專利名稱：基板的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在以規(guī)定的角度傾斜的立起狀態(tài)下搬運(yùn)基板的同時(shí)用處 理液或氣體等流體進(jìn)行處理的基板的處理裝置。
背景技術(shù)：
在用于液晶顯示裝置的玻璃基板上形成電路圖案，采用光刻工藝在 基板上形成電路圖案。眾所周知，光刻工藝是在上述基板上涂敷抗蝕劑， 對(duì)該抗蝕劑隔著形成有電路圖案的掩膜照射光。
接著，除去抗蝕劑的沒(méi)照射光的部分或照射了光的部分，對(duì)基板的 除去了抗蝕劑的部分進(jìn)行蝕刻。并且，通過(guò)重復(fù)多次蝕刻后除去抗蝕劑 的一連串的工序，在上述基板上形成電路圖案。
在這樣的光刻工藝中，上述基板需要如下工序用顯影液、蝕刻液
或蝕刻后除去抗蝕劑的剝離液等處理液處理基板的工序；再通過(guò)沖洗液 清洗的工序；在清洗后用氣體除去附著殘留在基板上的沖洗液的干燥工 序。
過(guò)去，對(duì)基板進(jìn)行上述的一連串處理的情況下，用水平配置軸線的 搬運(yùn)輥，將上述基板以大致水平的狀態(tài)依次向分別進(jìn)行各種處理的處理 腔搬運(yùn)，在各處理腔中利用處理液進(jìn)行處理，或在處理后噴射壓縮氣體 來(lái)進(jìn)行干燥處理。
但是，最近用于液晶顯示裝置的玻璃制基板有大型化及薄型化的傾 向。因此，當(dāng)水平搬運(yùn)基板時(shí)，搬運(yùn)輥之間的基板撓曲增大，因此，發(fā) 生各處理腔中的處理不能在基板的板面整體上均勻進(jìn)行的情況。
而且，若基板大型化，設(shè)有搬運(yùn)該基板的搬運(yùn)輥的搬運(yùn)軸變長(zhǎng)。并 且，通過(guò)基板大型化，供給到基板上的處理液增加，與基板上的處理液 的量對(duì)應(yīng)地施加在上述搬運(yùn)軸上的載荷增大，所以由于這些情況而導(dǎo)致 搬運(yùn)軸的撓曲變大。因此，基板還由于搬運(yùn)軸彎曲而產(chǎn)生撓曲，有時(shí)不 能進(jìn)行均勻的處理。
因此，在用處理液處理基板時(shí)，為了防止上述基板因處理液的重量 而彎曲，所以進(jìn)行如下處理，即，以規(guī)定的傾斜角度、例如從垂直狀態(tài)
傾斜15度的75度角搬運(yùn)基板，并向位于傾斜方向的上側(cè)的前面噴射處理 液，由此來(lái)處理該基板的前面。
若傾斜搬運(yùn)基板，并向該基板的前面噴射供給處理液，則處理液不 停留在基板的板面上，在板面上從上方朝向下方順滑地流動(dòng)，因此，可 以防止因處理液的重量導(dǎo)致基板彎曲。
將基板以規(guī)定角度傾斜搬運(yùn)的同時(shí)進(jìn)行處理的處理裝置的情況下， 如專利文獻(xiàn)l所示，在腔內(nèi)設(shè)有對(duì)成為基板的傾斜方向下側(cè)的背面進(jìn)行支 持的支持輥和支持下端的驅(qū)動(dòng)輥。驅(qū)動(dòng)輥安裝在驅(qū)動(dòng)軸上，該驅(qū)動(dòng)軸通 過(guò)驅(qū)動(dòng)源被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
在上述處理裝置中，多個(gè)上述支持輥和上述驅(qū)動(dòng)輥在上述基板的搬 運(yùn)方向上以規(guī)定間隔配置在腔內(nèi)。因此，上述基板由上述支持輥支持背 面的同時(shí)，下端被上述驅(qū)動(dòng)輥驅(qū)動(dòng)，向規(guī)定方向搬運(yùn)。
專利文獻(xiàn)l:(日本)特開2004-210511號(hào)公報(bào)。
但是，對(duì)于處理液的種類來(lái)說(shuō)，為了提高其效果，從噴嘴體例如以 0.7MPa左右的較高的壓力向被搬運(yùn)的基板前面噴射處理液。
另一方面，在腔內(nèi)，多個(gè)基板在前后方向隔開規(guī)定間隔被依次搬運(yùn)。 即，在腔內(nèi)搬運(yùn)的位于搬運(yùn)方向下游側(cè)的基板的后端和位于上游側(cè)的基 板的前端之間有間隙，在這樣的搬運(yùn)狀態(tài)下，從上述噴嘴體連續(xù)噴射上 述處理液。
