1涉及的對于第二基板的曝光工序(第一次掃描和第二次掃描時)中的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)牟糠值男螒B(tài)(左側(cè))、和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的第二基板的顯示區(qū)域的角部附近(右側(cè))的正面示意圖，在右側(cè)的圖中，通過該曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像被圖示。在本實施方式中，取向膜通過掃描方式或者拍攝方式被曝光。在這里，對基于掃描方式的取向膜的曝光方法進行說明。對第一基板的曝光工序進行說明。首先，如圖6(a)所示，準備光掩模20a，該光掩模20a具有掩模部21a(第一掩模部)和配置在掩模部21a的兩端側(cè)的兩個掩模微細部22a(第二掩模部)。光掩模20a在與第一基板1的移動方向正交的方向(圖6中的y軸方向、正面觀察顯示面時的橫向)設置有多條按后述的第一基板l的移動方向(圖6中的x軸方向、正面觀察顯示面時的縱向)形成的狹縫。即，光掩模20a具有狹縫圖案。更加具體而言，在掩模部21a，在遮光區(qū)域內(nèi)設置有具有y軸方向的子像素間距的大致一半的寬度的多個平面視圖矩形的狹縫25a,使之成為與y軸方向的子像素間距大致相同的間距。另一方面，在掩模微細部22a中，雖然按照與狹縫25a大致平行的方式設置有多個平面視圖矩形的狹縫25b，但是狹縫25b形成為比與顯示區(qū)域31對應的狹縫25a細。更加具體而言，狹縫25b在y軸方向上，具有比狹縫25a小的寬度和間距。此外，雖然適當設定狹縫25b的寬度和間距即可，但是如果考慮到曝光裝置的對準誤差，則優(yōu)選寬度為122(Hrni左右，優(yōu)選間距為2440pm左右。此外，從增加邊框區(qū)域的暗線的條數(shù)(面積)，進一步抑制漏光的產(chǎn)生的觀點出發(fā)，優(yōu)選掩模微細部22a的狹縫25b的寬度和間距比上述的范圍更小。但是，如果考慮到在曝光裝置產(chǎn)生對準誤差和在暗線產(chǎn)生模糊區(qū)域的情況，則即使進一步將狹縫微細化，也不能夠期待提高本發(fā)明的效果(產(chǎn)生漏光的抑制效果)，所以，還是優(yōu)選狹縫25b的寬度和間距為上述范圍程度。下面，如圖6(a)所示，按照掩模部21a與顯示區(qū)域31對應，并且掩模微細部22a只與邊框區(qū)域32對應的方式，配置通過上述方法形成的第一基板1和光掩模20a。這樣，光掩模20a具有只與邊框區(qū)域32對應的兩個掩模微細部22a，并且具有與顯示區(qū)域31和在狹縫25a的長邊方向上鄰接于顯示區(qū)域31的區(qū)域的邊框區(qū)域32對應的掩模部21a。另外，掩模微細部22a與掩模部21a的狹縫25a的短邊方向(與第一基板l的移動方向正交的方向)鄰接配置。由此，使用光掩模20a能夠有效地曝光顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32的取向膜。此外，在光掩模20a的上方配置有光源(未圖示)。接著，如圖6(b)所示，在將光掩模20a的狹縫25a和第一基板1的子像素對位之后，使第一基板l沿一x方向(圖6(b)中的白色空心箭頭的方向)移動，同時隔著光掩模20a由偏振紫外線(圖6(b)中，黑線箭頭)從基板1的一端到另一端曝光設置在第一基板1的表面的垂直取向膜5a(第一次掃描)。這時，第一基板1按照狹縫25a沿著第一基板1上設置的數(shù)據(jù)信號線10、掃描信號線9等總線配線的方式移動。另外，如圖6(b)及圖7所示，偏振紫外線15從斜向照射第一基板1。進而，在俯視第一基板1時，偏振紫外線15沿著狹縫25a和狹縫25b的長邊方向照射。而且，在光掩模20a和第一基板l之間，設置有某間隔(鄰近間隙16)。由此，第一基板1的移動能夠平穩(wěn)進行，并且，即使光掩模20a因自重而撓曲，也能夠抑制與第一基板1接觸。通過該第一次掃描，位于顯示區(qū)域31的各像素(各子像素)和邊框區(qū)域32的大致一半的區(qū)域被取向處理。另外，如圖7所示，垂直取向膜5a表面附近的液晶分子3b在曝光后的各區(qū)域內(nèi)，出現(xiàn)大致一定的預傾角17。此外，作為本發(fā)明中的基于掃描方式的曝光形式，也可以是基板被固定、光掩模和光源移動的形式。接著，在面內(nèi)將第一基板1旋轉(zhuǎn)180。后，如圖8(a)所示，按照設置在掩模部21a的各狹縫25a與各子像素的未曝光區(qū)域?qū)姆绞?，進行掩模部21a的狹縫25a和第一基板1的子像素的對位。這時，掩模微細部22a的狹縫25b以與邊框區(qū)域32的未曝光區(qū)域?qū)姆绞脚渲谩Ｖ?，如圖8(b)所示，與圖6(b)同樣，將第一基板l向著+x方向(圖8(b)中的白色空心箭頭的方向、與圖6(b)相反的方向)移動，同時隔著光掩模20a通過偏振紫外線(圖8(b)中，黑線箭頭)從基板1的一端到另一端對設置在第一基板1表面的垂直取向膜5a進行曝光(第二次掃描)。由此，各像素(各子像素)的殘余的大致一半的區(qū)域、和邊框區(qū)域32的殘余的大致一半的區(qū)域被進行取向處理，第一基板l上的垂直取向膜5a被整面曝光。此外，在第一次掃描和第二次掃描之間，光源和光掩模20a固定，從而第二次掃描時的光線(圖8(b)中，黑線箭頭)相對于第一基板1的入射角和第一次掃描吋的光線(圖6(b)中，黑線箭頭)相對于第一基板1的入射角大致相同。另一方面，由于在第一次掃描和第二次掃描間，第一基板1在面內(nèi)旋轉(zhuǎn)180°,所以第一次掃描時的光線相對于第一基板1的朝向(光照射方向)和第二次掃描時的光線相對于第一基板1的朝向(光照射方向)，如圖9的上段所示，在俯視第一基板1時，正好反向。即，在顯示區(qū)域31中，第一基板1的各子像素8(R的子像素8R、G的子像素8G和B的子像素8B)如圖3(a)和圖9的下段所示，被取向分割為取向方向為互相反平行方向的兩個區(qū)域。另外，使用這樣曝光的第一基板l組裝液晶顯示面板后，顯示中間灰度以上的灰度等級，正面觀察顯示畫面，則如圖10所示，與光掩模20a的狹縫25a、25b的邊界線相對應，在顯示區(qū)域31的鄰接的各曝光區(qū)域之間、即疇間(疇邊界)，按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27a(第一暗線)，并且，邊框區(qū)域32的鄰接的各曝光區(qū)域之間、即疇間(疇邊界)，按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27b(第二暗線)。此外，暗線27a和暗線27b沿著相互平行的方向產(chǎn)生，但是暗線27a和暗線27b的間距相互不同，暗線27b的間距Wb比暗線27a的間距Wa小。