專利名稱：復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造方法與設(shè)備、復(fù)制原盤及制造設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造方法、復(fù)制原盤的制造設(shè)備、復(fù)制 全息記錄介質(zhì)的制造設(shè)備以及復(fù)制原盤。
背景技術(shù)：
近年來，全息存儲器作為一種數(shù)據(jù)存儲裝置已經(jīng)引起人們的關(guān)注，其能 夠取得大的記錄密度，并且能夠高傳輸速率地記錄和再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)。在全息 存儲器中，還利用記錄介質(zhì)的厚度方向，在記錄時，基于作為頁單元的對應(yīng)
于具有二維信息的記錄數(shù)據(jù)的頁數(shù)據(jù)，基準(zhǔn)光束(reference beam )和信號光 束之間的干涉條紋(interference fringe )在全息記錄介質(zhì)中形成為全息圖， 因此以三維方式同時執(zhí)行記錄。此外，在再現(xiàn)時，獲得向這樣形成的全息圖 照射基準(zhǔn)光束時產(chǎn)生的衍射光束，因此再現(xiàn)了記錄數(shù)據(jù)(見日本未審查專利 申請公開號2004-226821和Nikkei Electronics, 2005年1月17日，106-114頁)。
另一方面，現(xiàn)在廣泛使用基于CD (緊湊光盤)格式或者DVD (數(shù)字通 用光盤)格式的數(shù)據(jù)存儲裝置。在這些技術(shù)中，不僅允許對介質(zhì)附加寫入或 者重新寫入的記錄介質(zhì)，而且可大量復(fù)制以分發(fā)的ROM介質(zhì)(只讀介質(zhì)) 如CD-ROM和DVD-ROM,都被廣泛使用。在CD-ROM或DVD-ROM中， 所采用了一種方法，其中制備用于復(fù)制的初始光盤，即原盤(master disk), 或者由該原盤進(jìn)一步制備母盤(mother disk),并且以該原盤或母盤作為初始 光盤，將樹脂倒入由該初始光盤制成的模具中以完成成型，由此大量制造作 為初始光盤復(fù)制品的CD-ROM或DVD-ROM。
對于全息記錄介質(zhì)，像上述CD-ROM或DVD-ROM,已經(jīng)考慮了其中 形成有相同形狀的全息圖的全息記錄介質(zhì)的大量復(fù)制。這樣的技術(shù)揭示于國 際公開WO 2005/038789A1中。國際公開WO 2005/038789A1揭示了在光學(xué) 信息記錄介質(zhì)中記錄光學(xué)信息的方法，該光學(xué)信息記錄介質(zhì)將作為用于大量 復(fù)制其上已經(jīng)記錄了全息圖的全息記錄介質(zhì)的底版(original),以及揭示了 使用這樣的光學(xué)記錄信息介質(zhì)作為底版在另外的光學(xué)記錄信息介質(zhì)中記錄
光學(xué)信息的方法。這種技術(shù)的關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn)是對于大量復(fù)制光學(xué)記錄信息介質(zhì) 如何能夠高速記錄。
根據(jù)國際公開WO 2005/038789A1,就上述關(guān)鍵點(diǎn)而言，采用了下面的 方法作為在用于復(fù)制的底版的光學(xué)信息記錄介質(zhì)中記錄光學(xué)信息的方法。 即，產(chǎn)生包括載有信息的信息光束和記錄基準(zhǔn)光束的虛擬信息光束，并且該 虛擬信息光束和虛擬記錄基準(zhǔn)光束被照射到光學(xué)信息記錄介質(zhì)。此外，至于 在復(fù)制光學(xué)信息記錄介質(zhì)中記錄光學(xué)信息的方法，描述了這樣的技術(shù)，其中 虛擬重建基準(zhǔn)光束被照射到作為底版的光學(xué)信息記錄介質(zhì)，從用作底版的光 學(xué)信息記錄介質(zhì)產(chǎn)生的虛擬信息光束被照射到光學(xué)信息記錄介質(zhì)，并且揭示 了這樣的技術(shù)，其中采用大光圈(aperture)物鏡，將虛擬信息光束同時照射 到光學(xué)信息記錄介質(zhì)。
此夕卜，在Holographic Data Storage中的R Mok "Holographic Read-Only Memory (全息只讀存儲器)，，，H丄Coufal、 D.Psaltis和G.Sincerbox, eds.， (Springer-Verlag， New York, 2000)上，揭示了復(fù)制復(fù)制品的技術(shù)，其中將原 盤(初始光盤)和復(fù)制品(復(fù)制光盤)彼此相鄰設(shè)置，并且使得重建基準(zhǔn)光 束和復(fù)制品轉(zhuǎn)換基準(zhǔn)光束成為共同的。

發(fā)明內(nèi)容
在國際公開WO 2005/038789A1所揭示的光學(xué)信息記錄方法中，當(dāng)高速 對大量的復(fù)制光學(xué)記錄信息介質(zhì)進(jìn)行記錄時，要求根據(jù)復(fù)制光學(xué)記錄信息介 質(zhì)的大小要求放大物鏡的直徑。然而，制造高分辨率大光圈物鏡是極其困難 的，因此大直徑物鏡由此而昂貴。因?yàn)檫@些原因，采用上述光學(xué)信息記錄方 法存在困難。因此希望提供用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的復(fù)制原盤的設(shè)備、 用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備和復(fù)制原盤，其能夠使用比相關(guān)技術(shù)更便 宜的制造設(shè)備來高速制造復(fù)制光學(xué)記錄信息介質(zhì)。此外，還希望提供一種制 造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法，其比相關(guān)技術(shù)簡單而又能夠高速制造。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，用來在復(fù)制全息 記錄介質(zhì)上復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，其包括光束分裂器，將來自激光 源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束；空間光調(diào)制器，對同軸光束 進(jìn)行空間光調(diào)制來產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù) 的信號光束同軸設(shè)置；聚光裝置，用于將調(diào)制同軸光束聚光到復(fù)制原盤的記
錄層上，同時預(yù)先校正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差；和全息 圖形成位置移動裝置，用于移動記錄層的位置，在該記錄層中由于原盤制造 基準(zhǔn)光束和調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全息圖。
在上述的用于制造復(fù)制原盤的設(shè)備中，光束分裂器將來自激光源的光束 分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束。空間光調(diào)制器對同軸光束進(jìn)行空間光 調(diào)制來產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束 同軸i殳置。聚光裝置將調(diào)制同軸光束聚光到復(fù)制原盤的記錄層上，同時預(yù)先 校正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差。全息圖形成位置移動裝置 移動記錄層的位置，在該記錄層中由于原盤制造基準(zhǔn)光束和調(diào)制同軸光束之 間的干涉而形成全息圖。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，該原盤用來在復(fù)
制全息記錄介質(zhì)上復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，該設(shè)備包括光束分裂器， 將來自激光源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束；空間光調(diào)制器， 對同軸光束進(jìn)行空間光調(diào)制來產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng) 于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同軸設(shè)置；聚光裝置，用于將調(diào)制同軸光束聚光到復(fù) 制原盤的記錄層上；和全息圖形成位置移動裝置，用于移動記錄層的位置， 在該記錄層中由于原盤制造基準(zhǔn)光束和調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全 息圖。復(fù)制原盤具有其中記錄全息圖的記錄層和偏振依賴角選擇膜 (polarization-dependent angle selective film )， 該偏振依賴角選4奪月莫構(gòu)造成對 于預(yù)定的偏振方向光束具有足以形成全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，并且
射率。將在預(yù)定偏振方向上偏振的該原盤制造基準(zhǔn)光束和調(diào)制同軸光束照射 到上述的復(fù)制原盤。
在上述用于制造復(fù)制原盤的設(shè)備中，光束分裂器將來自激光源的光束分 裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束。空間光調(diào)制器對同軸光束進(jìn)行空間光調(diào) 制來產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同 軸設(shè)置。聚光裝置將調(diào)制同軸光束聚光到復(fù)制原盤的記錄層上。全息圖形成 位置移動裝置移動記錄層的位置，在該記錄層中由于原盤制造基準(zhǔn)光束和調(diào) 制同軸光束之間的干涉而形成全息圖。此外，用于記錄全息圖的復(fù)制原盤具 有記錄層和偏振依賴角選擇膜。在此，該偏振依賴角選擇膜具有這樣的特性， 該偏振依賴角選擇膜對于預(yù)定的偏振方向的光束具有足以形成全息圖的透
射率而與入射角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束具有根 據(jù)光束入射角而變化的透射率。將在預(yù)定偏振方向上偏振的該原盤制造基準(zhǔn) 光束和調(diào)制同軸光束照射到上述的復(fù)制原盤，由此在該復(fù)制原盤上形成全息圖。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將載 有記錄數(shù)據(jù)并且形成在復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，其
包括定位裝置，用于以預(yù)定的相對位置設(shè)置復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)； 角選擇板，設(shè)置在復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，該角選擇板具有角選 擇膜，其透射率根據(jù)光束的入射角而變化；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置， 用于產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入射角照射該復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得復(fù) 制基準(zhǔn)光束傳輸通過復(fù)制原盤記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由角選4奪膜反射。
在上述用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備中，定位裝置以預(yù)定的相對位 置設(shè)置復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)。角選擇板設(shè)置在復(fù)制原盤和復(fù)制全息 記錄介質(zhì)之間，并且具有角選擇膜，該角選擇膜的透射率根據(jù)光束的入射角 而變化。復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入 射角照射該復(fù)制基準(zhǔn)光束，該入射角4吏得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳輸通過復(fù)制原盤記 錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由角選擇膜反射。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供了一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將 載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上， 其包括定位裝置，用于以預(yù)定的相對位置設(shè)置復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介 質(zhì)；偏振依賴角選擇板，設(shè)置在復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，并且具 有偏振依賴角選擇膜，該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于預(yù)定偏振方向的光束 具有足以在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，并且
射率；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置，用于產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這 樣的入射角照射偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束，使得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳 輸通過復(fù)制原盤記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由偏振依賴角選擇膜反射。
在上述制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備中，定位裝置以預(yù)定的相對位置設(shè) 置復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)。偏振依賴角選褲，板設(shè)置在復(fù)制原盤和復(fù)制 全息記錄介質(zhì)之間。此外，偏振依賴角選擇板具有偏振依賴角選擇膜，其構(gòu) 造成對于預(yù)定偏振方向的光束具有足以在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖
的透射率而與入射角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束具 有根據(jù)光束入射角而變化的透射率。復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置產(chǎn)生復(fù)制 基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入射角照射偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束， 使得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳輸通過復(fù)制原盤記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由偏振依賴角 選擇膜反射。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種盤狀復(fù)制原盤，用來在復(fù)制全息記錄介
質(zhì)上復(fù)制載有記錄邀:據(jù)的全息圖，其包括記錄層，其中已經(jīng)形成有全息圖； 和偏振依賴角選擇膜，構(gòu)造成對于預(yù)定偏振方向的光束具有足以形成全息圖 的透射率而與入射角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束具 有根據(jù)光束入射角而變化的透射率。
在根據(jù)上述實(shí)施例的復(fù)制原盤中，全息圖形成在記錄層中。偏振依賴角 選擇膜對于預(yù)定偏振方向的光束具有足以形成全息圖的透射率而與入射角
變化的透射率。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法，其中載 有記錄數(shù)據(jù)并且形成在復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該 方法包括以下步驟在復(fù)制原盤的記錄層和復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層之間 設(shè)置角選擇膜，該角選擇膜構(gòu)造成具有根據(jù)光束入射角而變化的透射率；并 且以這樣的入射角照射復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳輸通過已經(jīng)形成 有全息圖的復(fù)制原盤的記錄層，并且由角選擇膜反射。
在根據(jù)上述實(shí)施例的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法中，角選擇膜的透射 率根據(jù)光束的入射角而變化，并設(shè)置在復(fù)制原盤的記錄層和復(fù)制全息記錄介 質(zhì)的記錄層之間。復(fù)制基準(zhǔn)光束以這樣的入射角照射，該入射角使得復(fù)制基 準(zhǔn)光束傳輸通過形成有全息圖的復(fù)制原盤的記錄層，并且由角選擇膜反射。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，提供一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法，其中載 有記錄數(shù)據(jù)并且形成在復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該 方法包括下面的步驟在復(fù)制原盤的記錄層和復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層之 間設(shè)置偏振依賴角選擇膜，該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于預(yù)定偏振方向的 光束具有足以在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，