因此，從上述噴嘴體噴射的處理液不僅噴射在基板的前面，還通過(guò) 前后方向一對(duì)的基板的前端和后端之間的間隙，與腔的后壁的內(nèi)表面沖
與腔的后壁的內(nèi)表面沖突的處理液，由其內(nèi)表面反射而與被搬運(yùn)的 基板的背面接觸。因此，由支持輥支持背面來(lái)搬運(yùn)的基板，由于與其背 面接觸的處理液的作用而從支持輥上浮起。
若基板從支持輥上浮起，則基板的搬運(yùn)狀態(tài)變得不穩(wěn)定，在浮起較 大的情況下，與形成在腔的端部壁的使基板通過(guò)的縫隙相撞或損傷基板， 有怕不能搬運(yùn)的顧慮。
用處理液處理的基板進(jìn)行如下處理，即，用沖洗液進(jìn)行清洗，接著
從去液刀(液切《9于一 7 )噴射氣體將附著在基板的板面的處理液除去。 在去液處理時(shí)，從去液刀噴射的氣體與腔的后壁的內(nèi)表面沖撞，由該內(nèi) 表面反射而與搬運(yùn)的基板接觸。因此，背面被支持輥支持并被搬運(yùn)的基 板，由于去液用的氣體的作用有時(shí)也從支持輥上浮起。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，即使向基板噴射的處理液或氣體 等流體與腔的后壁內(nèi)表面沖撞而反射，也難以與搬運(yùn)該流體的基板的背 面接觸。
本發(fā)明的基板的處理裝置，將基板以規(guī)定的角度傾斜搬運(yùn)的同時(shí)用
流體處理，其特征在于，具備
腔；
支持輥，設(shè)在該腔內(nèi)，并支持上述基板的傾斜方向下側(cè)的背面； 驅(qū)動(dòng)輥，將由上述支持輥支持背面的上述基板的下端，用該驅(qū)動(dòng)輥 的外周面支持并旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，由此將上述基板在規(guī)定方向上搬運(yùn)；
流體供給機(jī)構(gòu)，向上述基板的傾斜方向上側(cè)的前面噴射上述流體；
及
流體回流防止部件，設(shè)置在與被搬運(yùn)的上述基板的背面對(duì)置的上述 腔的后壁內(nèi)表面，防止從上述流體供給機(jī)構(gòu)噴射后沖撞上述腔的上述后 壁內(nèi)表面而反射的流體與上述基板的背面接觸。
根據(jù)該本發(fā)明，從噴嘴體噴射而與腔的后壁內(nèi)表面沖撞的流體，通 過(guò)流體回流防止部件阻止與基板的背面接觸，因此，防止在腔內(nèi)搬運(yùn)的 基板從支持輥上浮起。


圖l是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的斜視圖。
圖2是設(shè)有上述處理裝置的腔的縱截面圖。
圖3是表示供液管與液體回流防止部件的配置關(guān)系的一個(gè)腔的縱截 面圖。
圖4是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的供液管和液體回流防止部件的 配置關(guān)系的、省略腔的局部的縱截面圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照

該發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1至圖4表示該發(fā)明的第一實(shí)施方式。圖1是表示本發(fā)明的處理裝置 的概略結(jié)構(gòu)的斜視圖，該處理裝置具有裝置主體l。該裝置主體l將被分 割的多個(gè)處理單元、在該實(shí)施方式中為第一至第五處理單元1A 1E可分解 地連結(jié)成一列而成。
各處理單元1A 1E具有架臺(tái)2。在該架臺(tái)2的前面，箱狀的腔3以規(guī)定 的角度被傾斜保持。在上述架臺(tái)2和腔3的上面設(shè)有上部搬運(yùn)部4。在上述 架臺(tái)2的下端的寬度方向兩端可分解地設(shè)有板狀的一對(duì)腳體5 (僅圖示一 方)。通過(guò)該腳體5，在上述架臺(tái)2的下面?zhèn)刃纬煽臻g部6。
在上述空間部6中，收容將控制裝置等設(shè)備7放置在框架8上的設(shè)備部 9，上述控制裝置用于控制在上述腔3中供給在如后述那樣進(jìn)行-的基板W 的處理中使用的藥液或沖洗液等處理液的儲(chǔ)液槽、泵、或者處理液的供