接著，與第一基板相同，對于第二基板2的垂直取向膜5b也使用具有狹縫圖案的光掩模20b進行曝光。g卩，如圖11所示，使用光掩模20b進行曝光(第一次掃描和第二次掃描)，光掩模20b設置有形成有狹縫25c的掩模部21b、和形成有比狹縫25c細的狹縫25d的掩模微細部22b。這時，狹縫25c被設置為，具有與第二基板2的移動方向正交的方向(圖ll中的y軸方向，正面觀察顯示面時的縱向)的子像素間距的大致1/4的寬度，并且成為與y軸方向的子像素間距的一半大致相同的間距。另一方面，狹縫25d按照與狹縫25c大致平行的方式設置有多個，但是狹縫25d具有比狹縫25c的y軸方向的寬度和間距小的寬度和間距。此夕卜，這時，掩模微細部22b的狹縫25d的寬度和間距也可以被適當設定，但是，考慮到曝光裝置的對準誤差，優(yōu)選寬度為1220pm左右，間距為2440nm左右。由此，在顯示區(qū)域31中，第二基板2的各子像素，如圖3(b)所示，取向分割為取向方向互為反平行方向的兩個區(qū)域。另外，在第二基板2上設置的垂直取向膜5b表面附近的液晶分子，如圖7所示，與第一基板1的情況相同，在被取向分割的各區(qū)域內(nèi)，出現(xiàn)大致一定的預傾角。進而，使用這樣曝光的第二基板2組裝液晶顯示面板后，顯示中間灰度以上的灰度等級，正面觀察顯示畫面，則如圖ll所示，與光掩模20b的狹縫25c、25d的邊界線對應，在顯示區(qū)域31的鄰接的各曝光區(qū)域間、即疇間(疇邊界)，按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27c(第三暗線)，并且在邊框區(qū)域32的鄰接的各曝光區(qū)域間、即疇間(疇邊界)按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27d(第四暗線)。此外，雖然暗線27c和暗線27d沿著相互平行的方向產(chǎn)生，但是暗線27c和暗線27d的間距相互不同，暗線27d的間距Wd比暗線27c的間距Wc小。在本實施方式中，為了將1子像素取向分割為4疇，使用光掩模曝光TFT陣列基板，該光掩模按照在正面觀察液晶顯示面板的顯示面時的橫向的子像素間距(圖5中，x軸方向)的大致l/2的寬度形成有條紋圖案，另一方面，使用下述光掩模曝光CF基板，該光掩模按照在正面觀察液晶顯示面的顯示面時的縱向的子像素間距(圖5中，y軸方向，此外，在本實施方式中，縱向的子像素間距與像素間距相同)的大致1/4的寬度形成有條紋圖案。但是，透光部的圖案并沒有特別的限定，根據(jù)像素(子像素)的布局、像素(子像素)尺寸、面板的分辨率等進行適當?shù)卦O定即可。另外，在本實施方式中，雖然將4個疇形成為矩陣狀，但是，疇的配置形式并不特別限定于矩陣狀，也可以是"目"字這樣的條紋狀。進而，在各子像素具有副像素的情況下，為了取向分割各副像素，也可以根據(jù)各副像素形成條紋圖案。作為能夠在本實施方式中使用的材料以及能夠適用的制造工序中的條件，可以舉出下述例子。但是，在本實施方式中能夠使用的材料和條件并不限定于下述內(nèi)容。另外，曝光中使用的光線的種類也并不特別限定于偏振紫外線，能夠根據(jù)取向膜材料、制造工序等進行適當?shù)卦O定，也可以無偏光(消光比=1:1)。-液晶材料具有An(雙折射)=0.060.14、As(介電常數(shù)各向異性)=—2.0^^—8.0、Tni(向列一各向同性相轉(zhuǎn)變溫度)=60110°C的向列液晶。'預傾角8589.9°'單元厚度25pm-照射能量密度0.015J/cm2'鄰近間隙10250拜-光源低壓水銀燈、高壓水銀燈、重氫燈、金屬鹵化物燈、氬共振燈、氙燈、受激準分子激光器。'紫外線的消光比(偏光度)1:160:1，紫外線的照射方向從基板面法線方向060。方向。下面，對第一基板1和第二基板2的貼合工序進行說明。在貼合工序中，首先，在如上所述制作的第一基板1或第二基板2的周圍涂敷密封材料。接著，在涂敷有密封材料的基板1或2上散布例如4pm的塑料珠(plasticbeads)后，貼合第一基板1和第二基板2。這時，1子像素中的兩基板的光線照射方向的關(guān)系成為圖4所示，在各疇內(nèi)，掃描方向在相對的基板之間大致正交。接著，如果在第一基板1和第二基板2之間封入例如上述液晶材料，則液晶分子在各疇在分別不同的方向出現(xiàn)預傾角。由此，各疇的液晶層3的層面內(nèi)方向和厚度方向的中央附近的液晶分子3a的取向方位，如圖4所示，在俯視基板時，成為從光線照射的方向傾斜45度的方向。接著，在將相位差板7a、7b貼附在第一基板1和第二基板2的外側(cè)后，按照偏光軸向著圖3所示的朝向的方式貼附兩片偏光板6a、6b。由此，在無電壓施加時，由于液晶分子基本垂直取向，所以本實施方式的液晶顯示面板100能夠?qū)崿F(xiàn)良好的黑顯示(常黑模式)。另外，本實施方式的液晶顯示面板100具有液晶分子向分別不同的四方向響應的四個疇，所以能夠顯示出基本不依存于視角方向的顯示特性。之后，經(jīng)過一般的模塊制造工序，能夠完成本實施方式的液晶顯示裝置。下面，對于本實施方式的液晶顯示裝置的顯示畫面進行說明。圖12是表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時的實施方式1涉及的液晶顯示裝置的顯示區(qū)域的角部附近的正面示意圖。本實施方式的液晶顯示裝置200顯示中間灰度以上的灰度等級(例如，白色)，并正面觀察顯示畫面時，圖12中，在x軸方向上(正面觀察顯示面時的橫向)，在顯示區(qū)域31的鄰接的各疇間(疇邊界)，按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27a，并且在顯示區(qū)域32的鄰接的各疇間(疇邊界)按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27b。另一方面，液晶顯示裝置200顯示中間灰度以上的灰度等級(例如白色)，并正面觀察顯示畫面時，圖12中，在y軸方向上(正面觀察顯示面時的縱向)，在顯示區(qū)域31的鄰接的各疇間(疇邊界)，按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27c，并且在顯示區(qū)域32的鄰接的各疇間(疇邊界)按照一定的間距產(chǎn)生多條暗線27d。暗線27a和暗線27b、暗線27c和暗線27d分別沿著相互平行的方向產(chǎn)生(暗線273//暗線27b，暗線27c〃暗線27d)。另一方面，暗線27b的間距Wb比暗線27a的間距Wa小，暗線27d的間距Wd比暗線27c的間距Wc小。