專利名稱：基板的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在被搬運的基板的上表面沿著與該基板的搬運方向 交叉的方向供給處理液并處理的基板的處理裝置。
背景技術(shù)：
例如，在液晶顯示裝置的制造工序中，有在玻璃制的基板上形 成電路圖形的工序。當(dāng)在基板上形成電路圖形時，在成膜了的基板上 涂敷抗蝕劑后曝光，在曝光后利用顯影液進行顯影處理后，用蝕刻液 進行蝕刻處理，由此，在基板的表面精密地形成電路圖形。
在基板上形成電路圖形后，利用剝離液去除附著殘留在該基板 的表面上的抗蝕劑膜或抗蝕劑殘渣等有機物。利用剝離液去除有機物 后，用清洗液清洗處理該基板的板面后交付到下一個工序。
當(dāng)用顯影液、蝕刻液、剝離液以及清洗液等處理液處理基板時， 進行如下操作利用搬運構(gòu)件將上述基板按規(guī)定方向搬運的同時，在 該基板的上表面將上述處理液沿著與基板搬運方向交叉的方向直線 狀地供給并處理。在專利文獻1中示出在被搬運的基板上供給處理液 的噴嘴體。
在專利文獻1所示的噴嘴體中，在下表面沿著較長方向以規(guī)定 間隔形成多個吐出口。在該噴嘴體中具備積液室，使被供給的處理 液滯留；以及吐液流路， 一端與上述吐出口連通、另一端與上述積液 室連通、使滯留在積液室的處理液流經(jīng)吐出口并吐出。
然后，在被搬運的上述基板的上方布置上述結(jié)構(gòu)的噴嘴體，使 該噴嘴體的較長方向沿著與上述基板的搬運方向交叉的方向。由此，
若使處理液從上述吐出口流出，則在按規(guī)定方向被搬運的基板的上表 面，能夠沿著與搬運方向交叉的方向直線狀地供給該處理液。
在上述噴嘴體的積液室上連接供給管，處理液由該供給管供給 到積液室中。處理液滯留在該積液室的同時，經(jīng)由吐液流路從形成在 噴嘴體的下表面的吐出口流出。
但是，若采用這樣的結(jié)構(gòu)，處理液由供給管供給到積液室時， 存在處理液巻入空氣的情況。若處理液巻入空氣，則該空氣變成氣泡 與被供給到基板的處理液一起從吐出口流出。
與處理液一起流出到基板的氣泡有不破裂而殘留的情況，這時 基板的殘留了氣泡的部分變?yōu)槲锤街幚硪旱臓顟B(tài)或者附著量比其 他部分少的狀態(tài)，因此在利用處理液的基板處理中有發(fā)生不均的情 況。
因此，將處理液供給到基板時，進行去除包含在該處理液中的
氣泡的工序。在專利文獻2中示出使供給到基板的處理液中不含氣泡 的處理裝置。
在專利文獻2中所示的處理裝置帶有處理液吐出噴嘴。在該處 理液吐出噴嘴的框體的上表面連接有輸液管和排液管，在下表面形成 吐出孔。處理液由上述輸液管供給到形成在上述框體上的積液器中。 被供給到積液器的處理液由上述吐出孔向基板的上表面供給。
在積液器中發(fā)生、生長的氣泡利用浮力附著在積液器的頂棚面。 頂棚面成為向上述排液管傾斜增高的傾斜面。由此，在積液器中發(fā)生、 生長的氣泡與處理液一起流到上述輸液管中，因此防止由上述吐出孔 供給到上述基板的處理液中含有氣泡。
專利文獻1日本特開2003—170086號公報專利文獻2日本特開平11 — 156278號公報
專利文獻2所示的結(jié)構(gòu)使上述那樣含在處理液中的氣泡附著在 形成于框體的積液器的上表面，使該氣泡與處理液一起從上述排液管 中排出。
為此，必須在框體上連接排液管，使處理液與氣泡一起通過該 排液管從上述積液器中排出，因此存在招致結(jié)構(gòu)的復(fù)雜化，在處理所 排出的處理液上花費多的工夫和費用這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容
該發(fā)明提供一種基板的處理裝置，使被巻入處理液中的氣泡能 夠與處理液分離并確實地排出。
該發(fā)明是一種基板的處理裝置，利用由處理液供給構(gòu)件供給的 處理液來處理被搬運的基板的上表面，其特征在于，
上述處理液供給構(gòu)件具備
主貯液部，連接了供給上述處理液的給液管；
第1流出部，設(shè)置在該主貯液部的下端，使由上述給液管供給 到主貯液部并貯存的處理液流出；
輔助貯液部，貯留從該第l流出部流出的處理液；