給。即，各處理單元1A 1E中，用腳體5支持架臺(tái)2，在腔3的下方形成空 間部6，從而分為位于上下方向的腔3、上部搬運(yùn)部4及設(shè)備部9這三個(gè)部 分。
上述腔3以規(guī)定的角度即例如從垂直的狀態(tài)傾斜15度的、即相對(duì)于水 平面為75度的角度傾斜并保持在上述架臺(tái)2上，在寬度方向的兩側(cè)面形成 有縫隙13 (圖l中僅示出l個(gè)部位)，該縫隙13用于通過(guò)以75度的角度傾 斜搬運(yùn)的基板W。
在上述腔3的內(nèi)部，如圖2和3所示，在腔3的寬度方向上以規(guī)定間隔 設(shè)有構(gòu)成傾斜搬運(yùn)機(jī)構(gòu)的多個(gè)搬運(yùn)軸15。在該搬運(yùn)軸15上沿軸向以規(guī)定 間隔可旋轉(zhuǎn)地設(shè)有多個(gè)支持輥14。上述搬運(yùn)軸15的上端及下端分別由托 架15a支持，以使上述搬運(yùn)軸15的軸線與上述縫隙13以相同的角度傾斜。
在上述腔3內(nèi)，基板W從上述縫隙13通過(guò)圖1的點(diǎn)劃線所示的第一姿 勢(shì)變換部16從水平狀態(tài)變換為75度的角度而搬入。g卩，未處理的基板W 通過(guò)上述上部搬運(yùn)部4從第五處理單元1E側(cè)向第一處理單元1A側(cè)搬運(yùn)，由 上述第一姿勢(shì)變換部16從水平狀態(tài)傾斜75度的角度，搬入上述第一處理 單元1A。
搬入第一處理單元1A的腔3內(nèi)的基板W由設(shè)置在上述搬運(yùn)軸15上的 支持輥14支持非器件面即背面。該基板W的下端由驅(qū)動(dòng)輥17 (示于圖2) 的外周面支持。
上述驅(qū)動(dòng)輥17設(shè)置在驅(qū)動(dòng)單元18的旋轉(zhuǎn)軸19上。并且，通過(guò)該旋轉(zhuǎn) 軸19被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，下端被驅(qū)動(dòng)輥17支持、背面被上述支持輥14支持的上 述基板W，在上述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)方向上被搬運(yùn)。
在搬運(yùn)方向上游側(cè)的第一至第三處理單元1A 1C，用作為處理液的 剝離液去除基板W上的抗蝕劑后，在第四處理單元1D，利用作為處理液 的沖洗液對(duì)基板W進(jìn)行清洗處理。并且，在第五處理單元1E，利用熱風(fēng)
等流體進(jìn)行干燥處理。
依次通過(guò)各處理單元1A 1E來(lái)處理的塞板W，在以75度的角度傾斜的 狀態(tài)下從上述第五處理單元1E搬出。從第五處理單元1E搬出的基板W，
在圖1的點(diǎn)劃線所示的第二姿勢(shì)變換部23，其姿勢(shì)從傾斜狀態(tài)變換為水平
狀態(tài)后移交到下一工序。
如圖2所示，上述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)18具有沿著腔3的寬度方向(基板W的搬 運(yùn)方向)長(zhǎng)的板狀的下部底座部件24。在該下部底座部件24的上面，長(zhǎng) 度與下部底座部件24相同的腔狀的上部底座部分25設(shè)置成固定兩側(cè)下 端。
在上述上部底座部件25上，大小與上述下部底座部件24大致相同的 平板狀的安裝部件26的寬度方向的一端部和另一端部被連結(jié)設(shè)置成相對(duì) 于上部底座部件25可調(diào)節(jié)傾斜度。B卩，上述安裝部件26可以在腔3的前后
方向調(diào)節(jié)傾斜角度。
在上述安裝部件26的寬度方向的一端和另一端，在上述安裝部件26 的長(zhǎng)度方向，多個(gè)托架31以規(guī)定間隔分別設(shè)置在對(duì)應(yīng)于寬度方向的位置。 在寬度方向?qū)?yīng)的一對(duì)托架31上，由未圖示的軸承可旋轉(zhuǎn)地支持著上述 旋轉(zhuǎn)軸19的軸方向的中途部。在該旋轉(zhuǎn)軸19的前端安裝有上述驅(qū)動(dòng)輥17， 在后端安裝有第一齒輪33。