此外，在顯示區(qū)域31中，除了暗線27a之外，還產(chǎn)生有邊緣部暗線(未圖示)，如果結(jié)合暗線27a及邊緣部暗線，則在顯示區(qū)域31中，產(chǎn)生包括卍形狀的暗線。這樣，液晶顯示裝置200顯示中間灰度以上的灰度等級，在正面觀察顯示畫面時，具有產(chǎn)生暗線27a及暗線27c的顯示區(qū)域31;和邊框區(qū)域32，邊框區(qū)域32包括按照比暗線27a及暗線27c的間距小的間距產(chǎn)生暗線27b及暗線27d的區(qū)域。BP，液晶顯示裝置200在邊框區(qū)域32中，具有其數(shù)量和面積有意地增加后的暗線27b和暗線27d，所以，與按照與顯示區(qū)域的暗線相同的間距在邊框區(qū)域產(chǎn)生暗線的現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示裝置相比，能夠抑制來自邊框區(qū)域32的沒有引出配線19的區(qū)域的漏光的產(chǎn)生。此外，由于該暗線27b和暗線27d即使在白顯示時也是得到維持的暗的區(qū)域，所以即使受到基于引出配線19等的電場的影響，邊框區(qū)域32也會被暗線27b和暗線27d遮光。另外，根據(jù)本實施方式，對于相對的第一基板1和第二基板2，使用與邊框區(qū)域32對應的狹縫狹小的間距的光掩模，進行曝光。因此，液晶顯示裝置200在邊框區(qū)域的角部中，狹小間距的暗線27b和暗線27d相互大致垂直產(chǎn)生為格子狀。由此，能夠進一步提高邊框區(qū)域32中的暗線的遮光率。如上所述，對于通過掃描方式進行取向膜的曝光的形態(tài)進行了說明，但是在本實施方式的液晶顯示裝置的制造方法中，取向膜也可以通過拍攝方式曝光。圖13是表示實施方式1涉及的曝光工序中的基于拍攝方式的取向膜(基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是平面圖，(b)是側(cè)面圖。此外，圖13(b)中，黑線箭頭表示偏振紫外線的照射方向(光照射方向)。如圖13所示，基板(第一基板1和/或第二基板2)18使用具有掩模部21c和掩模微細部22c的光掩模20c，在固定基板18和光源(配置在光掩模20c的上方，未圖示)的狀態(tài)下，一并曝光取向膜(顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32)也可以。此外，與掃描方式的情況相同，在掩模微細部22c，形成有狹縫25f，該狹縫25f具有比掩模部21c的狹縫25e的寬度和間距小的寬度和間距。另外，在拍攝方式的情況下，在第一次曝光(第一次拍攝)和第二次曝光(第二次拍攝)之間，基板18或者光掩模20c，在與狹縫25e及狹縫25f的長邊方向正交的方向上，錯開子像素間距的大致一半或者大致1/4，按照在第二次拍攝時狹縫25e與各子像素的未曝光區(qū)域?qū)姆绞?，進行掩模部21c的狹縫25e和基板18的子像素的對位。這樣，在拍攝方式的情況下，如上所述，沒有必要將基板18在面內(nèi)旋轉(zhuǎn)180。。但是，在拍攝方式的情況下，在第一次拍攝和第二次拍攝之間，有必要改變光源的位置等，變更光相對于基板面的照射方向。另外，在本實施方式的液晶顯示裝置的制造方法中，在將光掩模錯開配置之后，進行第二次掃描也可以。圖14是正面示意圖，其表示實施方式1涉及的對于基板的曝光工序中的光掩模的與顯示區(qū)域和邊框區(qū)域?qū)牟糠值钠渌螒B(tài)(上段)；和隔著在上段表示的光掩模曝光取向膜后的基板的顯示區(qū)域的端部附近(下段)，在下段的圖中，通過該曝光產(chǎn)生的暗線(灰色線)作為圖像被圖示。這種情況下，光掩模20d與光掩模20a等同樣，形成有與顯示區(qū)域31對應的狹縫25g和與邊框區(qū)域32對應的狹縫25h，設定狹縫25h的寬度和間距比狹縫25g的寬度和間距小。另一方面，與邊框區(qū)域32對應的狹縫25h，在第一次掃描和第二次掃描之間按照光掩模20d被錯開的距離(各錯開間距單位)，狹縫25h和遮光區(qū)域的組合(白黑的組合)被反轉(zhuǎn)。然后，使用該光掩模20d進行第一次掃描，并且將光掩模20d錯開子像素的一半的間距程度之后，進行第二次掃描。由此，在通過狹小的間距的狹縫25h曝光的區(qū)域的取向膜(垂直取向膜5a和/或垂直取向膜5b)不會產(chǎn)生未曝光區(qū)域，能夠在邊框區(qū)域32形成具有比在顯示區(qū)域31產(chǎn)生的多個暗線27e的間距小的間距的多個暗線27f產(chǎn)生的區(qū)域。這樣，在錯開光掩模進行取向膜的曝光的情況下，沒有必要如上所述將基板在面內(nèi)旋轉(zhuǎn)180°。但是，這種情況與拍攝方式的情況相同，在第一次掃描和第二次掃描之間，有必要改變光源的位置等，變更光相對于基板面的照射方向。此外，該曝光形態(tài)當然也適用于拍攝方式。進而，在本實施方式中，雖然按照一定的間距在掩模微細部形成狹縫，但是掩模微細部的狹縫也可以不按照一定的間距，即隨機地進行配置。(實施方式2)下面，對于實施方式2進行說明。此外，在本實施方式和實施方式1中，在曝光工序中，只有在光掩模的與邊框區(qū)域?qū)牟糠中纬傻莫M縫的形態(tài)不同，所以在本實施方式和實施方式1中省略對于重復的內(nèi)容的說明和圖示。圖15是表示實施方式2涉及的曝光工序(第一次拍攝時)中的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖16是表示實施方式2涉及的曝光工序(第二次拍攝時)中的取向膜(第二基板)的曝光形態(tài)的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖17是表示實施方式2涉及的液晶顯示面板的位于顯示區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示顯示中間灰度以上的灰色等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖17(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光照射方向。另外，在圖17(b)中，液晶分子表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖18是表示實施方式2涉及的液晶顯示面板的位于邊框區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖18(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光照射方向。另外，在圖18(b)中，液晶分子表示位于俯視基板時的各疇的大致中央，并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。