第2流出部，設(shè)置在該輔助貯液部，將從上述第1流出部流出 到上述輔助貯液部的處理液供給到上述基板的上表面；以及
第1釋放部，與大氣連通設(shè)置在上述輔助貯液部，使從上述第l 流出部與處理液一起流出的氣泡釋放到大氣。
若采用該發(fā)明，即使處理液巻入氣泡，該處理液從主貯液部的 第1流出部流出到輔助貯液部并在此殘留的期間，包含在處理液中的 氣泡通過浮力上升并從與大氣連通的第1釋放部發(fā)散，因此能夠防止 由設(shè)置在上述輔助貯液部的第2流出部供給到基板的處理液中包含 氣泡。


圖1是沿著示出該發(fā)明的第1方式的處理裝置的寬度方向的縱
向剖面圖。
圖2是在上述處理裝置內(nèi)設(shè)置的處理液供給裝置的正視圖。 圖3是上述處理液供給裝置的橫向圖。 圖4是上述處理液供給裝置的放大縱向剖面圖。 圖5是沿著示出該發(fā)明的第2方式的處理裝置的寬度方向的縱 向剖面圖。
圖6是沿著示出該發(fā)明的第3方式的處理裝置的寬度方向的縱 向剖面圖。
符號說明
l腔室；31處理液供給裝置(處理液供給構(gòu)件)；
32主貯液部；33給液管；34接受部件
36、 36A流出孔(第l流出部)；38輔助貯液部
39傾斜面；44狹縫(第2流出部)
45第l空氣抽取管(第l釋放部)
51第2空氣抽取管(第2釋放部)
具體實施例方式
以下，參照附圖對該發(fā)明的實施方式進行說明。 圖1至圖4示出該發(fā)明的第1實施方式，圖1是沿著處理裝置 的寬度方向的縱向剖面圖。該處理裝置具備腔室l。該腔室l由上表 面開口的本體部2和可開閉該本體部2的上表面開口的蓋體部3構(gòu) 成。蓋體部3的寬度方向的一側(cè)通過鉸鏈4可轉(zhuǎn)動地連結(jié)在上述本體 部2上，寬度方向的另一側(cè)設(shè)置有未圖示的手柄。
在上述腔室1的本體部2的底部的寬度方向兩端部上設(shè)置支撐 部件11。在一對支撐部件11上可裝卸地設(shè)置有單元化的搬運裝置12。 該搬運裝置12具有放置在上述支撐部件11的上表面上的一對基底部
件13。 一對基底部件13通過多個例如3根連結(jié)部件14 (圖1中只示 出l根)連結(jié)。
在各基底部件13上沿著較長方向設(shè)置有支撐板15。在一對支撐 板15的對應(yīng)位置上按規(guī)定間隔設(shè)置軸承13。在對應(yīng)的一對軸承16 上支撐著旋轉(zhuǎn)自由的搬運軸17的兩端部?？傊谝粚撞考?3 上相對于與腔室1的寬度方向正交的較長方向按規(guī)定間隔設(shè)置多個 搬運軸17。
而且，雖未圖示，但在腔室l的較長方向一側(cè)壁上形成搬入口， 另一側(cè)上形成搬出口，由上述搬入口向腔室l內(nèi)供給在液晶顯示裝置 中使用的玻璃制的基板W。
各搬運軸17上按規(guī)定間隔設(shè)置多個搬運輥18。在上述連結(jié)部件 14的兩端部上設(shè)置導(dǎo)輥19，該導(dǎo)輥19對由上述搬入口供給并通過上 述搬運輥18如下述那樣被搬運的基板W的寬度方向的兩端部進行引 導(dǎo)。導(dǎo)輥19防止被搬運輥18搬運的基板W彎曲行進。
上述搬運軸17通過驅(qū)動機構(gòu)21被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。該驅(qū)動機構(gòu)21具 有驅(qū)動源22，該驅(qū)動源22的輸出軸23中嵌著驅(qū)動齒輪24。嵌在裝 配軸25上的從動齒輪26與該驅(qū)動齒輪24嚙合。在上述裝配軸25和 上述搬運軸17的端部設(shè)置有相互嚙合的齒輪(未圖示)。
由此，若上述驅(qū)動源22運轉(zhuǎn)，則上述搬運軸17被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動， 因此使得供給到上述腔室1內(nèi)的基板W被設(shè)置在上述搬運軸17上的 搬運輥18支撐并搬運。
在上述腔室1內(nèi)設(shè)置有處理液供給裝置31，該處理液供給裝置 31作為處理液L的供給構(gòu)件，將顯像液、蝕刻液、剝離液或者清洗 液等處理液L，沿著與基板W的搬運方向正交的寬度方向，直線狀地 供給到通過在上述搬運軸17上設(shè)置的搬運輥18以水平狀態(tài)搬運的基 板W的上表面。