的透射率；并且以這樣的入射角照射偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的復(fù)制基
準(zhǔn)光束，使得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳輸通過已經(jīng)形成有全息圖的復(fù)制原盤的記錄 層，并且由偏振依賴角選擇膜反射。
在根據(jù)上述實(shí)施例的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法中，偏振依賴角選擇 膜對于預(yù)定偏振方向的光束具有足以在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖的 透射率而與入射角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于預(yù)定偏振方向的光束具有 才艮據(jù)光束入射角而變化的透射率，并且該偏振依賴角選擇膜設(shè)置在復(fù)制原盤 的記錄層和復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層之間。并且偏振方向不同于預(yù)定偏振 方向的復(fù)制基準(zhǔn)光束以這樣的入射角照射，使得復(fù)制基準(zhǔn)光束傳輸通過形成 有全息圖的復(fù)制原盤的記錄層，并且由偏振依賴角選擇膜反射。
本發(fā)明可以提供一種用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的復(fù)制原盤的設(shè)備、一 種用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備和一種復(fù)制原盤，其能夠采用便宜的制 造設(shè)備高速制造復(fù)制光學(xué)記錄信息介質(zhì)，并且還可以提供一種制造復(fù)制全息 記錄介質(zhì)的方法，其簡單而又能夠高速制造。


圖1是同軸型全息記錄設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分的概念圖； 圖2是示出空間光調(diào)制器的基準(zhǔn)光束空間光調(diào)制部分和信號光束空間光 調(diào)制部分的示意圖3是示意性示出信號光束和基準(zhǔn)光束的示意圖4是作為復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分的概念圖5是圖4的局部放大圖6是作為復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分的概念圖7是示出從復(fù)制原盤前側(cè)面所見的全息形成區(qū)域與原盤制造基準(zhǔn)光束
之間關(guān)系的示意圖8A至8D是示出復(fù)制原盤不同轉(zhuǎn)角位置所記錄的全息圖與主制造基
準(zhǔn)光束之間關(guān)系的示意圖9是作為復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分的概念圖IOA至IOD是示出復(fù)制原盤不同轉(zhuǎn)角位置所記錄的全息圖與原盤制
造基準(zhǔn)光束之間關(guān)系示意圖11是作為復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分的概念圖12是圖示使用復(fù)制原盤制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的技術(shù)原理的示意圖13是示出角選擇膜的特性的圖線；
圖14是復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備的概念圖15是從上面所見的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的透視圖，圖示了形成為光點(diǎn) 的復(fù)制基準(zhǔn)光束；
圖16是復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備的概念圖17是從上面所見的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的透視圖，圖示了形成為光帶 的復(fù)制基準(zhǔn)光束；
圖18是復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備的概念圖19是從上面所見的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的透視圖，圖示了二維放大的 復(fù)制基準(zhǔn)光束；
圖20是局部放大圖，示出了圖4所示光學(xué)部分的復(fù)制原盤被具有偏振
依賴角選擇膜的復(fù)制原盤所代替；
圖21是示出偏振依賴角選擇膜的特性的圖線；
圖22是復(fù)制全息記錄介質(zhì)的全息形成區(qū)域的局部放大圖23是當(dāng)在不同的聚光位置聚光衍射光束時復(fù)制全息記錄介質(zhì)的全息
形成區(qū)域的局部放大圖24A至24C是示出復(fù)制全息記錄介質(zhì)反射層的制造工藝的示意和
圖25是當(dāng)在不同的聚光位置聚光調(diào)制同軸光束時復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 全息形成區(qū)域的局部放大圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在依次描述本發(fā)明的實(shí)施例。首先，在描述實(shí)施例之前，先簡單描述 具有同軸光學(xué)系統(tǒng)的同軸型全息記錄和再現(xiàn)設(shè)備。該全息記錄和再現(xiàn)設(shè)備是 這樣的設(shè)備，其將對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的全息圖記錄在全息記錄介質(zhì)上，并且從 全息記錄介質(zhì)的載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)。接下來，隨著實(shí)施例 的描述，將描述全息記錄介質(zhì)的復(fù)制原盤的制造設(shè)備和方法，以及適于用于 該設(shè)備和方法的復(fù)制原盤。此外，將描述采用該復(fù)制原盤的復(fù)制全息記錄介 質(zhì)的制造設(shè)備和復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造方法。最后，將描述這些實(shí)施例的 幾個變體。盡管下面將詳細(xì)描述術(shù)語"復(fù)制全息記錄介質(zhì)"，但是，簡言之， 復(fù)制全息記錄介質(zhì)指的是其上已經(jīng)復(fù)制了載有復(fù)制原盤的記錄數(shù)據(jù)的全息
圖的全息記錄介質(zhì)，該全息記錄介質(zhì)的示例包括僅作為ROM (只讀存儲器) 的全息記錄介質(zhì)和在ROM區(qū)域之外還具有允許附加寫入的區(qū)域的全息記錄介質(zhì)。
(同軸型全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備)
在同軸型全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備中，同軸設(shè)置后面將描述的信號光束和基 準(zhǔn)光束，并且由于這樣的設(shè)置，至少一些構(gòu)成信號光束通過的光路和基準(zhǔn)光 束通過的光路的光學(xué)件可以公用。因?yàn)檫@樣的構(gòu)造，可以執(zhí)行對包括復(fù)制全 息記錄介質(zhì)的全息記錄介質(zhì)的記錄和從其的再現(xiàn)，所以可以簡化全息記錄與 再現(xiàn)設(shè)備(下文中也簡稱為記錄與再現(xiàn)設(shè)備)的光學(xué)部分。這樣的同軸型全 息記錄與再現(xiàn)設(shè)備作為具有未來前景的記錄與再現(xiàn)設(shè)備已經(jīng)引起了人們的 關(guān)注，這是因?yàn)槠湎鄬θ菀妆ＷC與現(xiàn)有光盤如CD和DVD的兼容性。
圖1是作為同軸型全息記錄設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分10的概念圖。 光學(xué)部分10包括作為其主要光學(xué)件的激光源20、偏振光束分裂器22、由液 晶等形成的空間光調(diào)制器23、傅立葉(Fourier )變換透鏡24、可變光圈(iris) 25、傅立葉變換透鏡26、 1/4波板27和物鏡28。在這種情況，激光源20具 有單模激光器、變形棱鏡(anamorphic prism )、功率監(jiān)視器、隔離器、光閘 (shutter)和空間濾波器(均未示出)。
激光源20的單模激光器例如是外部諧振器型激光器，并且發(fā)射單模光 束。當(dāng)光束通過變形棱鏡時，光束的束外形被成形，當(dāng)光束通過功率監(jiān)視器 時光束強(qiáng)度被測量，當(dāng)光束通過隔離器時到單模激光器的返回光被阻擋，當(dāng) 光束通過光閘時根據(jù)光閘的開(ON)或關(guān)(OFF)來進(jìn)行光束是否通過后續(xù) 光學(xué)件的控制，并且當(dāng)光束通過空間濾波器時來校正其光程差(aberration )。 因此所產(chǎn)生的光束具有良好的波長特性。
此外，光束通過下述由圖1所示光學(xué)件所形成的光路。光束被偏振光束 分裂器22反射并且照射到空間光調(diào)制器23。然后，已經(jīng)根據(jù)空間光調(diào)制器 23上所顯示的圖案被調(diào)制的光束被反射。被空間光調(diào)制器23反射時，光束 的偏振方向改變n/2。對此，空間光調(diào)制器23具有兩個光束反射區(qū)域，包括 基于記錄數(shù)據(jù)顯示信號光束圖案的信號光束空間光調(diào)制部分和顯示基準(zhǔn)光 束圖案的基準(zhǔn)光束空間光調(diào)制部分。
例如，如圖2所示，中空環(huán)形基準(zhǔn)光束空間光調(diào)制部分31a和圓形信號 光束空間光調(diào)制部分31b分別同軸形成在空間光調(diào)制器23的內(nèi)、外周邊部
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分中。如圖3示意性所示，被這些反射區(qū)域反射的光束，作為具有相同中心
線并且同軸設(shè)置的信號光束103b和基準(zhǔn)光束103a，通過傅立葉變換透鏡24、 可變光圈25、傅立葉變換透鏡26、 1/4波板27和物鏡28，該中心線與光學(xué) 件的光軸相一致。也就是說，通過公用光路，信號光束和基準(zhǔn)光束入射在用 來記錄與再現(xiàn)的標(biāo)準(zhǔn)全息記錄介質(zhì)50上。
這里，標(biāo)準(zhǔn)全息記錄介質(zhì)50指可讀和可寫介質(zhì)，其與ROM的功能不同， 不同于稍候?qū)⒚枋龅氖褂酶鶕?jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造設(shè)備與制造方法所制造 的復(fù)制全息記錄介質(zhì)。全息記錄介質(zhì)50具有支撐基板50c、記錄層50a、支 撐基板50b、反射層50d和保護(hù)層50e。每個支撐基板50c和支撐基板50b 由傳輸光束的材料形成，如玻璃或聚碳酸酯。記錄層50a例如由光敏聚合物 形成。反射層50d例如由鋁形成，而保護(hù)層50e例如由樹脂形成。應(yīng)該注意， 稍后將要描述的復(fù)制全息記錄介質(zhì)與上面描述的全息記錄介質(zhì)50具有讀/寫 兼容性。
如圖3所示，信號光束103b和基準(zhǔn)光束103a之間的干涉主要發(fā)生在靠 近傅立葉區(qū)域(Fraunhofer region,弗勞恩霍夫區(qū)域)的范圍內(nèi)，并且由光敏 聚合物等形成的記錄層50a設(shè)置在這個區(qū)域中。記錄層50a中的單體根據(jù)該 干涉模式轉(zhuǎn)變成聚合物，在很小的區(qū)域中引起折射率的改變，并且記錄數(shù)據(jù) 被記錄為對應(yīng)于所產(chǎn)生折射率圖案的衍射光柵(全息圖)。這里，傅立葉變 換透鏡24用來創(chuàng)建傅立葉圖像形成表面，可變光圈25用來阻擋傅立葉圖像 形成表面的過多的光，傅立葉變換透鏡26用來再一次創(chuàng)建實(shí)像形成表面， 1/4波板27用來將線性偏振光轉(zhuǎn)變成圓偏振光，而物鏡28用來將信號光束 和基準(zhǔn)光束聚光到記錄層50a的預(yù)定區(qū)域。
接下來，再次參照圖1,將描述作為同軸型全息再現(xiàn)設(shè)備主要部分的光 學(xué)部分IO。除了上面所述的激光源20、偏振光束分裂器22、空間光調(diào)制器 23、傅立葉變換透鏡24、可變光圏25、傅立葉變換透鏡26、 1/4波板27和 物鏡28以外，同軸型全息再現(xiàn)設(shè)備包括圖像傳感器29,如CCD (電荷耦合 器件)或COS。
在再現(xiàn)時，只有基準(zhǔn)光束圖案顯示在空間光調(diào)制器23的基準(zhǔn)光束空間 光調(diào)制部分上，并且全黑圖案(阻擋光束反射的圖案)顯示在信號光束空間 光調(diào)制部分31b (見圖2)。然后，在記錄的情況下，來自激光源20的光束 被偏振光束分裂器22反射，并且再次被空間光調(diào)制器23反射。然后，如上
所述，在僅由基準(zhǔn)光束空間光調(diào)制部分31a進(jìn)行光調(diào)制后被反射的光束通過 傅立葉變換透鏡24、可變光圏25、傅立葉變換透鏡26、 1/4波板27和物鏡 28，并且入射在全息記錄介質(zhì)50的記錄層50a上。
這時，產(chǎn)生并且由反射層50d反射對應(yīng)于由于該基準(zhǔn)光束而形成在記錄 層50a中的全息圖的重建(reconstruction)光束(衍射光束)。該重建光束依 次通過各光學(xué)件物鏡28、 1/4波板27、傅立葉變換透鏡26、可變光圈25和 傅立葉變換透鏡24，并且被1/4波板27將偏振方向變化n/2而變成線性偏 振光。通過偏振光束分裂器22的作用已經(jīng)改變光束傳播方向的重建光束被 照射到圖像傳感器29。從圖像傳感器29獲得的電信號是對應(yīng)于全息圖的形 狀的信號，即記錄數(shù)據(jù)。因此，在控制部分(未示出)中，記錄數(shù)據(jù)可以從 該電信號再現(xiàn)。
這里，在同軸型全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備(能夠進(jìn)行記錄和再現(xiàn)的設(shè)備)中， 光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造成包括所有與記錄操作有關(guān)的上述光學(xué)件和所有與再現(xiàn)操作 有關(guān)的上述光學(xué)件。此外，同軸型全息記錄設(shè)備只包括與記錄操作有關(guān)的上 述光學(xué)件，而同軸型全息再現(xiàn)設(shè)備只包括與再現(xiàn)操作有關(guān)的上述光學(xué)件。
(關(guān)于制造用于復(fù)制全息記錄介質(zhì)的復(fù)制原盤的設(shè)備和方法，以及復(fù)制
原盤)
參照圖4、 5、 6、 9和11，下面將描述用于制造原盤的設(shè)備(下文簡稱 復(fù)制原盤制造設(shè)備)的主要部分，該設(shè)備用于制造生產(chǎn)復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 原盤(下文簡稱復(fù)制原盤)，該原盤能夠通過具有圖1所示光學(xué)部分10的全 息再現(xiàn)設(shè)備再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)，或者能夠在復(fù)制全息記錄介質(zhì)具有允許附加寫入 區(qū)域的情況下附加寫入(記錄)和再現(xiàn)。此外，將參照圖7、 8A至8D和10A 至IOD來描述復(fù)制原盤制造設(shè)備的操作。圖4至8D是圖示根據(jù)本發(fā)明第一 實(shí)施例用于制造復(fù)制原盤方法的示意圖，而圖9至11是圖示根據(jù)本發(fā)明第 二實(shí)施例用于制造復(fù)制原盤方法的示意圖。在下面的描述中，形成全息圖之 前的未記錄復(fù)制原盤，或其上全息圖部分形成而沒有形成在所有計劃區(qū)域 (預(yù)定區(qū)域)的復(fù)制原盤被表示為復(fù)制原盤60A，根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制原 盤表示為復(fù)制原盤60B，而根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制原盤表示為復(fù)制原盤60C。 (關(guān)于根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制原盤以及該復(fù)制原盤的制造方法) 圖4示出了作為復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分100，該復(fù)制 原盤是用于復(fù)制全息記錄介質(zhì)的復(fù)制的原盤，能夠通過具有圖l所示光學(xué)部
分10的全息再現(xiàn)設(shè)備再現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)。圖5是圖4所示光學(xué)部分100的局部 放大圖。下面，將參照圖4和5描述根據(jù)第一實(shí)施例的制造復(fù)制原盤的技術(shù)。
組成圖4所示復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部分100包括作為主 要光學(xué)件的激光源30、半波板40、偏振光束分裂器32a、偏振光束分裂器 32b、由液晶等形成的空間光調(diào)制器33a、傅立葉變換透鏡34、可變光圈35、 傅立葉變換透4竟36、物鏡38、假擬玻璃(dummy glass) 61a、光圈44和鏡 面45a。此外，復(fù)制原盤的制造設(shè)備包括作為其機(jī)械件的主軸電動機(jī)(spindle motor ) 48和用來相對于光學(xué)部分100移動復(fù)制原盤60A的移動車49。通過 將復(fù)制原盤60A夾裝在裝配構(gòu)件47a和裝配構(gòu)件47b之間，主軸電動機(jī)48 繞作為旋轉(zhuǎn)中心軸的主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸48a旋轉(zhuǎn)復(fù)制原盤60A。移動車49 固定到主軸電動機(jī)固定部分48b,并且適用于通過來自驅(qū)動機(jī)構(gòu)(未示出) 的移動力在圖4的平面上橫向(Y軸方向)地移動復(fù)制原盤60A。應(yīng)該注意， 在下面的描述中，假定X軸、Y軸和Z軸彼此正交，圖紙平面的左側(cè)方向 作為Y軸的正方向，圖紙平面的向上方向作為Z軸的正方向，而圖紙平面 的前側(cè)到后側(cè)方向作為X軸的正方向。