首先，說明對于第二基板2的曝光。如圖15(a)所示，本實施方式的光掩模20e具有與顯示區(qū)域31對應設置的掩模部21d(第一掩模部)和與邊框區(qū)域32對應設置的掩模邊框部23a(第二掩模部)。掩模部21d具有設置在遮光區(qū)域內(nèi)的多個平面視圖矩形的狹縫25i。狹縫25i按照其長邊方向向著正面觀察基板時的橫向的方式配置。狹縫25i的寬度被設定為正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的大致1/4，狹縫25i的間距被設定為與正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的一半大致相同。另一方面，掩模邊框部23a具有設置在遮光區(qū)域內(nèi)的多個平面視圖矩形的狹縫25j。狹縫25j按照其長邊方向向著正面觀察基板時的縱向的方式配置。這樣，狹縫25i的排列方向與狹縫25j的排列方向正交。艮口，狹縫25i的長邊方向與狹縫25j的長邊方向正交。此外，雖然也可以適當?shù)卦O定狹縫25j的寬度和間距，但是此處為與狹縫25i相同的寬度和間距。下面，對于使用光掩模20e的曝光方法進行說明。在本實施方式中，取向膜通過拍攝方式曝光。更加具體而言，首先，按照掩模部21d與顯示區(qū)域31對應，并且掩模邊框部23a與邊框區(qū)域32對應的方式配置第二基板2和光掩模20e。接著，在將狹縫25i和第二基板2的各子像素對位后，與第一實施方式一樣，利用偏振紫外線對于第二基板2的面從斜向進行垂直取向膜5b的曝光(第一次拍攝)。更加具體而言，垂直取向膜5b以沿著狹縫25i的長邊方向的朝向從傾斜的方向曝光。由此，如圖15(b)所示，在第一次拍攝時經(jīng)由狹縫25i曝光的曝光區(qū)域34a在顯示區(qū)域31形成為條紋狀，并且在第一次拍攝時經(jīng)由狹縫25j曝光的曝光區(qū)域34b在邊框區(qū)域32形成為條紋狀。但是，條紋狀的曝光區(qū)域34a的長邊方向和條紋狀的曝光區(qū)域34b的長邊方向正交。接著，如圖16(a)所示，使得光掩模20e相對于第二基板2斜向錯開。更加詳細而言，使得光掩模20e向著正面觀察第二基板2時的縱向只移動狹縫25i的間距的量，并且向著正面觀察第二基板2時的橫向只移動狹縫25j的間距的量。于是，按照狹縫25i與各子像素的未曝光區(qū)域?qū)姆绞?，進行光掩模20e和第二基板2的對位。之后，改變光源的位置等，從與第一次拍攝時的紫外線的照射方向相反的方向進行垂直取向膜5b的曝光(第二次拍攝)。由此，與第一次拍攝時同樣，如圖16(b)所示，在第二次拍攝時經(jīng)由狹縫25i曝光的曝光區(qū)域34c在顯示區(qū)域31形成為條紋狀，并且在第二次拍攝時經(jīng)由狹縫25j曝光的曝光區(qū)域34d在邊框區(qū)域32形成為條紋狀。接著，對于第一基板1，也與第二基板2同樣，對垂直取向膜5a迸行2次曝光(第一次拍攝和第二次拍攝)。這時，對于第一基板l的紫外線的照射處理方向和對于第二基板的紫外線的照射處理方向，設定為在貼合第一基板1和第二基板2時，如圖17(a)和圖18(a)所示，在顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32的兩區(qū)域正交。由此，如圖17(a)所示，在顯示區(qū)域31中，在各子像素內(nèi)形成四個疇28a、28b、28c、28d。另外，如圖18(a)所示，在邊框區(qū)域32中，也形成四個疇28e、28f、28g、28h。更加具體而言，如圖17(b)所示，如果將正面觀察顯示面時的水平右方向規(guī)定為0°，則在疇28a中，位于俯視基板時的大致中央、并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子30a(下面，也稱為"中央液晶分子")向225。方向傾斜，在疇28b中，中央液晶分子30b向著315。方向傾斜，在疇28c中，中央液晶分子30c向著45。方向傾斜，在疇28d中，中央液晶分子30d向著135。方向傾斜。這樣，中央液晶分子30a、中央液晶分子30b、中央液晶分子30c及中央液晶分子30d傾斜成同心圓狀。另一方面，如圖18(b)所示，如果將正面觀察顯示面時的水平右方向規(guī)定為0°，則在疇28e中，中央液晶分子30e向135。方向傾斜，在疇28f中，中央液晶分子30f向著225。方向傾斜，在疇28g中，中央液晶分子30g向著315°方向傾斜，在疇28h中，中央液晶分子30h向著45。方向傾斜。這樣，中央液晶分子30e、中央液晶分子30f、中央液晶分子30g和中央液晶分子30h傾斜成放射線狀。另外，疇28a的中央液晶分子30a的傾斜方向與疇28f的中央液晶分子30f的傾斜方向一致，疇28b的中央液晶分子30b的傾斜方向與疇28g的中央液晶分子30g的傾斜方向一致，疇28c的中央液晶分子30c的傾斜方向和疇28h的中央液晶分子30h的傾斜方向一致，疇28d的中央液晶分子30d的傾斜方向與疇28e的中央液晶分子30e的傾斜方向一致。這樣，顯示區(qū)域31中的疇28a、28b、28c、28d的配置形態(tài)與邊框區(qū)域32中的疇28e、28f、28g、28h的配置形態(tài)不同。于是，如圖17(c)所示，在顯示區(qū)域31的各疇28a、28b、28c、28d的邊界，產(chǎn)生包括卍形狀的暗線27g，另一方面，如圖18(c)所示，在邊框區(qū)域32的各疇28e、28f、28g、28h的邊界，暗線27h呈格子狀產(chǎn)生。進而，在邊框區(qū)域32產(chǎn)生的暗線27h的寬度比顯示區(qū)域31產(chǎn)生的暗線27g的寬度寬。g卩，邊框區(qū)域32與顯示區(qū)域31相比，暗線的遮光區(qū)域變大。這樣，根據(jù)本實施方式，通過排列方向相差90。的兩種狹縫25i及狹縫25j分別對顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32進行曝光，由此，在顯示區(qū)域31能夠?qū)崿F(xiàn)對開口有利的疇的組合，另一方面，在邊框區(qū)域32，能夠?qū)崿F(xiàn)對開口不利的疇的組合。相對于此，在現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示裝置中，形成在顯示區(qū)域的疇的組合與形成在邊框區(qū)域的疇的組合相同，所以，即使在邊框區(qū)域也按照有利開口的方式形成疇。因此，根據(jù)本實施方式，與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠擴大邊框區(qū)域32中的暗線的遮光面積，所以，能夠抑制漏光的產(chǎn)生。