上述處理液供給裝置31具有圖2至圖4所示的主貯液部32。該
主貯液部32沿著上述基板W的寬度方向、即腔室1的寬度方向形成 為細(xì)長的、剖面是矩形的箱型形狀。該主貯液部32的寬度尺寸設(shè)定 為比上述基板W的寬度尺寸還長，在上表面按規(guī)定間隔與將處理液L 供給到上述主貯液部32內(nèi)的多個給液管33的一端連接。各給液管 33的另一端通過同樣未圖示的流量控制閥連接到未圖示的處理液L 的供給源上。
在上述主貯液部32的內(nèi)部，與各給液管33相對的部分的高度 方向的中途部，大致水平地設(shè)置平板狀的接受部件34。該接受部件 34接受由上述給液管33供給到主貯液管32的處理液L。由此，由上 述給液管33供給到主貯液部32的處理液L靜靜地流入主貯液部32 內(nèi)，因此巻入到處理液L中的氣泡減少了。
在上述主貯液部32的底部壁32a上，對于較長方向按規(guī)定間隔 貫穿設(shè)置有形成第1流出部的多個流出孔36。由此，使得由上述給 液管33供給到主貯液部32的處理液L從上述流出孔36流出。
而且，設(shè)定由給液管33供給的處理液L的供給量和從流出孔36 流出的流出量，使得由給液管33供給的處理液L充滿上述主忙液部 32。
由上述流出孔36流出的處理液L貯留在輔助貯液部38中。如 圖4所示，該輔助貯液部38的剖面形狀是漏斗狀，由如下形成V 字狀的底部壁41，沿著上述主貯液部32的寬度方向形成傾斜的一對 傾斜面39a、 39b;側(cè)部壁42，與上述主貯液部32的側(cè)面平行且分離 相對地豎立設(shè)置在該底部壁41的一方的傾斜面39a側(cè)的上端；以及 上部壁43，設(shè)置在該側(cè)部壁42的上端，關(guān)閉輔助貯液部38的上表 面開口。
上述底部壁41的另一方的傾斜面39b的上端部與在上述主貯液 部32的下表面開口的流出孔36相對。在該傾斜面39b的下端、即底 部壁41的最下端，跨較長方向的大致整個全長，開口形成作為第2
流出部的狹縫44。
被供給到卜述豐6^液部"并從上述流出孔36流出到上述傾斜 面39b的上端部的處理液L，沿著該傾斜面39b流動并貯留在漏斗狀 的底部壁41中，從在該底部壁41上形成的狹縫44成為直線狀地流 出。由此，跨與按規(guī)定方向搬運的基板W的搬運方向相交叉的寬度方 向的整個全長，供給處理液L。
而且，設(shè)定上述流出孔36和狹縫44的面積的同時，控制從給 液管33向主貯液部32供給的處理液L的供給量，以使得處理液L在 上述輔助貯液部38的底部壁41中貯留一定量。BP，使得從主貯液部 32流出到輔助貯液部38中的處理液L不直接從狹縫44向基板W的 上表面流出，而在輔助貯液部38中滯留規(guī)定時間后從上述狹縫44流 出。
從主貯液部32的流出孔36流出的處理液L沿著輔助貯液部38 的傾斜面39b流下。為此，若從上述流出孔36流出的處理液L中巻 入氣泡，則該氣泡在處理液L沿傾斜面39b流動的期間，通過其浮力 從處理液L中分離并上升。
進而，流經(jīng)傾斜面3%的處理液L在輔助貯液部38的底部壁41 上貯留后從狹縫44流出。為此，即使氣泡在貯留的處理液L中殘留， 在處理液L從狹縫44流出之前，包含在處理液L中的氣泡會分離上 升。
而且，通過處理液L貯留在輔助貯液部38中，處理液L沿基板 W的寬度方向從細(xì)長的狹縫44向基板W均勻地流出。由此，能夠均 勻地進行對基板W的整個上表面的處理。
在上述輔助貯液部38的上部壁43上連接第1空氣抽取管45， 該第1空氣抽取管45作為第1釋放部，用于釋放從處理液L分離在 該輔助貯液部38內(nèi)上升的氣泡。由此，使得從處理液L分離的氣泡 通過上述第1空氣抽取管45發(fā)散到大氣。
而且，如圖1所示，第1空氣抽取管45設(shè)置在輔助貯液部38 的較長方向的兩端部。