激光源30的單模激光器是例如外諧振型激光器，如Littrow型或Littman 型激光器，并且發(fā)射單模光束。然后，光束依次通過包含在激光源30中的 下述光學(xué)件(均未示出)。當(dāng)光束通過變形棱鏡時光束的外形被成形，當(dāng)光 束通過功率監(jiān)視器時光束強(qiáng)度被測量，當(dāng)光束通過隔離器時阻擋光到單模激 光器的返回光，當(dāng)光束通過光閘時根據(jù)光閘的開或關(guān)進(jìn)行控制光束是否通過 后續(xù)的光學(xué)件，并且當(dāng)光束通過空間濾波器時來校正光程差。因此，所產(chǎn)生 的光束具有良好的波長特性。
然后，從激光源30發(fā)射的光束使偏轉(zhuǎn)面被半波板40旋轉(zhuǎn)，并且被偏振 光束分裂器32a分裂成原盤制造基準(zhǔn)光束76a和同軸光束75a。在這種情況 下，對半波板40的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以由此調(diào)節(jié)在調(diào)制同軸光束75b和原盤 制造基準(zhǔn)光束76b之間光量比率，從而光量比率變?yōu)?:1，并且在該調(diào)節(jié)之 后固定半波板40的位置。光束使其光束直徑被光圈44調(diào)節(jié)，以便使得在復(fù) 制原盤60A中的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的大小合適，并且使得只使用靠近原 盤制造基準(zhǔn)光束76a中心部分的強(qiáng)度均勻的光束，該原盤制造基準(zhǔn)光束76a 的光束強(qiáng)度為高斯分布。然后，使原盤制造基準(zhǔn)光束76a從復(fù)制原盤60a入 射。應(yīng)該注意，在上面的描述中，術(shù)語"向上，，和"上側(cè)"指Z軸的正方向，
而術(shù)語"向下"和"下側(cè)"指Z軸的負(fù)方向。
另一方面，同軸光束75a是進(jìn)行空間光調(diào)制之前的光束，被傳輸通過偏 振光束分裂器32a,變得與通過偏振光束分裂器32a反射的原盤制造基準(zhǔn)光 束76a的相位相差n/2,并且傳輸通過偏振光束分裂器32b,以被照射到空間 光調(diào)制器33a。然后，作為根據(jù)在空間光調(diào)制器33a中顯示的圖案而被調(diào)制 的調(diào)制同軸光束75b的光束凈皮反射離開空間光調(diào)制器33a。調(diào)制同軸光束75b 使得它的偏轉(zhuǎn)面在被空間光調(diào)制器33a反射后改變n/2，然后被偏振光束分 裂器32b反射以導(dǎo)向下面描述的光路。這樣，調(diào)制同軸光束75b和原盤制造 基準(zhǔn)光束76b的偏振方向都變成彼此一致的S偏振光波。
在這一方面，空間光調(diào)制器33a具有兩個光束反射區(qū)域，包括基于記錄 數(shù)據(jù)顯示信號光束圖案的信號光束空間光調(diào)制部分和顯示基準(zhǔn)光束圖案的 基準(zhǔn)空間光調(diào)制部分。與圖2的方式相同，例如，中空環(huán)形基準(zhǔn)光束空間光 調(diào)制部分和圓形信號空間光調(diào)制部分分別同軸形成在空間光調(diào)制器33a的 內(nèi)、外周邊部分。被這些反射部分反射的光束每個都通過傅立葉變換透鏡34、 可變光圈35、傅立葉變換透鏡36、物鏡38，并且通過用來校正光程差的假 擬玻璃61a，以作為包括具有相同中心線并且同軸設(shè)置的信號光束和基準(zhǔn)光 束的調(diào)制同軸光束75b，該中心線與下面描述的調(diào)制同軸光束75b在其中通 過的各光學(xué)件的光軸相一致。就是說，通過上述各種光學(xué)件所形成的公用光 路，使得包括在調(diào)制同軸光束75b中的信號光束和基準(zhǔn)光束入射在復(fù)制原盤 60A上。
然后，調(diào)制同軸光束75b和原盤制造基準(zhǔn)光束76b在復(fù)制原盤60A的由 光敏聚合物形成的記錄層60a (見圖5 )中彼此干涉，原盤制造基準(zhǔn)光束76b 從與發(fā)射調(diào)制同軸光束75b的光源相同的光源發(fā)射。然后，在記錄層60a中 的單體根據(jù)該干涉的模式而變成聚合物，在記錄層60a的很小區(qū)域內(nèi)改變折 射率，并且形成對應(yīng)于所產(chǎn)生折射率圖案的衍射光柵(全息圖)。這里，傅 立葉變換透鏡34用來創(chuàng)建傅立葉圖像形成表面，可變光圈35用來阻擋傅立 葉圖像形成表面的過多的光，傅立葉變換透鏡36用來再次創(chuàng)建實(shí)像形成表 面，物鏡38用來將信號光束和基準(zhǔn)光束聚光到記錄層60a的預(yù)定區(qū)域，而 假擬玻璃61a用來預(yù)先校準(zhǔn)光程差，該光程差由稍后將描述的復(fù)制全息記錄 介質(zhì)和稍后在復(fù)制原盤的制造時將描述的角選擇板(見圖12 )導(dǎo)致，由此保
證全息圖可以準(zhǔn)確地復(fù)制到通過使用該復(fù)制原盤所制造的復(fù)制全息記錄介
質(zhì)上。在該實(shí)施例中，物鏡38和假擬玻璃61a每個都起到聚光器部分實(shí)施 方式的作用。
此外，在圖4中，采用了這樣的結(jié)構(gòu)，其中原盤制造基準(zhǔn)光束76b從復(fù) 制原盤60A的內(nèi)周邊側(cè)(靠近主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)軸48a側(cè))引入，并且被允許從 復(fù)制原盤60A的外周邊側(cè)(遠(yuǎn)離主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)軸48a側(cè))射出。然而，也可 以采用這樣的結(jié)構(gòu)，其中原盤制造基準(zhǔn)光束76b從復(fù)制原盤60A的外周邊側(cè) 引入，并且被允許從復(fù)制原盤60A的內(nèi)周邊側(cè)射出。
參照圖5的局部放大圖，更詳細(xì)地描述由調(diào)制同軸光束75b和原盤制造 基準(zhǔn)光束76b在復(fù)制原盤60A上形成全息圖的工藝。在圖5中，與圖4中相 同的部分由相同的符號表示，并且省略由相同符號表示部分的描述。
通過補(bǔ)償之前由于復(fù)制全息記錄介質(zhì)(例如，圖12所示的復(fù)制全息記 錄介質(zhì)80A)和在全息圖的復(fù)制中所采用的角選擇板(例如，角選擇板卯) 對復(fù)制基準(zhǔn)光束(例如，圖12所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85)的光程差的影響， 由于調(diào)制同軸光束75b而由假擬玻璃61 a所產(chǎn)生的光程差的量被選擇以允許 在復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層上形成精確的全息圖。假擬玻璃61a通過調(diào)節(jié) 例如其玻璃材料的厚度和折射率而具有如上所述的適當(dāng)光程差。在這一方 面，如果由復(fù)制全息記錄介質(zhì)和角選擇板所產(chǎn)生的光程差的量不大，則可以 制造出具有良好復(fù)制特性的復(fù)制原盤60B，而無需提供假擬玻璃61a。此外， 也可以采用具有等效光程差特性的物鏡來代替物鏡38和假擬玻璃61a。在這 種情況下，該光程差校正物鏡(例如，圖9所示的物鏡39 )起聚光部分的實(shí) 施方式的作用。當(dāng)包括該聚光部分時，圖4所示假擬玻璃61a變成不必要了 ， 由此使得光學(xué)部分的構(gòu)造非常簡單。
在這一方面，復(fù)制原盤60A具有由光敏聚合物等形成的記錄層60a，以 及由玻璃、聚碳酸酯等形成的支撐基板60b和支撐基板60c。記錄層60a從 兩側(cè)夾設(shè)在支撐基板60b和支撐基板60c之間。支撐基板60b和支撐基板60c 的材料都不限于玻璃或聚碳酸酯，只要其能夠能保持住記錄層60a，并且表 現(xiàn)出傳輸調(diào)制同軸光束75b和原盤制造基準(zhǔn)光束76b的特性。
此外，調(diào)制同軸光束75b和原盤制造基準(zhǔn)光束76b在記錄層60a中彼此 干涉，形成了全息圖。該全息圖因折射率的改變而被記錄。然后，在全息圖 形成后，調(diào)制同軸光束75b和原盤制造基準(zhǔn)光束76b從復(fù)制原盤60A的支撐 基板60c的表面(圖4和5所示的下表面)出射到外面。
在上述方式中，全息圖形成在其上先前沒有記錄全息圖的復(fù)制原盤60A 的記錄層60a上。這時，在全息圖形成在復(fù)制原盤60A的記錄層60a的預(yù)定 區(qū)域中后，復(fù)制原盤60A被主軸電動機(jī)48轉(zhuǎn)動，并且在記錄層60a的另外 的區(qū)域形成全息圖。此外，當(dāng)全息圖以同心方式形成時，在復(fù)制原盤60A旋 轉(zhuǎn)一周以形成全息圖后，通過在Y軸方向移動用于移動整個主軸電動機(jī)48 的移動車49，將全息圖形成在相鄰軌道的區(qū)域中。這樣，就可以制造使全息 圖形成在記錄層60a的所有區(qū)域中的復(fù)制原盤60B。此外，當(dāng)全息圖以螺旋 方式形成時，可以通過在Y軸方向移動移動車49同時旋轉(zhuǎn)復(fù)制原盤60A來 制造復(fù)制原盤60B。就是說，在移動假擬玻璃61a的位置的同時形成全息圖， 其彼此相對地固定到作為連同其他光學(xué)件的光學(xué)部分IOO的一部分以及隨同 主軸電動才幾轉(zhuǎn)動軸48a和移動車49 一起移動的復(fù)制原盤60A的一部分的參 考基準(zhǔn)。
更具體地講，控制部分(未示出)執(zhí)行對主軸電動機(jī)48的控制，移動 車致動裝置(未示出)執(zhí)行對移動移動車49的控制，而物鏡致動裝置(未 示出)執(zhí)行對在Z軸方向上移動物鏡38的控制。此時，主軸電動機(jī)48和移 動車49被彼此同步控制，并且如上所述全息圖以同心或者螺旋方式依次形 成。另一方面，通過反饋回路的作用來控制物鏡38，以這樣的方式使得調(diào)制 同軸光束75b被聚光到記錄層60a的預(yù)定位置。
例如，用于控制物鏡38的反饋控制作用如下。上述的反饋回路通過采 用象散方法形成，在該方法中探測從記錄層60a和支撐基板60c之間的界面 所反射的微小量的返回光，該返回光通過聚光透鏡(未示出)和雙凸透鏡(未 示出)聚光，從象限光電信號探測器(未示出)的對角線方向上產(chǎn)生的信號 扣減(subtraction)來獲得焦點(diǎn)信號。這樣的控制技術(shù)通常使用在相關(guān)技術(shù) 中所描述的CD-ROM或DVD-ROM的原盤制造中。在該實(shí)施例中，主軸電 動機(jī)48、移動車49、移動車致動裝置和控制部分作為全息形成位置移動部 分的實(shí)施方式。
在該實(shí)施例中，當(dāng)要記錄在復(fù)制原盤60A的記錄層60a中的全息圖彼此 重疊時，從以這種方式形成的復(fù)制原盤60B所制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)再現(xiàn) 時就會產(chǎn)生串?dāng)_(cross-talk),導(dǎo)致再現(xiàn)信號的S/D (信噪比)變壞。在這種 情況下，來自復(fù)制全息記錄介質(zhì)的再現(xiàn)信號的S/D可以通過事先改變鏡面 45a的角度以變化原盤制造基準(zhǔn)光束76b在記錄層60a上的入射角而改善。
圖6示出了作為復(fù)制原盤制造設(shè)備另一個實(shí)施例主要部分的光學(xué)部分
110。光學(xué)部分110和光學(xué)部分100之間的差別在于采用假擬玻璃61b來代 替假擬玻璃61a。與光學(xué)部分IOO相同構(gòu)造并"I是供相同作用的部件用相同的 符號表示，并且省略了對其描述。
在此情況下，假擬玻璃61b的特性特征在于，假擬玻璃61b通過裝配構(gòu) 件47a和裝配構(gòu)件47b固定到復(fù)制原盤60A，并且假擬玻璃61b與復(fù)制原盤 60A —起相對于原盤制造基準(zhǔn)光束76和調(diào)制同軸光束75b移動。假擬玻璃 61b形成為盤狀，并且設(shè)置成緊鄰復(fù)制原盤60A。
當(dāng)采用上述構(gòu)造時，盡管假擬玻璃61b的尺寸與光學(xué)件IOO相比變大了 ， 但是不需要與調(diào)制同軸光束75b—起移動假擬玻璃61b,因而簡化了光學(xué)部 分的構(gòu)造。
此外，在圖6中，選擇了這樣的結(jié)構(gòu)，其中原盤制造基準(zhǔn)光束76b從內(nèi) 周邊側(cè)(靠近主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸48a側(cè))引入，并且允許其從外周邊側(cè)(遠(yuǎn) 離主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸48a側(cè))出射。然而，也可以采用這樣的結(jié)構(gòu)，其中通 過改變鏡面45a的如圖6所示的設(shè)置位置，原盤制造基準(zhǔn)光束76b從棱鏡的 外周邊側(cè)引入，并且允許其朝著棱鏡的內(nèi)周邊側(cè)出射。
參照圖7和8A至8D，將描述通過具有圖4和6所示光學(xué)部分的制造設(shè) 備形成在復(fù)制原盤60B上的全息圖的構(gòu)造。
圖7示出了全息圖形成區(qū)域(圖7中帶有斜線的小圓)和原盤制造基準(zhǔn) 光束76b (在圖7中用箭頭表示)之間的關(guān)系，如從復(fù)制原盤60B的前表面 (在圖4和6中，該表面平行于XY平面，即包括X軸和Y軸的平面)側(cè) 之所見的。
圖8A至8D示出了在復(fù)制原盤60A的不同轉(zhuǎn)角位置所記錄的全息圖與 原盤制造基準(zhǔn)光束76b之間的關(guān)系。在具有圖4所示光學(xué)部分IOO或者圖6 所示光學(xué)部分110的制造設(shè)備中，當(dāng)在頁單元中形成多個全息圖形成區(qū)域時， 主軸電動機(jī)48轉(zhuǎn)動復(fù)制原盤60A，這意味著，依照該轉(zhuǎn)動，發(fā)生原盤制造 基準(zhǔn)光束76b的等效轉(zhuǎn)動。就是說，圖8A示出了緊接如箭頭所示形成全息 圖Ha之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射方向。此外，圖8B示出了如箭 頭所示形成全息圖Ha之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，并且還 示出了在復(fù)制原盤60A在箭頭所示的轉(zhuǎn)動方向上轉(zhuǎn)動90°后，緊接如箭頭所 示形成全息圖Hb之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角。圖8C示出了如
箭頭所示形成全息圖Ha后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，示出了 如箭頭所示形成全息圖Hb后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，并且 還示出了在復(fù)制原盤60A在箭頭所示的轉(zhuǎn)動方向上轉(zhuǎn)動180°后，緊接如箭頭 所示形成全息圖He后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角，圖8D示出了如 箭頭所示形成全息圖Ha后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，示出了 如箭頭所示形成全息圖Hb后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，示出 了如箭頭所示形成全息圖He后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，并 且還示出了在復(fù)制原盤60A在箭頭所示的轉(zhuǎn)動方向上轉(zhuǎn)動270°后，緊接如箭 頭所示形成全息圖Hd后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角。
盡管在圖8A至8D中沒有示出，但是在復(fù)制原盤60A于箭頭所示的轉(zhuǎn) 動方向上轉(zhuǎn)動360°后，原盤制造基準(zhǔn)光束76b相對于全息圖的入射方向變成 與相對于全息圖Ha的相同。就是說，在從轉(zhuǎn)動中心徑向延伸的直線上的全 息圖中，原盤制造基準(zhǔn)光束76b的所有等效入射方向相同。下面，將復(fù)制原 盤60B稱為根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制原盤，在該復(fù)制原盤60B上所有的全息 圖形成來使得原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射方向設(shè)置成對應(yīng)于從復(fù)制原 盤60A的轉(zhuǎn)軸延伸的徑線。稍后將描述原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射方 向，這是在復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造的上下文中是至關(guān)重要的概念。 (關(guān)于4艮據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制原盤和復(fù)制原盤的制造方法)
圖9示出了作為根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制原盤制造設(shè)備的主要部分的光學(xué) 部分120。光學(xué)部分120的應(yīng)用能夠制造與上面描述的根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù) 制原盤不同構(gòu)造的復(fù)制原盤。下面，參照圖9和10,將描述作為根據(jù)第二實(shí) 施例的復(fù)制原盤的復(fù)制原盤60C,以及復(fù)制原盤60C的制造方法。與光學(xué)部 分IOO和光學(xué)部分IIO相同構(gòu)造并提供相同作用的部件用相同的符號表示， 并且省略其描述。