此外，在本實施方式中，狹縫25i和狹縫25j的寬度和間距能夠適當?shù)卦O定，但優(yōu)選狹縫25j的寬度和間距比狹縫25i的寬度和間距小的形式。由此，能夠進一步抑制邊框區(qū)域32中的漏光的產(chǎn)生。(實施方式3)下面，對實施方式3進行說明。此外，在本實施方式和實施方式1、實施方式2中，只有在曝光工序中，在光掩模的與邊框區(qū)域?qū)牟糠中纬傻耐腹獠康男螒B(tài)不同，所以，對于本實施方式和實施方式l、實施方式2中重復的內(nèi)容的說明和圖示予以省略。圖19是表示實施方式3涉及的曝光工序(第一次拍攝時)中的取向膜(第二基板)的曝光形式的示意圖，(a)表示光掩模的平面圖，(b)表示第二基板的平面圖。圖20是表示實施方式3中的曝光工序(第二次拍攝時)中的取向膜(第二基板)的曝光形式的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖21是表示實施方式3涉及的液晶顯示面板的位于顯示區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖21(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖21(b)中，液晶分子表示位于俯視基板時的各疇的大致中央、并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。圖22是表示實施方式3涉及的液晶顯示面板的位于邊框區(qū)域的1子像素的平面示意圖，(a)表示對于垂直取向膜的光照射方向，(b)表示施加電壓時的液晶分子的取向方向，(c)表示在顯示中間灰度以上的灰度等級時產(chǎn)生的暗線。此外，在圖22(a)中，實線箭頭表示對于第一基板的光照射方向，虛線箭頭表示對于第二基板的光線照射方向。另外，在圖22(b)中，液晶分子表示位于俯視基板時的各疇的大致中央、并且液晶層的厚度方向的大致中央的液晶分子。首先，對第二基板2的曝光進行說明，如圖19(a)所示，本實施方式的光掩模20f具有與顯示區(qū)域31對應設置的掩模部21e(第一掩模部)；和與邊框區(qū)域32對應設置的掩模邊框部23b(第二掩模部)。掩模部21e與實施方式2的光掩模20e相同，具有設置在遮光區(qū)域內(nèi)的多個平面視圖矩形的狹縫25k。狹縫25k按照其長邊方向向著正面觀察基板時的橫向的方式配置。狹縫25k的寬度被設定為正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的大致1/4，狹縫25k的間距被設定為與正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的一半大致相同。另一方面，在掩模邊框部23，在遮光區(qū)域內(nèi)呈格子狀(方格狀)設置有多個平面視圖方形的點29。此外，點29的寬度(一邊的長度)和間距雖然也可以適當?shù)卦O定，但是，此處，為與狹縫25k相同的寬度和間距。這樣，在光掩模20f的掩模部21e和掩模邊框部23b，形成具有不同的圖案的透光部。下面，對于使用光掩模20f的曝光方法進行說明。在本實施方式中，取向膜通過拍攝方式曝光。具體而言，首先，按照掩模部21e與顯示區(qū)域31對應，并且掩模邊框部23b與邊框區(qū)域32對應的方式，配置第二基板2和光掩模20f。接著，在將狹縫25k和第二基板2的各子像素的對位之后，與實施方式2同樣，通過偏振紫外線對于第二基板2的面從斜向迸行垂直取向膜5b的曝光(第一次拍攝)。更加具體而言，垂直取向膜5b以沿著狹縫25k的長邊方向的朝向從傾斜方向曝光。由此，如圖19(b)所示，第一次拍攝時經(jīng)由狹縫25k而被曝光的曝光區(qū)域34e在顯示區(qū)域31形成為條紋狀，并且，在第一次拍攝時經(jīng)由點29而被曝光的曝光區(qū)域34f在邊框區(qū)域32倍形成為格子狀。下面，如圖20(a)所示，在正面觀察第二基板2時的縱向使光掩模20f只移動狹縫25k的間距的量。于是，按照狹縫25k與各子像素的未曝光區(qū)域?qū)姆绞?，進行光掩模20f和第二基板2的對位。之后，改變光源的位置等，從與第一次拍攝時的紫外線的照射方向相反的方向進行取向膜的曝光(第二次拍攝)。由此，與第一次拍攝時相同，如圖20(b)所示，在第二次拍攝時經(jīng)由狹縫25k被曝光的曝光區(qū)域34g在顯示區(qū)域31被形成為條紋狀，并且在第二次拍攝時經(jīng)由點29被曝光的曝光區(qū)域34h在邊框區(qū)域32被形成為格子狀。接著，對于第一基板l，也與第二基板2相同，對垂直取向膜5a進行兩次的曝光(第一次拍攝和第二次拍攝)。這時，對于第一基板1的紫外線的照射處理方向和對于第二基板2的紫外線的照射處理方向，被設定為在貼合第一基板1和第二基板2時，如圖21(a)和圖22(a)所示，在顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32的兩區(qū)域中正交。由此，如圖21(a)所示，在顯示區(qū)域31中，與實施方式2相同，在各子像素內(nèi)形成四個疇28i、28j、28k、281。另外，如圖22(a)所示，在邊框區(qū)域32也形成四個疇28m、28n、28o、28p。更加具體而言，如圖21(b)所示，如果將正面觀察顯示面時的水平右方向規(guī)定為0°，則在疇28i中，中央液晶分子30i向225。方向傾斜，在疇28j中，中央液晶分子30j向315°方向傾斜，在疇28k中，中央液晶分子30k向著45°方向傾斜，在疇281中，中央液晶分子301向著135°方向傾斜。這樣，中央液晶分子30i、中央液晶分子30j、中央液晶分子30k及中央液晶分子301傾斜為同心圓狀。另一方面，如圖22(b)所示，如果將正面觀察顯示面時的水平右方向規(guī)定為O。，則在疇28m中，中央液晶分子30m向135°方向傾斜，在疇28n中，中央液晶分子30n向315°方向傾斜，在疇28o中，中央液晶分子300向著135°方向傾斜，在疇28p中，中央液晶分子30p向著315。方向傾斜。這樣，中央液晶分子30m、中央液晶分子30n、中央液晶分子30o及中央液晶分子30p分別沿平行方向傾斜。另外，疇28j中的中央液晶分子30j的傾斜方向與疇28n和疇28p中的中央液晶分子30n和中央液晶分子30p的傾斜方向一致，疇281中的中央液晶分子301的傾斜方向與疇28m和疇28o中的中央液晶分子30m和中央液晶分子30o的傾斜方向一致。但是，與顯示區(qū)域31中的疇28i及疇28k中的中央液晶分子30i及中央液晶分子30k的傾斜方向一致的疇，在邊框區(qū)域32中沒有形成。這樣，顯示區(qū)域31中的疇28a、28b、28c、28d的組合和邊框區(qū)域32中的疇28e、28f、28g、28h的組合不同。