薦采用這樣結(jié)構(gòu)的處理裝置，供給到腔室1內(nèi)的基板W按規(guī)定 方向在腔室1內(nèi)被搬運。在搬運的途中，由處理液供給裝置31沿著 與基板W的搬運方向相交叉的寬度方向，將處理液供給到基板W的上 表面。由此，基板W通過處理液L處理并從腔室1搬出。
上述處理液供給裝置31具有主貯液部32。使通過給液管33供 給到該主貯液部32中的處理液L,不直接從給液管33落到主jJC液部 32內(nèi)，而使用與給液管33相對而設(shè)置的接受部件34接受后落下。 由此，處理液L靜靜地流入主貯液部32內(nèi)，因此流入時處理液L巻 入氣泡的量也減少了。
如圖4中箭頭A所示，在上述主貯液部32中貯留的處理液L， 從在主貯液部32的下表面形成的流出孔36，沿著在輔助貯液部38 的底部壁41形成的傾斜面39b流下，在輔助貯液部38的漏斗狀的底 部壁41中貯留后，從在上述傾斜面39b的下端設(shè)置的狹縫44流出， 供給到在腔室1內(nèi)搬運的基板W的上表面。
若從上述主貯液部32的流出孔36流出的處理液L中含有氣泡， 則該氣泡會在處理液L從流出孔36沿著傾斜面39b流動時從處理液 L中分離上升，在流經(jīng)傾斜面39b直至從狹縫44流出的期間，即處 理液L在輔助貯液部38的底部壁41上貯留的期間，未從處理液L中 被去除的氣泡通過浮力從處理液L中分離上升。
然后，從處理液L中分離的氣泡由第1空氣抽取管45發(fā)散到大 氣中，因此在由上述輔助貯液部38的狹縫44供給到基板W的處理液 L中不含氣泡。因此，通過處理液L，基板W的整個上表面被均勻地 處理。
艮P，若采用上述結(jié)構(gòu)的處理液供給裝置31，則由于使供給到主 貯液部32中的處理液L在輔助貯液部38中貯留后供給到基板W上，
因此處理液L中含有的氣泡在處理液L從主貯液部32流到輔助IC液 部38時，以及在輔助貯液部38中貯留的期間，通過浮力從處理液中 分離上升，通過第1空氣抽取管45釋放到大氣中。
為此，使氣泡不像以往那樣與處理液L 一起排出，而能夠?qū)?泡從處理液L中分離并釋放到大氣中，因此能夠用簡單的結(jié)構(gòu)確實地 從處理液L中去除氣泡。
圖5示出該發(fā)明的第2實施方式的處理液供給裝置31A。在該實 施方式的處理液供給裝置31A中，在上述主貯液部32的側(cè)壁部32b 的下端部形成流出孔36A作為第1流出部，用于將供給到主貯液部 32中的處理液流出到輔助貯液部38中。
如箭頭A所示，從上述流出孔36A流出的處理液L流入形成在 上述主貯液部32的側(cè)壁部32b的外面的輔助貯液部38中，在此，臨 時貯存后，從在輔助貯液部38的底部壁41上形成的狹縫44按規(guī)定 方向供給到搬運的基板W的上表面。
在上述輔助貯液部38的上部壁43上連接作為第1釋放部的第1 空氣抽取管45，在上述主貯液部32的側(cè)壁部的上部連接構(gòu)成第2釋 放部的第2空氣抽取管51的一端。在該第2空氣抽取管51的中途部 設(shè)置開閉閥52，另一端部的前端面51a彎曲成L形狀，以便還高于 在主貯液部32中貯存的處理液L的上表面。
若將上述開閉閥52開放，就抽出在供給到上述主貯液部32的 處理液中含有的氣泡，則該氣泡不會積存在主貯液部32內(nèi)的上部， 而從上述第2空氣抽取管51從外部排出。
若采用上述結(jié)構(gòu)的處理液裝置31A,則在上述主貯液部32的側(cè) 壁部32b上形成流出孔36A,該流出孔36A使供給到主貯液部32中 的處理液L流出到輔助貯液部38中。
為此，由于上述流出孔36A朝向相對于供給處理液L到主忙液 部32的給液管33的垂直方向而正交的方向，因此從上述流出孔36A
流到輔助貯液部38的處理液L很難受到由上述給液管33供給到主貯 液部32的處理液L的壓力影響。
因此，由于從主貯液部32經(jīng)過上述流出孔36A流到輔助貯液部 38的處理液L的流量很難變動，所以由輔助貯液部38的狹縫44供 給到基板W的處理液L的流出量也穩(wěn)定，因此能夠通過處理液L穩(wěn)定 地進行基板W的處理。
圖6示出該發(fā)明的第3實施方式的處理液供給裝置31B。該實施 方式是第2實施方式的變形例，在形成輔助貯液部38的底部壁41的 一對傾斜面39a、 39b中，位于主貯液部32側(cè)的一方的傾斜面39b比 另一方的傾斜面39a還向下方突出。