圖9所示光學(xué)部分120與光學(xué)部分100和光學(xué)部分110的差別在于，附 加了具有轉(zhuǎn)角探測器51c的光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51,作為組成光學(xué)部分120 的機(jī)械件，主軸電動機(jī)48具有轉(zhuǎn)角探測器48c，而光程差校正物鏡39用來 代替物鏡38和-假擬玻璃61a的組合。在此，光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51的光學(xué) 部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)固定部分51b對參考基準(zhǔn)固定。此外，光學(xué)件固定到光學(xué)部 分轉(zhuǎn)動電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸51a，從而整個光學(xué)部分繞光學(xué)件的光軸轉(zhuǎn)動，調(diào)制同 軸光束75b通過這些光學(xué)件。就是說，激光源30、半波板40、偏振光束分
裂器32a、偏振光束分裂器32b、空間光調(diào)制器33a、傅立葉變換透鏡34、 可變光圈35、傅立葉變換透鏡36、物鏡39、光圈44和鏡面45a繞光學(xué)件的 光軸由光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51整體轉(zhuǎn)動，該光軸是調(diào)制同軸光束75b的中 心線(在圖9中，轉(zhuǎn)動方向由符號R1表示)。
參照圖IOA至IOD，將描述形成在復(fù)制原盤60C上的全息圖的構(gòu)造， 該復(fù)制原盤60C是具有圖9所示光學(xué)部分120的制造設(shè)備制造的復(fù)制原盤。
圖IOA至10D示出了從復(fù)制原盤60A的前表面(對應(yīng)于圖9中平行于 XY平面的表面)側(cè)所見的全息圖形成區(qū)域與原盤制造基準(zhǔn)光束76b之間的 關(guān)系。在具有圖9所示光學(xué)部分的制造設(shè)備中，當(dāng)在頁單元中形成多個全息 圖形成區(qū)域時，復(fù)制原盤60A由主軸電動機(jī)48轉(zhuǎn)動(轉(zhuǎn)動方向由圖9中的 符號R2表示)，并且光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51的光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸 51a也轉(zhuǎn)動(轉(zhuǎn)動方向由圖9中的符號Rl表示)，由此轉(zhuǎn)動整個光學(xué)部分120。 就是說，與復(fù)制原盤60A由主軸電動機(jī)48轉(zhuǎn)動一周同步，整個光學(xué)部分120 由光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51轉(zhuǎn)動一周。
由于復(fù)制原盤60A和光學(xué)部分120的同步轉(zhuǎn)動，原盤制造基準(zhǔn)光束76b 的入射方向如圖IOA至IOD所示變化，形成全息圖，這等同地意味著，原 盤制造基準(zhǔn)光束76b才艮據(jù)該轉(zhuǎn)動從一個方向入射在復(fù)制原盤60A上。就是說， 圖10A示出了緊接如箭頭所示形成全息圖Ha之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b 的入射方向。此外，圖IOB示出了在如箭頭所示形成全息圖Ha之后的原盤 制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，此外還示出了在箭頭所示方向上復(fù)制原盤 60A轉(zhuǎn)動90。后，緊接如箭頭所示形成全息圖Hb之后的原盤制造基準(zhǔn)光束 76b的入射角。圖IOC示出了如箭頭所示形成全息圖Ha之后的原盤制造基 準(zhǔn)光束76b的等效入射角，示出了如箭頭所示形成全息圖Hb之后的原盤制 造基準(zhǔn)光束76b的等效入射角，此外示出了在復(fù)制原盤60A在箭頭所示方向 上轉(zhuǎn)動180°后，緊接如箭頭所示形成全息圖Hc之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b 的入射角。圖IOD示出了如箭頭所示形成全息圖Ha之后的原盤制造基準(zhǔn)光 束76b的等效入射角，如箭頭所示形成全息圖Hb之后的原盤制造基準(zhǔn)光束 76b的等效入射角，如箭頭所示形成全息圖Hc之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b 的等效入射角，此外示出了在復(fù)制原盤60A在箭頭所示方向上轉(zhuǎn)動270°后， 緊接如箭頭所示形成全息圖Hd之后的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角。
盡管在圖IOA至10D中沒有示出，但是復(fù)制原盤60A在箭頭所示方向
上轉(zhuǎn)動360°后，原盤制造基準(zhǔn)光束76b關(guān)于全息圖的入射方向變成與關(guān)于全 息圖Ha的相同。就是說，原盤制造基準(zhǔn)光束76b的所有等效入射方向相同。 下面，將其中原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射方向指向相同方向的復(fù)制原 盤60C稱作才艮據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制原盤。
圖9所示控制部分52執(zhí)行對光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51的光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電 動機(jī)轉(zhuǎn)動軸51a的控制，使其與主軸電動機(jī)48驅(qū)動的復(fù)制原盤60A同步轉(zhuǎn) 動一周，由此轉(zhuǎn)動整個光學(xué)部分120 —周。控制部分52具有CPU (中央處 理器)、RAM (隨機(jī)存取存儲器)、ROM(只讀存儲器)、D/A轉(zhuǎn)換器、A/D 轉(zhuǎn)換器和功率放大器(都未示出)。
控制部分52的控制執(zhí)行如下。光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51的光學(xué)部分轉(zhuǎn)動 電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸51a轉(zhuǎn)動，使得主軸電動機(jī)48的轉(zhuǎn)角探測器48c所探測的角 度與光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)51的角度探測器48c所探測到的角度成為相等或 者具有給定的角度差。這保持了復(fù)制原盤60A和整個光學(xué)部分120之間轉(zhuǎn)動 的同步。在執(zhí)行這樣的同步操作的同時全息圖形成在復(fù)制原盤60A的記錄層 60a的預(yù)定區(qū)域中后，復(fù)制原盤60A由主軸電動才幾48轉(zhuǎn)動，而全息圖再一 次形成在記錄層的另一個預(yù)定區(qū)域中。當(dāng)軌道以同心方式形成時，在全息圖 在復(fù)制原盤60A旋轉(zhuǎn)一周中形成之后，使整個主軸電動機(jī)48移動的移動車 49在Y軸方向上移動。當(dāng)軌道是以螺旋方式形成時，伴隨著主軸電動機(jī)軸 48a的轉(zhuǎn)動，移動車49在Y軸方向上移動。因此，全息圖記錄在復(fù)制原盤 60A的所有計劃記錄的區(qū)域中，由此制造了作為根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制原盤 的復(fù)制原盤60C。
在這一方面，因?yàn)檎麄€光學(xué)部分120轉(zhuǎn)動，調(diào)制同軸光束75b也轉(zhuǎn)動， 所以全息圖的形狀也根據(jù)復(fù)制原盤60A的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動。此外，要形成在復(fù)制 全息記錄介質(zhì)上的全息圖的形狀也由于這樣的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動。另一方面，采用 圖1所示光學(xué)部分10的公共全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備所記錄的全息圖的形狀不 是這樣轉(zhuǎn)動。因此，由光學(xué)部分120制造的復(fù)制原盤60C所生成的復(fù)制全息 記錄介質(zhì)與已經(jīng)由圖1所示光學(xué)部分10記錄的全息記錄介質(zhì)之間出現(xiàn)了所 謂讀兼容性的問題。
為了克服上述的讀兼容性問題并且消除形成在全息記錄介質(zhì)中的全息 圖轉(zhuǎn)動的影響，可以采用這樣的構(gòu)造，其中當(dāng)通過具有圖l所示的光學(xué)部分 10的全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備再現(xiàn)對應(yīng)于復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄數(shù)據(jù)的信號
時，獲得與如下獲得的信號等同的電信號，其通過處理由于在圖像傳感器29 中產(chǎn)生的重建光束所導(dǎo)致的重建圖像，通過再現(xiàn)電路(圖1中未示出)以及
通過返回(returning)其旋轉(zhuǎn)而獲得，圖像傳感器29通過聚集以二維柵格狀 陣列分布的精細(xì)光電探測器而形成，因此如果沒有旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生，則再現(xiàn)對應(yīng)于 圖像傳感器29中產(chǎn)生的圖像的信號，然后進(jìn)行再現(xiàn)處理。
(關(guān)于根據(jù)第三實(shí)施例的復(fù)制原盤及復(fù)制原盤的制造方法)
在通過處理由再現(xiàn)電路在圖像傳感器29中產(chǎn)生的重建光束所導(dǎo)致的重 建圖像的旋轉(zhuǎn)以保證讀兼容性的情況下，加大了對全息記錄與再現(xiàn)設(shè)備的負(fù) 擔(dān)。為了在復(fù)制全息記錄介質(zhì)和已經(jīng)由具有圖1所示光學(xué)部分10的記錄與 再現(xiàn)設(shè)備記錄的全息記錄介質(zhì)之間保證讀兼容性，最希望的是使得記錄時使 用的記錄格式相同。下面，這樣的復(fù)制原盤稱為根據(jù)第三實(shí)施例的復(fù)制原盤 60D,其中原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射方向朝向相同的方向同時具有 與已經(jīng)由具有光學(xué)部分10的記錄與再現(xiàn)設(shè)備記錄的全息記錄介質(zhì)的具有完 全相同的記錄格式，下面將描述復(fù)制原盤60D及其制造方法。
復(fù)制原盤60D可以通過使用圖9所示光學(xué)部分120來制造。在這種情況 下，控制部分52如下控制空間光調(diào)制器33a。
根據(jù)由主軸電動機(jī)48的轉(zhuǎn)角探測器48c探測的角度，控制部分52引起 這兩個圖案繞光軸旋轉(zhuǎn)根據(jù)顯示在空間光調(diào)制器33a上的記錄數(shù)據(jù)顯示信 號光束圖案的信號光束控制光調(diào)制部分的圖案，以及顯示基準(zhǔn)光束圖案的基 準(zhǔn)光束空間光調(diào)制部分的圖案。就是說，在主軸電動機(jī)48轉(zhuǎn)動一周的時間 周期中，顯示在信號光束空間光調(diào)制部分上的信號光束圖案和顯示在基準(zhǔn)光 束空間光調(diào)制部分上的基準(zhǔn)光束圖案都繞光軸轉(zhuǎn)動一周。這樣的處理通過由 控制部分52中的CPU處理的數(shù)字計算來完成。因此克服了復(fù)制全息記錄介 質(zhì)之間的讀兼容性的問題。
圖11示出了作為復(fù)制原盤60D的另一個制造設(shè)備的主要部分的光學(xué)部 分130。在圖11中，與光學(xué)部分IOO、光學(xué)部分110和光學(xué)部分120具有相 同構(gòu)造并且提供相同作用的部件由相同的符號表示，并且省略其描述。圖11 所示光學(xué)部分130與圖9所示光學(xué)部分120之間的差別如下。在光學(xué)部分120 中，整個光學(xué)部分120與主軸電動機(jī)48的主軸電動才幾轉(zhuǎn)動軸48a的轉(zhuǎn)動同 步轉(zhuǎn)動。另一方面，在光學(xué)部分130中，產(chǎn)生調(diào)制同軸光束75b并且將其照 射到復(fù)制原盤60A的光學(xué)件對參考基準(zhǔn)固定。此外，用于產(chǎn)生調(diào)制同軸光束
75b以及將其照射到復(fù)制原盤60A的光學(xué)件(由圖11粗線所界定區(qū)域中的 光學(xué)件)構(gòu)造成隨著主軸電動機(jī)48的主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸48a的轉(zhuǎn)動而同步 轉(zhuǎn)動。下面，將參照圖11描述光學(xué)部分130。
在光學(xué)部分130中，對參考基準(zhǔn)固定的光學(xué)件(下文中稱作靜止部分光 學(xué)件)是激光源30、半波板40、由液晶等形成的傳輸型空間光調(diào)制器33b、 偏振光束分裂器32b、圖像傳感器129、傅立葉變換透鏡34、可變光圈35、 傅立葉變換透鏡36和物鏡38。此外，對參考基準(zhǔn)固定的機(jī)械件是用于轉(zhuǎn)動 光學(xué)件活動部分的活動部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)71的固定部分71b,以及主軸電動機(jī) 48的主軸電動機(jī)固定部分48b。這些靜止部分光學(xué)件彼此一體固定。在這一 方面，提供偏振光束分裂器32b和圖像傳感器129的原因是為了由圖像傳感 器129的輸出來調(diào)節(jié)光學(xué)部分130。
的光軸轉(zhuǎn)動的光學(xué)件是偏振光束分裂器32a、鏡面45b、光圈44和鏡面45c。 這些活動部分光學(xué)件彼此一體固定，并且能夠通過采用具有軸承(未示出) 的轉(zhuǎn)動/支撐機(jī)構(gòu)繞靜止部分光學(xué)件的光軸平穩(wěn)轉(zhuǎn)動，即繞調(diào)制同軸光束75b 的光軸平穩(wěn)轉(zhuǎn)動。此外，盤狀滾筒(pulley) 73和74以及活動部分轉(zhuǎn)動電動 機(jī)71用作上述的轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)，用于轉(zhuǎn)動活動光學(xué)件?；顒庸鈱W(xué)部分轉(zhuǎn)動電動 機(jī)71的轉(zhuǎn)動軸71a固定到滾筒73的轉(zhuǎn)動中心，而滾筒74和活動部分光學(xué) 件固定在適當(dāng)位置，從而滾筒74的轉(zhuǎn)動中心與靜止部分光學(xué)件的光軸彼此 一致?；顒硬糠洲D(zhuǎn)動探測器77探測活動部分光學(xué)件的轉(zhuǎn)角，設(shè)置在設(shè)置有 靜止部分光學(xué)件的靜止側(cè)上?；顒硬糠洲D(zhuǎn)動探測器77發(fā)射光束，并且探測 從指示轉(zhuǎn)角的徑向條形碼反射的光線，該徑向條形碼貼在滾筒74的表面，
由此探測滾筒74的轉(zhuǎn)角，即活動部分光學(xué)件的轉(zhuǎn)角。
當(dāng)釆用圖11所示光學(xué)部分130時，與采用圖9所示光學(xué)部分120的情 況相比可以減少活動部分光學(xué)件的數(shù)量。此外，因?yàn)橥ㄟ^由靜止部分光學(xué)件 所形成的光路引導(dǎo)的調(diào)制同軸光束75b沒有被轉(zhuǎn)動，所以沒有必要根據(jù)主軸 電動機(jī)48的轉(zhuǎn)動來進(jìn)行處理旋轉(zhuǎn)信號光束圖案和基準(zhǔn)光束圖案以獲得復(fù)制 原盤60D，如同光學(xué)部分120為圖9所示的情況。此外，當(dāng)上述的光程差校 正物鏡39用來代替圖11所示物鏡38時，可沒必要制作假擬玻璃61b。
在光學(xué)部分130中，控制部分(未示出)如下作用，以在主軸電動才幾48 和活動光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)71的轉(zhuǎn)動之間取得同步?？刂撇糠烛?qū)動主軸電
動機(jī)48。復(fù)制原盤60A和假擬玻璃61b通過裝配構(gòu)件47a和裝配構(gòu)件47b 彼此壓接觸而得以支撐，從而復(fù)制原盤60A和假擬玻璃61b與主軸電動機(jī)轉(zhuǎn) 動軸48a —起轉(zhuǎn)動。然后，取得來自主軸電動機(jī)48的轉(zhuǎn)角探測器48c的信
77所探測的角度彼此比較，并且控制活動光學(xué)部分轉(zhuǎn)動電動機(jī)71，使得這 些角度彼此相符或者這些角度之間的角度差成為給定值。因?yàn)檫@樣的控制處 理依次完成，所以靜止部分光學(xué)件和活動部分光學(xué)件之間的角度與主軸電動 機(jī)轉(zhuǎn)動軸48a的轉(zhuǎn)角可以彼此同步。這樣，可以制造全息圖復(fù)制原盤60D, 其具有用這樣的方法記錄的全息圖以使得原盤制造基準(zhǔn)光束76b的等效入射 方向指向相同的方向，并且其中調(diào)制同軸光束75b形成為以等效方式徑向設(shè) 置。
(關(guān)于后處理(post-processing))
根據(jù)第一實(shí)施例的全息圖復(fù)制原盤60B、根據(jù)第二實(shí)施例的全息圖復(fù)制 原盤60C和根據(jù)第三實(shí)施例的全息圖復(fù)制原盤60D都用作復(fù)制原盤，在它 們上如上所述在記錄層的計劃區(qū)域中記錄有全息圖。這時，如果在這些復(fù)制 原盤的每個記錄層中存在沒有記錄全息圖的區(qū)域，則由于稍候描述的在制造 復(fù)制全息記錄介質(zhì)期間照射光束的作用，全息圖還可以形成在全息圖復(fù)制原 盤60B、全息圖復(fù)制原盤60C和全息圖復(fù)制原盤60D上。這種情形的出現(xiàn) 意味著，在開始制造的初始狀態(tài)的復(fù)制全息記錄介質(zhì)上和在制造開始一些時 間之后的狀態(tài)下的復(fù)制全息記錄介質(zhì)上的記錄內(nèi)容存在著差異，這對復(fù)制原 盤來說不是優(yōu)選的。
考慮到上述情況，希望執(zhí)行后處理，將缺乏相干性的光照射到記錄層60a 的計劃區(qū)域記錄有全息圖的全息圖復(fù)制原盤60B至60D。后處理指將保留在 全息圖復(fù)制原盤60B至60D中的所有單體變成聚合物的工藝。任何光都可 以用作將被照射的光，只要其波長對介質(zhì)具有敏感性并且缺乏相干性。例如， 散射光可以同時照射到全息圖復(fù)制原盤60B至60D。