于是，如圖21(c)所示，在顯示區(qū)域31的各疇28i、28j、28k、281的邊界，與實施方式2相同，產(chǎn)生包括卍形狀的暗線27i，另一方面，如圖22(c)所示，在邊框區(qū)域32的各疇28m、28n、28o、28p的邊界，按照格子狀產(chǎn)生暗線27j。進而，在邊框區(qū)域32產(chǎn)生的暗線27j的寬度比在顯示區(qū)域31產(chǎn)生的暗線27i的寬度寬。艮P，邊框區(qū)域32與顯示區(qū)域31相比，暗線的遮光區(qū)域變大。這樣，根據(jù)本實施方式，通過利用圖案不同的兩種透光部(狹縫25k和點29)分別曝光顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32，在顯示區(qū)域31實現(xiàn)有利開口的疇的組合，另一方面，在邊框區(qū)域32能夠?qū)崿F(xiàn)不利開口的疇的組合。相對于此，在現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示裝置中，形成在顯示區(qū)域的疇的組合和形成在邊框區(qū)域的疇的組合相同，所以，在邊框區(qū)域也形成有利開口的疇。因此，根據(jù)本實施方式，相比于現(xiàn)有技術(shù)能夠擴大邊框區(qū)域32中的暗線的遮光面積，所以能夠抑制產(chǎn)生漏光。此外，在本實施方式中，狹縫25k和點29的寬度和間距能夠適當?shù)卦O定，優(yōu)選點29的寬度和間距比狹縫25k的寬度和間距小的方式。由此，能夠進一步抑制邊框區(qū)域32中的漏光的產(chǎn)生。(實施方式4)對實施方式4進行說明。此外，在本實施方式和實施方式13，在曝光工序中，由于只是光掩模的與邊框區(qū)域?qū)牟糠中纬傻耐腹獠康男问讲煌詫τ谠诒緦嵤┓绞街信c實施方式13重復的內(nèi)容的說明和圖示進行省略。圖23是表示實施方式4涉及的曝光工序(第一次拍攝時)中的取向膜(第二基板)的曝光形式的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖24是表示實施方式4涉及的曝光工序(第二次拍攝吋)中的取向膜(第二基板)的曝光形式的示意圖，(a)是光掩模的平面圖，(b)是第二基板的平面圖。圖25是表示實施方式4涉及的液晶顯示面板的通過第一次拍攝和第二次拍攝曝光的區(qū)域的擴大平面示意圖，(a)表示顯示區(qū)域，(b)表示邊框區(qū)域。此處，對第二基板2的曝光進行說明。如圖23(a)所示，本實施方式的光掩模20g具有與顯示區(qū)域31對應設置的掩模部21f(第一掩模部)；和與邊框區(qū)域32對應設置的掩模邊框部23c(第二掩模部)。掩模部21f具有設置在遮光區(qū)域內(nèi)的多個平面視圖矩形的狹縫251。狹縫251按照其長邊方向朝向正面觀察基板時的橫向的方式配置。狹縫251的寬度被設定為正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的大致1/4，狹縫251的間距被設定為與正面觀察第二基板2時的縱向的子像素間距的一半大致相同。另一方面，在掩模邊框部23c中，在遮光區(qū)域內(nèi)多個平面視圖平行四邊形的狹縫25m被斜向設置。更加具體而言，如果規(guī)定正面觀察顯示面時的水平右方向為0°，則狹縫25m被配置為其長邊方向朝向135°方向。另外，狹縫25m的間距P2被設定為在同一方向上，與狹縫251的間距Pl相同大小。因此，狹縫25m的寬度(狹縫的短邊方向的長度)比狹縫251的寬度小。這樣，在光掩模20g的掩模部21f和掩模邊框部23c形成有排列方向不同的狹縫。即，狹縫25m的長邊方向與狹縫251的長邊方向不同。下面，對于使用光掩模20g的曝光方法進行說明。在本實施方式中，取向膜通過拍攝方式曝光。更加具體而言，首先，按照掩模部21f與顯示區(qū)域?qū)?，并且掩模邊框?3c與邊框區(qū)域32對應的方式，配置第二基板2和光掩模20f。接著，在對狹縫251和第二基板2的各子像素進行對位后，與實施方式2相同，通過偏振紫外線對于第二基板2的面從斜向進行垂直取向膜5b的曝光(第一次拍攝)。更加具體而言，以沿著狹縫251的長邊方向的朝向從傾斜方向曝光垂直取向膜5b。由此，如圖23(b)所示，在第一次拍攝時經(jīng)由狹縫251被曝光的曝光區(qū)域34i在顯示區(qū)域31形成為條紋狀，并且在第一次拍攝時經(jīng)由狹縫25m被曝光的曝光區(qū)域34j在邊框區(qū)域32形成為條紋狀。但是，條紋狀的曝光區(qū)域34i的長邊方向和條紋狀的曝光區(qū)域34j的長邊方向錯開45。。下面，如圖24(a)所示，使光掩模20g在正面觀察第二基板2時的縱向只移動狹縫251的間距的量。然后，按照狹縫251與各子像素的未曝光區(qū)域?qū)姆绞竭M行光掩模20g與第二基板2的對位。之后，改變光源的位置等，從與第一次拍攝時的紫外線的照射方向相反的方向進行取向膜的曝光(第二次拍攝)。由此，與第一次拍攝時同樣，如圖24(b)所示，第二次拍攝時經(jīng)由狹縫251曝光的曝光區(qū)域34k在顯示區(qū)域31形成為條紋狀，并且第二次拍攝時經(jīng)由狹縫25m曝光的曝光區(qū)域341在邊框區(qū)域32形成為條紋狀。于是，如圖25(a)所示，在顯示區(qū)域31，條紋狀的曝光區(qū)域34i和曝光區(qū)域34k形成為沿著正面觀察第二基板2時的橫向延伸。另一方面，如圖25(b)所示，在邊框區(qū)域32中，條紋狀的曝光區(qū)域34j和曝光區(qū)域341形成為沿著正面觀察第二基板2時的斜向延伸。g卩，如果在使用這樣曝光的第二基板2組裝液晶顯示面板之后，顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面，則與光掩模20g的狹縫251、25m的邊界線相對應，在顯示區(qū)域31的曝光區(qū)域34i和曝光區(qū)域34k之間，暗線沿著左右方向產(chǎn)生，并且，在邊框區(qū)域32的曝光區(qū)域34j和曝光區(qū)域341之間，暗線沿著斜向產(chǎn)生。另外，在曝光區(qū)域34j和曝光區(qū)域341之間產(chǎn)生的暗線的間隔比在曝光區(qū)域34i和曝光區(qū)域34k之間產(chǎn)生的暗線的間隔小。此夕卜，在圖25(a)和(b)中，hl和h2是第一次拍攝和第二次拍攝之間的光掩模20g的偏移量(移動距離)，具有h^h2的關(guān)系。因此，通過排列方向相差45。的兩種狹縫251和狹縫25m分別曝光顯示區(qū)域31和邊框區(qū)域32，由此，能夠使得在邊框區(qū)域32的曝光區(qū)域34j和曝光區(qū)域341之間產(chǎn)生的暗線的間隔比在顯示區(qū)域31的曝光區(qū)域34i和曝光區(qū)域34k之間產(chǎn)生的暗線的間隔小。