因此，從狹縫44流出的處理液L由一方的傾斜面39b引導(dǎo)而靜 靜地供給到基板W的上表面。即能夠防止供給到基板W的上表面的處 理液L，在混亂而巻入空氣、含有氣泡的狀態(tài)下被供給到基板W的上 表面，因此，采用該方法能夠確實且均勻地進行基板W的處理。
而且，在圖5和圖6所示的第2、第3的實施方式中，對與第l 實施方式相同的部分付與相同的記號并省略說明。
在上述各實施方式中，作為第l、第2流出部是在主貯液部形成 流出？L、在輔助貯液部形成狹縫，但各流出部無論是流出孔還是狹縫 都無妨。
為了從輔助貯液部將氣泡釋放到大氣，在該輔助貯液部上連接 第1空氣抽取管，但也可以不連接第1空氣抽取管，只形成空氣抽取 孔。
權(quán)利要求
1.一種基板的處理裝置，利用由處理液供給構(gòu)件供給的處理液來處理被搬運的基板的上表面，其特征在于，上述處理液供給構(gòu)件具備主貯液部，連接了供給上述處理液的給液管；第1流出部，設(shè)置在該主貯液部的下端，使由上述給液管供給到主貯液部并貯存的處理液流出；輔助貯液部，貯留從該第1流出部流出的處理液；第2流出部，設(shè)置在該輔助貯液部，將從上述第1流出部流出到上述輔助貯液部的處理液供給到上述基板的上表面；以及第1釋放部，與大氣連通設(shè)置在上述輔助貯液部，使從上述第1流出部與處理液一起流出的氣泡釋放到大氣。
2. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述第 1流出部形成在上述主貯液部的底部壁。
3. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述第 1流出部形成在上述主貯液部的側(cè)部壁。
4. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，在上述 主貯液部形成第2釋放部，該第2釋放部使由上述給液管與處理液一 起供給到上述主貯液部的氣泡釋放到大氣。
5. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，是如下 結(jié)構(gòu)從上述主貯液部的第1流出部流到上述輔助貯液部的處理液， 在該輔助貯液部中臨時貯存之后，從輔助貯液部的第2流出部流出。
6. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，在上述主貯液部設(shè)置接受由上述給液管供給的處理液的接受部件。
7. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述第 2流出部是沿著與上述基板的搬運方向相交叉的方向形成的狹縫。
8. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，在上述 輔助貯液部上形成接受從上述第1流出部流出的處理液的傾斜面，在該傾斜面的下端設(shè)置上述第2流出部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種處理裝置，能夠?qū)⒉缓瑲馀莸奶幚硪汗┙o到基板上。本發(fā)明處理裝置，利用由處理液供給裝置供給的處理液來處理被搬運的基板的上表面，其特征在于，處理液供給裝置(31)具備主貯液部(32)，連接了供給處理液的給液管(33)；流出孔(36)，設(shè)置在主貯液部的下端，使由給液管供給到主貯液部并貯存的處理液流出；輔助貯液部(38)，貯留從流出孔流出的處理液；狹縫(44)，設(shè)置在輔助貯液部上，將從流出孔流出到輔助貯液部的處理液供給到基板的上表面；第1空氣抽取管(45)，連通到大氣地設(shè)置在輔助貯液部，使從流出孔與處理液一起流出的氣泡釋放到大氣。
文檔編號G02F1/13GK101114575SQ20071013698
公開日2008年1月30日 申請日期2007年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月26日
發(fā)明者今岡裕一, 西部幸伸 申請人:芝浦機械電子株式會社