(關(guān)于采用復(fù)制原盤制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的技術(shù)原理)
圖12是圖示了下面將要描述的采用復(fù)制原盤制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 技術(shù)原理的示意圖。這里，復(fù)制基準(zhǔn)光束85是各種形式的光束，如圓形光 束(點(diǎn)型光束)、在一個方向上具有大寬度的光束(一維帶狀光束)、放大到 大區(qū)域(例如，覆蓋整個復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D的區(qū)域)的寬光束
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(二維放大光束)，并且是從圖12的左側(cè)進(jìn)入而出射到圖12右側(cè)的光束。
這里，假定復(fù)制基準(zhǔn)光束85的波長基本上等于原盤制造基準(zhǔn)光束76b的波 長。此外，復(fù)制基準(zhǔn)光束85照射到形成在復(fù)制原盤60B的記錄層60a中的 全息圖上，并且產(chǎn)生衍射光束95。
下面詳細(xì)描述復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造工藝。這里，作為復(fù)制原盤，上 述的復(fù)制原盤60B至60D之一用作制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)。在這一方面， 當(dāng)描述對所有復(fù)制原盤的公用原理時，采用術(shù)語"復(fù)制原盤60B至60D"， 而當(dāng)描述該復(fù)制原盤之一時，將給出對該效果的清楚指示。
當(dāng)采用上述的原理時，因?yàn)椴恍枰峁┯衫缦嚓P(guān)技術(shù)中描述的大光圈 物鏡形成的成像光學(xué)系統(tǒng)，所以可以簡化制造設(shè)備。此外，因?yàn)槌上裉匦圆?會成為問題，復(fù)制原盤60B的記錄層60a的厚度和復(fù)制記錄介質(zhì)80A的記 錄層80a的厚度可以自由選擇。如果增加記錄層60a的厚度，則可以在復(fù)制 全息記錄介質(zhì)的制造中提高衍射效率，并且如果增加記錄層80a的厚度，則 當(dāng)從復(fù)制全息記錄介質(zhì)再現(xiàn)信號時，可以提高衍射效率。在任一種情況下， 最終可以提高從復(fù)制全息記錄介質(zhì)再現(xiàn)信號的質(zhì)量。
現(xiàn)在描述復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A。復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A是一種構(gòu)件， 具有記錄層80a、支撐基板80b、支撐基板80c、反射層80d和保護(hù)層80e。 復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A代表一種復(fù)制全息圖的記錄介質(zhì)，其上已經(jīng)記錄有全 息圖，或者其完成復(fù)制工藝之前。在下面的描述中，已經(jīng)完成復(fù)制工藝的復(fù) 制全息記錄介質(zhì)被標(biāo)示為復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B，并且如果需要，則將給出 所描述的復(fù)制全息記錄介質(zhì)是已經(jīng)完成復(fù)制工藝的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的效 果的清楚指示。
復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B與圖1所示具有光學(xué)部分10的記錄和再現(xiàn)設(shè)備 具有讀兼容性，并且在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B是附加可寫介質(zhì)的情況下具有 讀和寫兼容性。因此，例如，記錄層80a由光敏聚合物形成，支撐基板80b 和支撐基板80c由玻璃或聚碳酸酯形成，反射層80d由鋁形成，而保護(hù)層80e 由樹脂形成。
現(xiàn)在描述角選擇板90。角選擇板90是一種具有角選擇膜90a和支撐基 板90b的構(gòu)件，并且構(gòu)成本技術(shù)的主要特征。角選擇膜90a是一種其透射率 具有角選擇性的膜，其特性的示例如圖13所示。圖13中的縱軸表示透射率， 而圖13中的橫軸表示光束的入射角。畫在圖13中的兩條曲線分別表示P偏
形成圖13所示的角選擇膜90a的方法是在光學(xué)件制造領(lǐng)域廣泛知曉的技術(shù)。 在支撐基板90b的材料上沒有特別限制，只要它傳輸衍射光束95即可。例 如，采用玻璃或聚碳酸酯。
因?yàn)槿鐖D12所示復(fù)制基準(zhǔn)光束85關(guān)于角選擇膜90a的入射角調(diào)整成基 本上等于原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角，所以入射角小，并且落入圖13 所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束角度區(qū)域ArC的范圍內(nèi)。另一方面，如圖12所示由復(fù) 制基準(zhǔn)光束85產(chǎn)生的衍射光束95的入射角很大(例如，以圖1所示光學(xué)部 分10為例，入射角落入物鏡28的光圈的范圍)，并且落入圖13所示的衍射 光束角度區(qū)域ArD的范圍，其中復(fù)制基準(zhǔn)光束85以落入復(fù)制基準(zhǔn)光束角度 區(qū)域ArC范圍內(nèi)的角度入射。
由于上述的角選擇膜卯a(chǎn)的作用，原盤制造基準(zhǔn)光束76b由角選擇膜90a 反射，并因此不能達(dá)到復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A,然而，來自復(fù)制原盤60B至 60D的衍射光束95傳輸通過角選擇膜卯a(chǎn)，以被照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì) 80A。盡管原盤制造基準(zhǔn)光束76b由角選擇膜90a反射而通過復(fù)制原盤60B 至60D,但是因?yàn)閷τ谠佻F(xiàn)的布拉格(Bragg)條件在該情形沒有滿足，所 以并不產(chǎn)生衍射光束。根據(jù)在制造復(fù)制原盤60B至60D時原盤制造基準(zhǔn)光 束76b的入射角，變化復(fù)制基準(zhǔn)光束85，由此在復(fù)制原盤60B至60D中才丸 行角度復(fù)合(multiplexing)或者旋轉(zhuǎn)復(fù)合來記錄全息圖，在這種情況下，產(chǎn) 生了對應(yīng)于多個以復(fù)合方式已記錄的全息圖中每個的衍射光束95 ，因此可以 制造通過復(fù)制多個復(fù)合的全息圖到復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A上所獲得的復(fù)制 全息記錄介質(zhì)80B。在該情況中，原盤制造基準(zhǔn)光束76b的入射角必須在復(fù) 制基準(zhǔn)光束角度區(qū)域ArC的范圍內(nèi)。
這里，角度復(fù)合是這樣的一種技術(shù)，其中，當(dāng)在復(fù)制原盤60A上形成全 息圖來制造復(fù)制原盤60B至60D時，改變了原盤制造基準(zhǔn)光束76b在復(fù)制 原盤60A上的入射角(在圖9中，在平行于包括Y軸和X軸平面的表面上 的入射角)，以由此在記錄層60a的重疊區(qū)域中形成多個全息圖。旋轉(zhuǎn)復(fù)合 是這樣的一種技術(shù)，其中，當(dāng)在復(fù)制原盤60A上形成全息圖以制造復(fù)制原盤 60B至60D時，改變原盤制造基準(zhǔn)光束76b在復(fù)制原盤60A上的入射角(在 圖9中，在平行于包括X軸和Y軸的平面的表面上入射角)，以由此在記錄 層60a的重疊區(qū)域中形成多個全息圖。角度復(fù)合和旋轉(zhuǎn)復(fù)合本身在該技術(shù)領(lǐng)
域中是已知的。
此外，從復(fù)制原盤60B至60D照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的光由于 衍射光束95的作用在記錄層80a中形成全息圖。在這一方面，因?yàn)榉瓷鋵?80d設(shè)置在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A中，所以來自復(fù)制原盤60B至60D的衍 射光束95由反射層80d反射，以再次返回到復(fù)制原盤60B至60D。當(dāng)衍射 光束95 (第一衍射光束)照射到復(fù)制原盤60B至60D時，產(chǎn)生衍射光束87 (第二衍射光束)。因?yàn)檠苌涔馐?7指向與復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A側(cè)相反， 如圖12所示，所以衍射光束87在全息圖復(fù)制上不產(chǎn)生影響。
通過應(yīng)用上述的技術(shù)原理，下面將描述復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造設(shè)備和 復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造方法的具體實(shí)施例，作為第一至第三實(shí)施例。復(fù)制 原盤60B可以用來做制造根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造技術(shù) 和制造根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造技術(shù)，并且復(fù)制原盤60C 或者復(fù)制原盤60D可以用來做制造根據(jù)第三實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 制造技術(shù)。
(關(guān)于根據(jù)第一實(shí)施例用于從復(fù)制原盤60B制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 制造技術(shù))
作為使用復(fù)制原盤60B用于制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的技術(shù)，下面將描述 根據(jù)第 一 實(shí)施例的制造設(shè)備和使用該制造設(shè)備的根據(jù)第 一 實(shí)施例的制造方 法。根據(jù)該制造設(shè)備和制造方法，通過將角選擇板90設(shè)置成夾設(shè)在復(fù)制原 盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A之間，將光點(diǎn)照射到照射原盤60B，并且 在二維方向上掃描光點(diǎn)，由此進(jìn)行復(fù)制。下面將參照圖14來描述根據(jù)第一 實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備140。如上所述，在復(fù)制原盤60B中， 通過相對于復(fù)制原盤60B的中心(與圖14所示主軸電動^/L轉(zhuǎn)動軸98a的轉(zhuǎn) 動中心相一致)徑向地照射原盤制造基準(zhǔn)光束76b來形成全息圖，如圖8A 至8D所示。因?yàn)樵摲较虿灰蕾囉趶?fù)制原盤60B的徑向位置，并且在內(nèi)外側(cè) 的任何位置都相同，所以考慮到這一點(diǎn)，通過根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制全息記 錄介質(zhì)制造設(shè)備140制造了其上已經(jīng)復(fù)制了復(fù)制原盤60B的信息的復(fù)制全息 記錄介質(zhì)80B。
根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)備140具有激光源88、主軸電動 機(jī)98和復(fù)制原盤60B作為其主要部件。激光源88發(fā)射復(fù)制基準(zhǔn)光束85a。 復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的波長基本上等于從激光源30發(fā)射的用在復(fù)制原盤60B
制造中的原盤制造基準(zhǔn)光束76b的波長。激光源88設(shè)置在移動車上，并且 由致動裝置(未示出)驅(qū)動，以便在圖14中的箭頭所示方向(Y軸的正方 向)上移動。主軸電動機(jī)98具有與主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a —起轉(zhuǎn)動的裝配 構(gòu)件97a和裝配構(gòu)件97b。裝配構(gòu)件97a和裝配構(gòu)件97b使得復(fù)制全息記錄 介質(zhì)80A、角選擇膜90和復(fù)制原盤60B彼此接續(xù)層壓，并且由主軸電動機(jī) 98的轉(zhuǎn)動力轉(zhuǎn)動。在該實(shí)施例中，裝配構(gòu)件97a和裝配構(gòu)件97b用作定位部 分的實(shí)施方式。盡管在該示例中激光源88設(shè)置在移動車上，以移動照射到 復(fù)制原盤60B上的光點(diǎn)的位置，但是光點(diǎn)和復(fù)制原盤60B可以通過移動設(shè) 置在移動車上的復(fù)制原盤60B來移動它們的相對位置。
圖15是從上面所見的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的透^L圖，圖示了形成為 光點(diǎn)的復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的移動。在這樣的情況中，當(dāng)制造根據(jù)第一實(shí)施例 的復(fù)制原盤60B時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85a以與圖8A至8D所采用原盤制造基 準(zhǔn)光束76b的相同的入射角入射。就是說，通過相對于復(fù)制原盤60B的中心 (圖14中的主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a的轉(zhuǎn)動中心)移動和徑向地照射復(fù)制基 準(zhǔn)光束85a依次形成全息圖，最終制造出復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。
在此，將描述復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的行進(jìn)方向。根據(jù)圖4所示的構(gòu)造，在 通過采用圖4所示的光學(xué)部分100所制造的復(fù)制原盤60B上以下面的方式形 成全息圖。就是說，調(diào)制同軸光束75b被臨時聚光，并且全息圖形成在設(shè)置 在聚光點(diǎn)后面的復(fù)制原盤60A的記錄層60a中。因此，由于該制造工藝形成 在復(fù)制原盤60B上的全息圖具有對應(yīng)于聚光點(diǎn)位置的具體形狀。就是說，如 圖5所示，全息圖的形狀是它在支撐基板60c側(cè)較大，而在支撐基板60b側(cè) 較小。另一方面，當(dāng)將復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A、角選擇板90和復(fù)制原盤60B 之間的位置關(guān)系取為圖12所示的構(gòu)造時，有必要使得復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的 入射角與圖14中復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的入射角相反(相位共軛)。
更具體地講，根據(jù)下面的程序完成復(fù)制。停止用于轉(zhuǎn)動復(fù)制原盤60B和 復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a的轉(zhuǎn)動。復(fù)制基準(zhǔn)光束85a 在垂直于光束傳播方向上的截面中基本上具有圓形的形狀，并且根據(jù)激光源 88的移動從復(fù)制原盤60B的內(nèi)周邊移向外周邊。主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a在 轉(zhuǎn)動復(fù)制原盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A(轉(zhuǎn)動方向由圖15中的符號R2 表示的箭頭所示)后再次停止。此時的轉(zhuǎn)角設(shè)定為圍繞復(fù)制原盤60B最外周 邊的移動的距離不大于復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的截面半徑的長度。然后，復(fù)制基
準(zhǔn)光束85a根據(jù)激光源88的移動再次從復(fù)制原盤60B的內(nèi)側(cè)周邊移向外側(cè) 周邊。重復(fù)上述程序，由此最終獲得其上已經(jīng)復(fù)制了復(fù)制原盤60B所有計劃 復(fù)制區(qū)域的全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)。
根據(jù)另一個程序，將復(fù)制原盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A —起轉(zhuǎn)動 的主軸電動機(jī)軸98a連續(xù)轉(zhuǎn)動，并且在復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射為期一周(360。) 的時間后，停止主軸電動機(jī)軸98a的轉(zhuǎn)動。激光源88在從復(fù)制原盤60B的 內(nèi)周邊到外周邊的方向上移動，移動的距離不大于復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的截面 半徑的長度。然后，將復(fù)制原盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A —起轉(zhuǎn)動的 主軸電動機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a再次連續(xù)轉(zhuǎn)動，并且復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射為期一周 (360°)的時間。重復(fù)上述的程序，以由此最終獲得其上已經(jīng)復(fù)制有復(fù)制原 盤60B的所有計劃復(fù)制區(qū)域的全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。