這樣，根據(jù)本實施方式，使得顯示區(qū)域31中的疇的形狀與邊框區(qū)域32的疇的形狀不同，能夠按照在邊框區(qū)域32中有利地抑制漏光的方式設定疇的形狀。相對于此，在現(xiàn)有技術(shù)的液晶顯示裝置中，顯示區(qū)域和邊框區(qū)域中的疇的形狀相同，當然，顯示區(qū)域的各曝光區(qū)域間產(chǎn)生的暗線的間隔和邊框區(qū)域的各曝光區(qū)域間產(chǎn)生的暗線的間隔相同。因此，根據(jù)本實施方式，與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠擴大邊框區(qū)域32中的暗線的遮光面積，能夠抑制漏光的產(chǎn)生。此外，在本實施方式中，狹縫251及狹縫25m的長邊方向所成的角的大小能夠適當設定為45。以外的角度。另外，在本實施方式中，狹縫251及狹縫25m的間距能夠適當?shù)卦O定，也可以優(yōu)選狹縫25m的間距比狹縫251的間距小的方式。由此，能夠進一步抑制邊框區(qū)域32中的漏光的產(chǎn)生。以上，通過實施方式對本發(fā)明進行了詳細的說明，但是，本發(fā)明的液晶顯示裝置，在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，與邊框區(qū)域的沒有配置引出配線的區(qū)域?qū)a(chǎn)生暗線也可以。由此，能夠進一步有效地抑制從邊框區(qū)域的沒有配置引出配線的區(qū)域產(chǎn)生漏光。另外，各實施方式在沒有脫離本發(fā)明的主要宗旨的范圍內(nèi)能夠進行適當?shù)亟M合。本申請以2007年4月20日申請的日本專利申請2007—111823號為基礎，主張依據(jù)巴黎條約以及所進入國家的法規(guī)的優(yōu)先權(quán)。上述申請的內(nèi)容的整體作為參照納入本申請中。權(quán)利要求1.一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置的制造方法的特征在于該制造方法包括使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第一掩模部和按照與第一掩模部的透光部形態(tài)不同的形態(tài)在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第二掩模部的光掩模，隔著第二掩模部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著第一掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的曝光工序。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于:所述曝光工序使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的掩模部和在遮光區(qū)域內(nèi)形成有比掩模部的透光部細的多個透光部的掩模微細部的光掩模，隔著掩模微細部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于:所述光掩模設置有掩模部和掩模微細部，其中，所述掩模部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有相互平行的多個狹縫的條紋圖案，所述掩模微細部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照與掩模部的狹縫平行且比掩模部的狹縫的寬度和間距小的寬度和間距反復形成有多個狹縫的條紋圖案。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于:所述曝光工序使用設置有掩模部和掩模邊框部的光掩模，隔著掩模邊框部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光，其中，所述掩模部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有相互平行的多個狹縫的條紋圖案，所述掩模邊框部具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著與掩模部的狹縫的排列方向不同的排列方向按照一定的間距反復形成有多個狹縫的條紋圖案。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于-所述掩模邊框部具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著與掩模部的狹縫正交的方向反復形成有多個狹縫的條紋圖案。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述掩模邊框部具有在遮光區(qū)域內(nèi)沿著相對于掩模部的狹縫傾斜的方向反復形成有多個狹縫的條紋圖案，所述掩模邊框部的狹縫在與掩模部的狹縫的間距相同的方向上具有相同大小的間距。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述曝光工序使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的掩模部和在遮光區(qū)域內(nèi)按照與掩模部中的透光部的圖案不同的圖案形成有多個透光部的掩模邊框部的光掩模，隔著掩模邊框部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述掩模部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有相互平行的多個狹縫的條紋圖案，所述掩模邊框部具有在遮光區(qū)域內(nèi)按照一定的間距反復形成有多個點的格子狀圖案。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于:所述曝光工序是使紫外線相對于基板面的法線從傾斜方向入射。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述紫外線是偏振紫外線。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述曝光工序?qū)θ∠蚰みM行曝光，使得在各像素內(nèi)形成在俯視基板時取向膜表面附近的液晶分子沿相互反平行方向取向的兩個區(qū)域。12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述取向膜設置在兩基板上，所述液晶顯示裝置的制造方法，按照使各基板的取向膜表面附近的液晶分子在俯視基板時在各像素內(nèi)沿相互反平行方向取向，并且一個基板的取向膜表面附近的液晶分子與另一個基板的取向膜表面附近的液晶分子在俯視基板時沿相互正交的方向取向的方式，進行兩基板的取向膜的曝光和兩基板的貼合。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述液晶層包含具有負的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，所述取向膜在沒有對液晶層施加電壓時，使液晶分子相對于取向膜表面接近垂直取向。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置的制造方法，其特征在于所述液晶層包含具有正的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，所述取向膜在沒有對液晶層施加電壓時，使液晶分子相對于取向膜表面接近水平取向。15.—種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置的特征在于，該液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線的顯示區(qū)域；和包括按照與第一暗線的間距不同的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線的區(qū)域的邊框區(qū)域。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述第二暗線按照比第一暗線的間距小的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶顯示裝置具有顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，其中，在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時，在所述顯示區(qū)域沿鄰接的疇間的第一方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第一暗線，并且沿鄰接的疇間的與第一方向正交的第二方向按照一定的間距產(chǎn)生多個第三暗線；在所述邊框區(qū)域包括按照比第一暗線的間距小的間距相對于第一方向平行地產(chǎn)生多個第二暗線、并且按照比第三暗線的間距小的間距相對于第二方向平行地產(chǎn)生多個第四暗線的區(qū)域。18.—種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置的特征在于該液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，該邊框區(qū)域具有不同于顯示區(qū)域中的疇的配置而配置的疇。19.一種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置的特征在于該液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，該邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的組合不同的組合的疇。20.—種液晶顯示裝置，其包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，該液晶顯示裝置的特征在于該液晶顯示裝置具有在顯示中間灰度以上的灰度等級并正面觀察顯示畫面時在鄰接的疇間產(chǎn)生暗線的顯示區(qū)域和邊框區(qū)域，該邊框區(qū)域具有與顯示區(qū)域中的疇的形狀不同的形狀的疇。21.根據(jù)權(quán)利要求15、18、19或20中任一項所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述疇在每1像素設置有2個以上、4個以下。22.根據(jù)權(quán)利要求15、18、19或20中任一項所述的液晶顯示裝置，其特征在于-所述液晶層包含具有負的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，所述取向膜設置在兩基板上，并且在沒有對液晶層施加電壓時使液晶分子相對于取向膜表面接近垂直取向。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶顯示裝置，在俯視基板時，設置在一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向與設置在另一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向正交。24.根據(jù)權(quán)利要求15、18、19或20中任一項所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶層包含具有正的介電常數(shù)各向異性的液晶分子，所述取向膜設置在兩基板上，并且在沒有對液晶層施加電壓時使液晶分子相對于取向膜表面接近水平取向。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的液晶顯示裝置，其特征在于所述液晶顯示裝置，在俯視基板時，設置在一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向與設置在另一個基板的取向膜表面附近的液晶分子的取向方向正交。全文摘要本發(fā)明涉及不會產(chǎn)生不良現(xiàn)象而能夠提高邊框區(qū)域附近的顯示質(zhì)量的液晶顯示裝置的制造方法和液晶顯示裝置。本發(fā)明提供一種液晶顯示裝置的制造方法，該液晶顯示裝置包括一對相對的基板、在基板間設置的液晶層和設置在至少一個基板的液晶層側(cè)的表面的取向膜，并且在像素內(nèi)具有兩個以上的疇，所述液晶顯示裝置的制造方法包括使用設置有在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第一掩模部和按照與第一掩模部的透光部的形態(tài)不同的形態(tài)在遮光區(qū)域內(nèi)形成有多個透光部的第二掩模部的光掩模，隔著第二掩模部對邊框區(qū)域的取向膜進行曝光，并且隔著第一掩模部對顯示區(qū)域的取向膜進行曝光的曝光工序。文檔編號G02F1/1337GK101589334SQ20078005004公開日2009年11月25日申請日期2007年12月18日優(yōu)先權(quán)日2007年4月20日發(fā)明者中川英俊申請人:夏普株式會社