根據(jù)又一個程序，將復(fù)制原盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A —起轉(zhuǎn)動 的主軸電動機(jī)軸98a連續(xù)轉(zhuǎn)動，并且激光源88在從復(fù)制原盤60B的內(nèi)周邊 到外周邊移動。此時，主軸電動機(jī)軸98a和激光源88以這樣的移動速度移 動，使得復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射到復(fù)制原盤60B的所有計劃復(fù)制區(qū)域。這樣， 可以最終獲得其上已經(jīng)復(fù)制有復(fù)制原盤60B的所有計劃復(fù)制區(qū)域的全息圖 的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。
在任何上述的程序中，復(fù)制基準(zhǔn)光束85a在Y軸方向(圖15中移動方 向由符號Y表示的箭頭所示)上的移動由激光源88的移動來實(shí)現(xiàn)，并且復(fù) 制基準(zhǔn)光束85a在轉(zhuǎn)角方向上的移動(在圖15中移動方向由符號R2表示的 箭頭所示)通過采用主軸電動機(jī)98實(shí)現(xiàn)，由此將復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射到 要進(jìn)行復(fù)制的所有區(qū)域上。在該實(shí)施例中，激光源88具有產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光 束85a的功能，并且主軸電動機(jī)98、激光源88和用于移動激光源88的致動 裝置每個具有將復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射到復(fù)制原盤60B上預(yù)定區(qū)域的功能。 這些構(gòu)件中的每一個都組成復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生部分的一部分。
通過采用根據(jù)第一實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備140，衍射光束 95可以通過照射復(fù)制基準(zhǔn)光束85a從復(fù)制原盤60B產(chǎn)生，并且只有衍射光 束95可以照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A,而通過角選擇板90的作用阻擋復(fù) 制基準(zhǔn)光束85a。結(jié)果，復(fù)制復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B的速度可以通過增加復(fù) 制原盤60B的轉(zhuǎn)速而不是像相關(guān)技術(shù)中所采取的采用昂貴的大光圈物鏡來 得以提高。
(關(guān)于根據(jù)第二實(shí)施例的從復(fù)制原盤60B制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制
造技術(shù))
關(guān)于從復(fù)制原盤60B制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的技術(shù)，現(xiàn)在將描述根據(jù)第 二實(shí)施例的制造設(shè)備，以及使用該制造設(shè)備的根據(jù)第二實(shí)施例的制造方法。 根據(jù)該制造設(shè)備和制造方法，通過照射一條狀(band)光到復(fù)制原盤60B并 且在一維方向上掃描該調(diào)整光進(jìn)行復(fù)制。在這種情況下，通過轉(zhuǎn)動復(fù)制原盤 60B進(jìn)行在一維方向上的掃描。將參照圖16來描述根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制 全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備150。
圖16所示的根據(jù)第二實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備150具有激 光源88、變形棱鏡92a、變形棱鏡92b、鏡面91b、主軸電動才幾98和復(fù)制原 盤60B作為其主要部件。激光源88、變形棱鏡92a、變形棱鏡92b、鏡面91b 和主軸電動機(jī)98都對參考基準(zhǔn)固定。復(fù)制基準(zhǔn)光束85b成形為條狀形式， 可以由變形棱鏡92a和變形棱鏡92b通過成形來自激光源88的光束來獲得。 這里，使用兩個變形棱鏡(變形棱鏡92a和變形棱鏡92b)的理由是使得條 狀復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的縱向長度基本上等于復(fù)制原盤60B的半徑的長度，乂人 而不必要從復(fù)制原盤60B的中心延伸的徑線方向上掃描復(fù)制基準(zhǔn)光束85a。 因此，如果僅使用變形棱鏡92a就足以使得條形復(fù)制基準(zhǔn)光束85a的縱向長 度充分大，則不需要變形棱鏡92b。
圖17是復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A從上面所見的透視圖，圖示了復(fù)制全息 記錄介質(zhì)80A與形成為條狀光的復(fù)制基準(zhǔn)光束85b之間的關(guān)系。在這種情況 下，當(dāng)制造復(fù)制原盤60B時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85b與在圖8A至8D中使用的 原盤制造基準(zhǔn)光束76b相同的入射角入射。就是說，復(fù)制基準(zhǔn)光束85b相對 于復(fù)制原盤60B的中心(在圖14中，主軸電動4/L轉(zhuǎn)動軸98a的轉(zhuǎn)動中心) 徑向地照射，隨著復(fù)制原盤60B和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A轉(zhuǎn)動，全息圖依 次形成，最終制造出記錄有全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。就是說，根據(jù) 主軸電動機(jī)98a的轉(zhuǎn)動，通過在轉(zhuǎn)角方向上(圖17中由符號R2表示的箭頭 所示)移動復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A,復(fù)制基準(zhǔn)光束85b —維掃描。
這樣，能夠最終獲得其上已經(jīng)復(fù)制有復(fù)制原盤60B的所有計劃復(fù)制區(qū)域 的全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。在該實(shí)施例中，激光源88具有產(chǎn)生復(fù) 制基準(zhǔn)光束85a的功能，而主軸電動機(jī)98、變形棱鏡92a、變形棱鏡92b和 鏡面91b都具有將復(fù)制基準(zhǔn)光束85a照射到復(fù)制原盤60B上預(yù)定區(qū)域的功
能。這些構(gòu)件中的每一個都組成復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生部分的一部分。
采用如上所述的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備150，通過轉(zhuǎn)動主軸電動
機(jī)轉(zhuǎn)動軸98a —周，可以容易并高速地獲得復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B。
(關(guān)于根據(jù)第三實(shí)施例用于從復(fù)制原盤60C和復(fù)制原盤60D制造復(fù)制 全息記錄介質(zhì)的制造技術(shù))
作為通過使用復(fù)制原盤60C和復(fù)制原盤60D制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 技術(shù)，將描述根據(jù)第三實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備160和采用該制 造設(shè)備的根據(jù)第三實(shí)施例的制造方法。根據(jù)該制造設(shè)備和制造方法，光束同 時照射在覆蓋整個復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D的區(qū)域上，由此使得不進(jìn) 行光束掃描就可以獲得帶有全息圖記錄其上的全息記錄介質(zhì)。
圖18示出了根據(jù)第三實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備160。根據(jù)第 三實(shí)施例的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備160具有激光源88、變形棱鏡92a、 變形棱鏡92b、變形棱鏡92c、變形棱鏡92d、鏡面91c和復(fù)制原盤60C或 復(fù)制原盤60D作為其主要部件。上述部件都對參考基準(zhǔn)固定。在圖18所示 包括Y軸和Z軸的平面中，來自激光源88的光束具有其由變形棱鏡92a和 變形棱鏡92b放大的寬度。此外，在圖18所示包括X軸和Y軸的平面中， 光束的寬度由變形棱鏡92c和變形棱鏡92d放大。結(jié)果，獲得了復(fù)制沿著X 軸和Z軸剖取的截面為正方形的基準(zhǔn)光束，以作為復(fù)制基準(zhǔn)光束85c。這里， 采用四個變形棱鏡(變形棱鏡92a至92d)的理由是保證復(fù)制基準(zhǔn)光束85c 能夠照射在復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D的整個表面上。因此，當(dāng)復(fù)制基 準(zhǔn)光束85c照射到的復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D的表面面積很小時，通 過變形棱鏡92a和變形棱鏡92c可以保證復(fù)制基準(zhǔn)光束85c的充分的照射區(qū) 域。
圖19是從上面所見的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的透視圖，圖示了復(fù)制全 息記錄介質(zhì)80A與二維放大的復(fù)制基準(zhǔn)光束85c之間的關(guān)系。在這種情況下， 當(dāng)制造復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85c ^v與圖10D中 箭頭方向所標(biāo)示的原盤制造基準(zhǔn)光束相同的入射方向照射。就是說，通過照 射復(fù)制基準(zhǔn)光束85c,在采用復(fù)制原盤60C時，制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)80C, 而在采用復(fù)制原盤60D時，制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)80D。在該實(shí)施例中，激 光源88具有產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束85c的功能，鏡面91c、變形棱鏡92a、變形 棱鏡92b、變形棱鏡92c、變形棱鏡92d每一個都具有照射復(fù)制基準(zhǔn)光束85c
到復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D上預(yù)定區(qū)域的功能。這些構(gòu)件的每一個組 成復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生部分的一部分。
此外，在上述的復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造設(shè)備160中，多個復(fù)制全息記錄 介質(zhì)80A通過使用傳輸裝置(未示出)連續(xù)移動，并且如圖18所示，依次 停放在角選擇板90上，在角選擇板90的下表面上設(shè)置了復(fù)制原盤60C或復(fù) 制原盤60D,復(fù)制基準(zhǔn)光束85c照射其上，由此使得能夠連續(xù)獲得其上形成 有全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80C或復(fù)制全息記錄介質(zhì)80D。盡管沒有示出 在成批處理中用來停止復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D移動的機(jī)構(gòu)，但是這 是一種在各種產(chǎn)品的制造工藝中通常所采用的機(jī)構(gòu)。例如，復(fù)制全息記錄介 質(zhì)80A由升降機(jī)升降和移動，并且當(dāng)光學(xué)傳感器(未示出)探測到復(fù)制全息 記錄介質(zhì)80A已經(jīng)到達(dá)復(fù)制原盤60C或復(fù)制原盤60D之上的位置時，降下 該升降機(jī)，由此設(shè)定復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A和制原盤60C或復(fù)制原盤60D 在預(yù)定的相對位置。該機(jī)構(gòu)用作定位部分的實(shí)施方式。
根據(jù)第 一 至第三實(shí)施例的制造設(shè)備或根據(jù)第 一 至第三實(shí)施例的制造方 法所制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B至80D中的每一種都可以批量復(fù)制，用 于以復(fù)制全息記錄介質(zhì)的分發(fā)。在種情況下，如果復(fù)制全息記錄介質(zhì)的具體 區(qū)域留下作為沒有記錄全息圖的區(qū)域，則已經(jīng)獲得這樣復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 人可以在該沒有記錄的區(qū)域中寫入(附加寫入)必要的記錄數(shù)據(jù)。
下關(guān)于根據(jù)第一至第三實(shí)施例的制造設(shè)備和根據(jù)第 一至第三實(shí)施例的 制造方法所制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B至80D在沒有進(jìn)行附加寫入的情 況，希望通過將缺乏相干性的光照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)來進(jìn)行后處理。該 后處理指將所有遺留在復(fù)制全息記錄介質(zhì)中的單體變成聚合物的工藝。任何 光都可以用作該照射光，只要其波長對介質(zhì)有敏感性并且缺乏相干性。例如， LED發(fā)射的光束可以同時照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)。這使復(fù)制全息記錄介質(zhì) 失去附加寫入的功能。
采用上述根據(jù)第 一 至第三實(shí)施例的制造設(shè)備所制造的復(fù)制全息記錄介 質(zhì)80B至80D中每種都是由具有圖1所示光學(xué)部分的記錄與再現(xiàn)設(shè)備可以 進(jìn)行再現(xiàn)的全息記錄介質(zhì)，并且是探測反射衍射光束類型。在這一方面，當(dāng) 形成一種探測在其中通過衍射光束類型的全息記錄介質(zhì)時，復(fù)制全息記錄介 質(zhì)80A可以不提供反射層80d。
如上所述獲得的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B允許采用具有圖1所示的光學(xué)部
分10的全息圖再現(xiàn)設(shè)備通過通常的再現(xiàn)方法易于進(jìn)行再現(xiàn)。此外，如上所
述獲得的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80C允許由這樣的再現(xiàn)方法進(jìn)行再現(xiàn)，其中采用 具有圖1所示的光學(xué)部分10的全息圖再現(xiàn)設(shè)備，圖像傳感器29獲得的再造 圖像如上所述被旋轉(zhuǎn)。此外，復(fù)制全息記錄介質(zhì)80D允許采用具有圖l所示 光學(xué)部分10的全息圖再現(xiàn)設(shè)備由通常的再現(xiàn)方法易于進(jìn)行再現(xiàn)。
(關(guān)于復(fù)制原盤制造方法與復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造技術(shù)的變體)
(第一變體)
下面將描述體現(xiàn)復(fù)制原盤制造方法和復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造方法中每 個的第一變體的方法。
復(fù)制原盤制造方法的第一變體的特有特征在于，采用圖20所示復(fù)制原 盤60E代替復(fù)制原盤60A,同時對于圖4、 6、 9、 ll每一個中采用相同構(gòu)造 的光學(xué)部分。
圖20所示復(fù)制原盤60E與制原盤60A不同在于，復(fù)制原盤60E包括偏 振依賴角選擇膜60d,其透射率根據(jù)光束的偏振方向和光束的入射角而變化。 偏振依賴角選擇膜60d與圖12所示角選擇膜90a之間的差別在于，盡管角 選擇膜90a的透射率根據(jù)光束的入射角而變化，但是偏振依賴角選擇膜60d 還根據(jù)光束的偏振方向變化。
圖21示出了偏振依賴角選擇膜60d的特性。圖21中的縱軸表示透射率， 橫軸表示入射角，符號P所表示的圖線表示P偏振光波的透射率，而符號S 所表示的圖線表示S偏振光波的透射率。如圖21所示，P偏振光波的透射 率是100%(全部透射)而與入射角無關(guān)。當(dāng)入射角很大時透射S偏振光波， 而當(dāng)入射角很小時則不透射。透射量依賴于入射角。在支撐基板60b上形成 上述偏振依賴角選擇膜60d的方法是已知技術(shù)，并且在具有上述偏振依賴角 選擇膜60d的復(fù)制原盤60E本身的制造中不涉及到特殊的技術(shù)困難。
在復(fù)制原盤的制造階段，采用復(fù)制原盤60E代替復(fù)制原盤60A,復(fù)制原 盤由用于制造全息圖復(fù)制原盤的設(shè)備制造，該設(shè)備包括光學(xué)部分，其以與圖 2、 6、 9、 11中每一個所示的光學(xué)部分相同的方式另外構(gòu)造。在下面的描述 中，在其上形成有以這樣的方法制造的全息圖的復(fù)制原盤被表示為復(fù)制原盤 60E。應(yīng)該注意的是，如上所述，在下面的描述中，具有偏振依賴角選^N莫 60d而其上沒有記錄全息圖的復(fù)制原盤表示為復(fù)制原盤60E，而其上記錄了 全息圖但是沒有在所有的計劃記錄區(qū)域中記錄的復(fù)制原盤也表示為復(fù)制原
盤60E。在圖21中，復(fù)制基準(zhǔn)光束角度區(qū)域ArC所示的區(qū)域代表復(fù)制基準(zhǔn) 光束入射角的期望角度范圍，而衍射光束角度范圍ArD所示的區(qū)域代表衍射 光束入射角的期望角度范圍。
現(xiàn)在將描述從復(fù)制原盤60E制造復(fù)制原盤60F的工藝。與參照圖2、 6、 9、 11所描述的基本相同的制造工藝被用作該制造工藝。將參照圖20描述該 制造工藝。
相同的方式進(jìn)行了空間調(diào)制同軸光束。此外，調(diào)制同軸光束75bp形成為S 偏振光波。此外，所標(biāo)示的原盤制造基準(zhǔn)光束76bp是經(jīng)由與上述原盤制造 基準(zhǔn)光束76b相同的光路入射在復(fù)制原盤60E上的原盤制造基準(zhǔn)光束。原盤 制造基準(zhǔn)光束76bp形成為S偏振光波。這里，在圖2、 6、 9和11每一個所 示的光學(xué)部分中，調(diào)制同軸光束75bp和原盤制造基準(zhǔn)光束76bp都可以通過 旋轉(zhuǎn)和調(diào)節(jié)半波板41和半波板42中每個成為S偏振光波。
雖然圖20示出的示例中物鏡38和假擬玻璃61b用來聚光和預(yù)先校正產(chǎn) 生在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A中的光程差，但是也可以用光程差校正物鏡39 代替物鏡38和假擬玻璃61b的組合以預(yù)先校正產(chǎn)生在復(fù)制全息記錄介質(zhì) 80A中的光程差，而不用^f叚擬玻璃61b。
如上所述，調(diào)制同軸光束75bp和原盤制造基準(zhǔn)光束76bp作為P偏振光 波都入射在復(fù)制原盤60E上，并且100%透射通過偏振依賴角選4奪膜60d, 而與它們的入射角度無關(guān)，這是因?yàn)檫@些都是P偏振光波。然后，調(diào)制同軸 光束75bp和原盤制造基準(zhǔn)光束76bp在由光敏聚合物形成的記錄層60a中變 為彼此干涉，因此形成全息圖。這樣，全息圖記錄在記錄層60a的所有計劃 區(qū)域上，并且進(jìn)行上述的后處理工藝將單體變成聚合物，由此完成復(fù)制原盤 60F。這里，這樣完成的復(fù)制原盤分別稱為復(fù)制原盤60F、復(fù)制原盤60G和 復(fù)制原盤60H，假設(shè)在復(fù)制原盤60F的記錄層60a中所記錄的全息圖的構(gòu)造 與復(fù)制原盤60B的相同，在復(fù)制原盤60G的記錄層60a中所記錄的全息圖 的構(gòu)造與復(fù)制原盤60C的相同，而在復(fù)制原盤60H的記錄層60a中所記錄 的全息圖的構(gòu)造與復(fù)制原盤60D的相同。
參照圖22，將描述在沒有記錄全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A上記錄 全息圖的方法，由此制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B、復(fù)制全息記錄介質(zhì)80C和 復(fù)制全息記錄介質(zhì)80D中每個。這里，采用復(fù)制原盤60F制造的全息記錄介
質(zhì)表示為復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B，采用復(fù)制原盤60G制造的全息記錄介質(zhì)表 示為復(fù)制全息記錄介質(zhì)80C，而采用復(fù)制原盤60H制造的全息記錄介質(zhì)表示 為復(fù)制全息記錄介質(zhì)80D。
采用復(fù)制原盤60F至60H中每個所制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B至80D 中每個的復(fù)制都這樣完成，使得復(fù)制原盤60F至60H中每個的偏振依賴角選 才奪膜60d面對復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的支撐基板80c，并且從復(fù)制原盤60F 至60H中每個的支撐基板60c側(cè)照射復(fù)制基準(zhǔn)光束85S,該復(fù)制基準(zhǔn)光束85S 與原盤制造基準(zhǔn)光束76bp相位共軛但是為S偏振光波。在這種情況下，當(dāng) 復(fù)制基準(zhǔn)光束85S的入射角設(shè)定為落入表示為復(fù)制基準(zhǔn)光束角度區(qū)域ArC 的區(qū)域范圍內(nèi)時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S不透射通過偏振依賴角選擇膜60d。結(jié) 果，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S不能到達(dá)復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的記錄層80a。
另一方面，如圖22所示，當(dāng)照射S偏振光波的復(fù)制基準(zhǔn)光束85S時產(chǎn) 生的來自每一個復(fù)制原盤60F至60H的衍射光束95S,以接近垂直于偏振依 賴角選擇膜60d并且屬于衍射光束角度區(qū)域ArD的范圍內(nèi)的入射角入射在偏 振依賴角選擇膜60d上。衍射光束95S因此透射通過偏振依賴角選擇膜60d。 結(jié)果，衍射光束95S在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的記錄層80a中對應(yīng)于衍射光 束95S形成全息圖。因此，已經(jīng)貢獻(xiàn)于全息圖的形成的衍射光束95S (第一 衍射光束)由復(fù)制全息記錄介質(zhì)80A的反射層80d反射，并且再次照射復(fù)制 全息記錄介質(zhì)80A的記錄層80a以再次產(chǎn)生衍射光束87S。如圖23所示， 衍射光束87S從每一個復(fù)制原盤60F至60H出射。
這里，關(guān)于復(fù)制基準(zhǔn)光束85S的光束形狀，當(dāng)釆用復(fù)制原盤60F時，復(fù) 制基準(zhǔn)光束85S可以形成為點(diǎn)狀光束，類似于圖14和15所示的復(fù)制基準(zhǔn)光 束85a，或者一維條狀光束，類似于圖16和17所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85b。 此外，當(dāng)采用復(fù)制原盤60G和復(fù)制原盤60H時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S可以形 成為二維放大光束，類似于圖18和19所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85c。
上述制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B至80D中每個為了都可以批量復(fù)制， 用于以復(fù)制全息記錄介質(zhì)的分發(fā)。在這種情況下，如果復(fù)制全息記錄介質(zhì)的 具體區(qū)域留下來作為全息圖未記錄區(qū)域，獲得這樣復(fù)制全息記錄介質(zhì)的人可 以在該未記錄區(qū)域中寫入(附加寫入)必要的記錄數(shù)據(jù)。
在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80B至80D沒有進(jìn)行附加寫入的情況下，希望通 過將缺乏相干性的光照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)來進(jìn)行后處理。該后處理涉及
將留在復(fù)制全息記錄介質(zhì)中的單體變成聚合物的工藝。任何光可以用作照射
光，只要其波長對于該介質(zhì)具有敏感性并且缺乏相千性。例如，LED發(fā)射的
光束可以同時照射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)。這使得復(fù)制全息記錄介質(zhì)失去附加 寫入能力。 (第二變體)
參照圖23,將描述復(fù)制全息記錄介質(zhì)制造階段的制造技術(shù)的第二變體。 該變體代表適合于這樣情況的技術(shù)，其中要制造的復(fù)制全息記錄介質(zhì)的類型 為獲得透射衍射光束而非反射型復(fù)制全息記錄介質(zhì)。
如圖23所示，復(fù)制原盤60F至60H和沒有反射層的復(fù)制全息記錄介質(zhì) 80E以大于每個上述實(shí)施例的間距設(shè)置，該復(fù)制全息記錄介質(zhì)80E是其上沒 有記錄全息圖的復(fù)制全息記錄介質(zhì)，并且具有記錄層80a、支撐基板80b和 支撐基板80c。通過提供圖23所示大小的間距，全息圖由已經(jīng)聚光的衍射光 束95形成在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80E上，當(dāng)采用復(fù)制原盤60F、復(fù)制原盤60G 和復(fù)制原盤60H時，由此分別制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)80F、復(fù)制全息記錄介 質(zhì)80G和復(fù)制全息記錄介質(zhì)80H。
當(dāng)采用上述設(shè)置時，如圖22所示的設(shè)置，通過照射作為S偏振光波的 復(fù)制基準(zhǔn)光束85S到復(fù)制原盤60F產(chǎn)生衍射光束95S,并將衍射光束95S照 射到復(fù)制全息記錄介質(zhì)80E。然而，該衍射光束95S從支撐基板60b側(cè)照射。 在這種情況下，當(dāng)如上所述復(fù)制基準(zhǔn)光束85S的入射角設(shè)定為落入復(fù)制基準(zhǔn) 光束角度區(qū)域ArC所示的區(qū)域范圍時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S不能透射通過偏振 依賴角選擇膜60d。結(jié)果，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S不能到達(dá)復(fù)制全息記錄介質(zhì)80E 的記錄層80a。
另一方面，當(dāng)照射復(fù)制基準(zhǔn)光束85S時產(chǎn)生來自復(fù)制原盤60F至60H 的衍射光束95S,該衍射光束95S以落入衍射光束角度區(qū)域ArD的范圍內(nèi)入 射角入射。衍射光束95S因此透射通過偏振依賴角選擇膜60d。結(jié)果，衍射 光束95S在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80E的記錄層80a中對應(yīng)于衍射光束95S形成 全息圖。然而，因?yàn)椴幌駡D22,沒有提供反射層，所以衍射光束95S從支 撐基板80c出射，而沒有再次返向復(fù)制原盤60F至60H。關(guān)于復(fù)制基準(zhǔn)光束 85S的照射方法，當(dāng)采用復(fù)制原盤60F時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S可以形成為點(diǎn) 狀光束，類似于圖14和15所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85a，或者形成為一維條狀 光束，類似于圖16和17所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85b。當(dāng)采用復(fù)制原盤60G和
復(fù)制原盤60H時，復(fù)制基準(zhǔn)光束85S可以形成為二維放大光束，類似于圖 18和19所示的復(fù)制基準(zhǔn)光束85c。
如上所述制造的每個復(fù)制全息記錄介質(zhì)80F至80H都可以批量復(fù)制，為 了以復(fù)制全息記錄介質(zhì)分發(fā)。在這種情況下，如果復(fù)制全息記錄介質(zhì)的具體 區(qū)域留下作為全息圖未記錄區(qū)域，則獲得這樣復(fù)制全息記錄介質(zhì)的人可以在 該未記錄區(qū)域中寫入(附加寫入)必要的記錄數(shù)據(jù)。在復(fù)制全息記錄介質(zhì)80F 至80H沒有進(jìn)行附加寫入的情況下，希望通過將缺乏相干性的光照射到復(fù)制 全息記錄介質(zhì)來進(jìn)行后處理。
圖24A至24B是示出了以這樣的方法從沒有反射層的復(fù)制全息記錄介 質(zhì)80F至80H中每個制造具有反射層的復(fù)制全息記錄介質(zhì)工藝的示意圖。圖 24A示出了復(fù)制全息記錄介質(zhì)80F至80H之一。圖24B示出了通過賊射等 提供反射層80d的工藝。圖24C示出了通過旋涂等提供保護(hù)層80e的工藝。
(第三變體)
現(xiàn)在將描述圖25所示的第三變體。根據(jù)第三變體，當(dāng)在復(fù)制原盤60E 上記錄全息圖時，在調(diào)制同軸光束75bp臨時聚光后，全息圖記錄在記錄層 60a中。這里，物鏡39用作聚光調(diào)制同軸光束75bp的物鏡，對于復(fù)制全息 記錄介質(zhì)產(chǎn)生的光程差被預(yù)先校正。當(dāng)采用上述的物鏡39時，使得例如圖 20所示的假擬玻璃61a不再必要，這證明了物鏡39和復(fù)制原盤60E可以設(shè) 置得彼此靠近的優(yōu)點(diǎn)。根據(jù)上述的第三變體所獲得的復(fù)制原盤與復(fù)制原盤 60F至60H具有相同的構(gòu)造。
在上述的第一至第三變體的每一個中，是采用物鏡38與假擬玻璃61a 的組合還是采用物鏡39可以以任意的方式來選擇。此外，在第一至第三變 體的每個中，該描述針對于采用這樣的組合的情況，其中調(diào)制同軸光束和原 盤制造基準(zhǔn)光束形成為P偏振光波，而復(fù)制基準(zhǔn)光束形成為S偏振光波。然 而，通過采用這樣的膜設(shè)計以使得圖21所示的透射特性顛倒P偏振光波和 S偏振光波，則可以采用一種組合，其中調(diào)制同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束 形成為S偏振光波，而復(fù)制基準(zhǔn)光束形成為P偏振光波。此外，在第一至第 三變體的每個中，該描述針對于復(fù)制原盤60E具有形成在復(fù)制原盤上的偏振 依賴角選擇膜60d的情況。然而，還可以形成偏振依賴角選擇板，其具有類 似于圖12所示的角選擇板90的結(jié)構(gòu)，并且包括設(shè)置在玻璃基板上的偏振依 賴角選擇膜，作為獨(dú)立的構(gòu)件，并且使用該偏振依賴角選擇板代替圖12所
示的角選擇板卯，以由此制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)。
(復(fù)制原盤形狀與復(fù)制全息記錄介質(zhì)形狀的變體) 雖然上面的描述針對于復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)都是盤狀的情況， 但是復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)可以是卡片型(矩形或者正方形)。也是 在這種情況下，可以采用上述相同的原理來制造復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介 質(zhì)，而且此外，還可以采用上述相同的原理來提供復(fù)制原盤的制造設(shè)備和復(fù) 制全息記錄介質(zhì)的制造設(shè)備。
就是說，當(dāng)制造盤狀復(fù)制原盤時，通過光點(diǎn)在切線(圓周方向)和徑向 (半徑的方向)上的運(yùn)動，全息圖橫跨復(fù)制原盤的二維表面形成。另一方面，
在卡片型復(fù)制原盤的情況下，通過在沿著X和Y軸的兩個相互垂直的方向 上掃描光點(diǎn)和卡片型復(fù)制原盤的相對位置，全息圖形成在二維的表面上。對 于復(fù)制原盤制造設(shè)備，除了該復(fù)制原盤制造設(shè)備包括在X軸和Y軸方向上 改變光點(diǎn)和卡片型復(fù)制原盤的相對位置的機(jī)構(gòu)外，其可以原樣采用上述制造 盤狀復(fù)制原盤情況所釆用的制造設(shè)備的構(gòu)造。
此外，在復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造中，在復(fù)制全息記錄介質(zhì)通過二維掃 描被制造的情況下，如果復(fù)制全息記錄介質(zhì)是盤狀，則通過在切線方向(圓 周方向)和徑向(半徑的方向)上移動光點(diǎn)來在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全 息圖。另一方面，在卡片型復(fù)制全息記錄介質(zhì)的情況下，通過在沿著X和Y 軸的相互垂直的方向上掃描光點(diǎn)與卡片型復(fù)制原盤的相對位置在復(fù)制全息 記錄介質(zhì)上形成全息圖。此外，在通過在一維方向上掃描光束制造復(fù)制全息 記錄介質(zhì)的情況下，通過掃描在垂直于光束延伸方向的一維方向上延伸的一 維光束，在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖。此外，在采用具有二維區(qū)域的 光束的情況下，作為盤狀復(fù)制全息記錄介質(zhì)的情況，光束同時照射。
此外，在復(fù)制原盤制造設(shè)備中，當(dāng)復(fù)制原盤是盤狀時，為了使得復(fù)制全 息記錄介質(zhì)的制造容易，需要例如使得基準(zhǔn)光束和復(fù)制原盤的轉(zhuǎn)動之間同步 的操作。然而，在制造卡片型復(fù)制原盤的情況下，其中制造設(shè)備參照X軸和 Y軸定義的垂直坐標(biāo)系統(tǒng)運(yùn)行，則并不需要復(fù)雜的處理，因此可以簡化復(fù)制 原盤制造設(shè)備的機(jī)構(gòu)。
上述的每種實(shí)施方式都僅是對本發(fā)明一個實(shí)施例的說明，并且本發(fā)明不 限于上述的實(shí)施例。例如，復(fù)制原盤或復(fù)制全息記錄介質(zhì)的形狀不限于盤狀 或卡片型，并且復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)各層的結(jié)構(gòu)不限于上述實(shí)施例
的結(jié)構(gòu)。理所當(dāng)然，本發(fā)明的范圍覆蓋屬于相同技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)的實(shí)施例的 任何和所有的變體和組合。
權(quán)利要求
1、一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，該復(fù)制原盤用于在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，該設(shè)備包括光束分裂器，將來自激光源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束；空間光調(diào)制器，對該同軸光束進(jìn)行空間光調(diào)制以產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同軸設(shè)置；聚光裝置，用于將該調(diào)制同軸光束聚光到該復(fù)制原盤的記錄層，同時預(yù)先校正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差；和全息圖形成位置移動裝置，用于移動該記錄層的位置，在該記錄層中由于該原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全息圖。
2、 一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，該復(fù)制原盤用于在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上 復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，該設(shè)備包括光束分裂器，將來自激光源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束；空間光調(diào)制器，對該同軸光束進(jìn)行空間光調(diào)制，以產(chǎn)生調(diào)制同軸光束， 其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同軸設(shè)置；聚光裝置，用于將該調(diào)制同軸光束聚光到該復(fù)制原盤的記錄層；和全息圖形成位置移動裝置，用于移動該記錄層的位置，在該記錄層中由 于該原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全息圖，其中該復(fù)制原盤具有其中記錄全息圖的記錄層以及具有偏振依賴角選擇膜，圖的透射率而與入射角無關(guān)，以及對于偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的光 束具有根據(jù)光束入射角而變化的透射率，并且將在該預(yù)定方向上偏振的該原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束照射 到該復(fù)制原盤。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造復(fù)制原盤的設(shè)備， 其中該聚光裝置包括物鏡和假擬玻璃，并且該〃假擬玻璃預(yù)先^f交正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造復(fù)制原盤的設(shè)備，其中該聚光裝置由將該調(diào)制同軸光束聚光到該復(fù)制原盤的記錄層的物 鏡形成，該物鏡具有預(yù)先校正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差的 光程差。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造復(fù)制原盤的設(shè)備， 其中該全息圖形成位置移動裝置具有主軸電動機(jī)，該主軸電動機(jī)使以盤狀形成的該復(fù)制原盤繞其中心點(diǎn)轉(zhuǎn)動。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造復(fù)制原盤的設(shè)備，其中該原盤制造基準(zhǔn)光束的入射方向與該主軸電動機(jī)的主軸電動機(jī)轉(zhuǎn) 動軸的轉(zhuǎn)角同步移動。
7、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造復(fù)制原盤的設(shè)備，其中該原盤制造基準(zhǔn)光束的入射方向、棱鏡的位置、該調(diào)制同軸光束關(guān) 于光軸的位置以及顯示在該空間光調(diào)制器上的圖像與該主軸電動機(jī)的主軸 電動機(jī)軸的轉(zhuǎn)角同步轉(zhuǎn)動。
8、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該設(shè)備包括定位裝置，將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)置在預(yù)定的相對位置；角選擇板，設(shè)置在該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，該角選擇板 具有角選擇膜，其透射率根據(jù)光束的入射角而變化；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置，用于產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的 入射角照射該復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得該復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過該復(fù)制原盤記錄 層的預(yù)定區(qū)域，并且由該角選擇膜反射。
9、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該設(shè)備包括定位裝置，將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)置在預(yù)定的相對位置；偏振依賴角選擇板，設(shè)置在該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，并 且具有偏振依賴角選擇膜，該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于具有預(yù)定偏振方 向的光束具有在該復(fù)制全息記錄介質(zhì)上足以形成全息圖的透射率而與入射 角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的光束具有根據(jù)光束入射 角而變化的透射率；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置，用于產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的 入射角照射具有偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的該復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得該 復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過該復(fù)制原盤記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由該偏振依賴角 選擇膜反射。
10、根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備， 其中該復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置包括 激光源，產(chǎn)生具有點(diǎn)型的復(fù)制基準(zhǔn)光束；和主軸電動機(jī)，將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)一起轉(zhuǎn)動，以及 移動車，移動該主軸電動機(jī)，該主軸電動機(jī)和該移動車用于將該復(fù)制基 準(zhǔn)光束照射到該預(yù)定區(qū)域。
11 、根據(jù)權(quán)利要求8或9所迷的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備， 其中該復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置包括 激光源，產(chǎn)生具有點(diǎn)型的復(fù)制基準(zhǔn)光束；變形棱鏡，將該具有點(diǎn)型的復(fù)制基準(zhǔn)光束成形為具有條狀的復(fù)制基準(zhǔn)光 束；和主軸電動機(jī)，將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)一起轉(zhuǎn)動，并且用于 將該復(fù)制基準(zhǔn)光束照射到該預(yù)定區(qū)域。
12、 根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備， 其中該復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生及照射裝置包括激光源，產(chǎn)生具有點(diǎn)型的復(fù)制基準(zhǔn)光束；第 一 變形棱鏡，將該具有點(diǎn)型的復(fù)制基準(zhǔn)光束成形為具有條狀的復(fù)制基 準(zhǔn)光束；和第二變形棱鏡，通過放大該具有條狀的復(fù)制基準(zhǔn)光束的橫向?qū)挾?，將?具有條狀的復(fù)制基準(zhǔn)光束成形為具有覆蓋該預(yù)定區(qū)域的寬度的復(fù)制基準(zhǔn)光束。
13、 一種用于將載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上的盤 狀復(fù)制原盤，包括記錄層，其中已經(jīng)形成有該全息圖；和偏振依賴角選纟奪膜，構(gòu)造成對于具有預(yù)定偏振方向的光束具有足以形成 該全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，并且對于偏振方向不同于該預(yù)定偏振方 向的光束具有根據(jù)光束入射角而變化的透射率。
14、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法，其中載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖被復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該方法包括下面的步驟在該復(fù)制原盤的記錄層和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層之間設(shè)置角選 擇膜，該角選擇膜構(gòu)造成具有根據(jù)光束的入射角而變化的透射率；并且以這樣的入射角照射復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得該復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過其中 已經(jīng)形成有全息圖的該復(fù)制原盤的記錄層，并且由該角選擇膜反射。
15、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的方法，其中載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖被復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該方法包括如下步驟在該復(fù)制原盤的記錄層和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)的記錄層之間設(shè)置偏振 依賴角選擇膜，該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于具有預(yù)定偏振的光束具有足 以在該復(fù)制全息記錄介質(zhì)上形成全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，并且對于射率；并且以這樣的入射角照射具有偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的復(fù)制基準(zhǔn) 光束，使得該復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過其中已經(jīng)形成有全息圖的該復(fù)制原盤的 記錄層，并且由該偏振依賴角選擇膜反射。
16、 一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，該復(fù)制原盤用于在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上 復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，該設(shè)備包括光束分裂器，將來自激光源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光束；空間光調(diào)制器，對該同軸光束進(jìn)行空間光調(diào)制，以產(chǎn)生調(diào)制同軸光束， 其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同軸設(shè)置；聚光部分，將該調(diào)制同軸光束聚光到該復(fù)制原盤的記錄層，同時預(yù)先校 正復(fù)制該復(fù)制全息記錄介質(zhì)時所產(chǎn)生的光程差；和全息圖形成位置移動部分，移動該記錄層的位置，在該記錄層中由于該 原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全息圖。
17、 一種制造復(fù)制原盤的設(shè)備，該復(fù)制原盤用于在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上 復(fù)制載有記錄數(shù)據(jù)的全息圖，該設(shè)備包括光束分裂器，將來自激光源的光束分裂成同軸光束和原盤制造基準(zhǔn)光 束；空間光調(diào)制器，對該同軸光束進(jìn)行空間光調(diào)制，以產(chǎn)生調(diào)制同軸光束，其中預(yù)定基準(zhǔn)光束和對應(yīng)于記錄數(shù)據(jù)的信號光束同軸設(shè)置；聚光部分，將該調(diào)制同軸光束聚光到該復(fù)制原盤的記錄層；和 全息圖形成位置移動部分，移動該記錄層的位置，在該記錄層中由于該原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束之間的干涉而形成全息圖， 其中該復(fù)制原盤具有其中記錄全息圖的記錄層以及具有偏振依賴角選擇膜， 該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于具有預(yù)定偏振方向的光束具有足以形成該 全息圖的透射率而與入射角無關(guān)，對于偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的光 束具有才艮據(jù)光束入射角而變化的透射率，并且將偏振在該預(yù)定方向上的該原盤制造基準(zhǔn)光束和該調(diào)制同軸光束照射 到該復(fù)制原盤。
18、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該設(shè)備包括.'定位部分，構(gòu)造成將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)置在預(yù)定的相 對位置；角選擇板，設(shè)置在該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，該角選擇板 具有角選擇膜，其透射率根據(jù)光束的入射角而變化；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生和照射部分，產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入射 角照射該復(fù)制基準(zhǔn)光束， -使得該復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過該復(fù)制原盤的記錄層 的預(yù)定區(qū)域，并且由該角選擇膜反射。
19、 一種制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備，其將載有記錄數(shù)據(jù)并且形成在 復(fù)制原盤上的全息圖復(fù)制在復(fù)制全息記錄介質(zhì)上，該設(shè)備包括定位部分，構(gòu)造成將該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)置在預(yù)定的相 對位置；偏振依賴角選擇板，設(shè)置在該復(fù)制原盤和該復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，并 且具有偏振依賴角選擇膜，該偏振依賴角選擇膜構(gòu)造成對于具有預(yù)定偏振方 向的光束具有在該復(fù)制全息記錄介質(zhì)上足以形成全息圖的透射率而與入射 角無關(guān)，角而變化的透射率；和復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生和照射部分，產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入射 角照射具有偏振方向不同于該預(yù)定偏振方向的該復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得該復(fù)制 基準(zhǔn)光束透射通過該復(fù)制原盤的記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由偏振依賴角選擇 膜反射。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種復(fù)制全息記錄介質(zhì)的制造方法與設(shè)備及復(fù)制原盤與制造設(shè)備，該制造復(fù)制全息記錄介質(zhì)的設(shè)備包括定位部分，構(gòu)造成將復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)設(shè)置在預(yù)定的相對位置；角選擇板，設(shè)置在復(fù)制原盤和復(fù)制全息記錄介質(zhì)之間，該角選擇板具有角選擇膜，其透射率根據(jù)光束的入射角而變化；以及復(fù)制基準(zhǔn)光束產(chǎn)生和發(fā)射部分，產(chǎn)生復(fù)制基準(zhǔn)光束，并且以這樣的入射角照射該復(fù)制基準(zhǔn)光束，使得該復(fù)制基準(zhǔn)光束透射通過該復(fù)制原盤記錄層的預(yù)定區(qū)域，并且由角選擇膜反射。
文檔編號G03H1/04GK101110227SQ20071013691
公開日2008年1月23日 申請日期2007年7月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月21日
發(fā)明者田中富士, 酒匂景康 申請人:索尼株式會社