并且，若將腔3設(shè)置在上述架臺(tái)2上，則在該架臺(tái)2上設(shè)置的支持部41 的上面，通過(guò)螺釘42安裝固定桿狀的4根基準(zhǔn)部件35的下端面。在上述驅(qū) 動(dòng)單元18中，下部底座部件24的四角部下面通過(guò)螺釘42安裝固定在上述 基準(zhǔn)部件35的上端面。4根基準(zhǔn)部件35的上端面位于同一平面上。因此， 驅(qū)動(dòng)單元18在其下部底座部件24的寬度方向及長(zhǎng)度方向上不產(chǎn)生歪斜而 被安裝固定。
在將基準(zhǔn)部件35的上端部作為基準(zhǔn)向腔3內(nèi)組裝上述驅(qū)動(dòng)單元18時(shí)， 被驅(qū)動(dòng)單元18支持的多個(gè)旋轉(zhuǎn)軸19的后端部，從開設(shè)在腔3的前壁12b上 的導(dǎo)出孔44向驅(qū)動(dòng)室45突出。并且，將驅(qū)動(dòng)單元18組裝在腔3內(nèi)之后，上 述第一齒輪33嵌合在上述旋轉(zhuǎn)軸19的后端上。
在上述驅(qū)動(dòng)室45中設(shè)有驅(qū)動(dòng)源51。在該驅(qū)動(dòng)源15的輸出軸上嵌合有 驅(qū)動(dòng)滑輪53。在該驅(qū)動(dòng)滑輪53和從動(dòng)滑輪54上拉緊設(shè)有帶55。上述驅(qū)動(dòng) 滑輪54沿同軸設(shè)有未圖示的第二齒輪。該第二齒輪與上述第一齒輪33嚙
合。由此，若驅(qū)動(dòng)源51動(dòng)作，上述旋轉(zhuǎn)軸19被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，因此設(shè)在該旋 轉(zhuǎn)軸19的前端的上述驅(qū)動(dòng)輥17也被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
若驅(qū)動(dòng)輥17被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，由這些驅(qū)動(dòng)輥17支持下端的基板W被向上 述驅(qū)動(dòng)輥17的旋轉(zhuǎn)方向搬運(yùn)。
在向上述基板W的前面噴射剝離液進(jìn)行抗蝕劑的去除的第一至第三 處理單元1A 1C，在基板W的搬運(yùn)方向上，以規(guī)定間隔設(shè)有作為供給管的 多個(gè)供液管61，該多個(gè)供液管61與傾斜搬運(yùn)的基板W的傾斜方向的上側(cè) 的面、即形成有電路圖形的前面平行地隔開對(duì)置。
在各供液管61中，在與上述基板W的搬運(yùn)方向交差的軸線方向上以 規(guī)定間隔設(shè)有多個(gè)噴嘴體62。上述供液管61和噴嘴體62形成該發(fā)明的處
理液供給機(jī)構(gòu)。
在上述供液管61上以0.7MPa左右的較高的壓力供給剝離液，由此， 從設(shè)在供液管61上的噴嘴體62向上述基板W的前面以高壓噴射上述處理 液。
基板W在上述各處理單元1A 1C的腔3內(nèi)以規(guī)定間隔搬運(yùn)，gP，在位 于搬運(yùn)方向下游側(cè)的基板W的后端和位于上游側(cè)的基板W的前端之間， 存在圖3所示的間隙。因此，從上述噴嘴體62朝向基板W的前面噴射的處 理液的一部分通過(guò)上述間隙G與腔3的后壁12c的內(nèi)表面沖撞而反射。
通過(guò)液體回流防止部件65，防止由腔3的后壁12c的內(nèi)表面反射的處 理液與在腔3內(nèi)搬運(yùn)的基板W的背面接觸。上述液體回流防止部件65設(shè)置 在上述腔3的后壁12c的內(nèi)表面的、與位于上述基板W的搬運(yùn)方向上的上 游側(cè)和下游側(cè)的端部的各供液管61相對(duì)置的位置，即一方的液體回流防 止部件65設(shè)置在比位于最上游側(cè)的供液管61稍靠上游側(cè)，另一方的液體 回流防止部件65設(shè)置在比位于最下游側(cè)的供液管61稍靠下游側(cè)。
如圖2所示，上述液體回流防止部件65具有與基板W的高度尺寸大致 相同的長(zhǎng)度尺寸，如圖3所示，截面形狀由垂直壁部65a、傾斜壁部6，、 回流防止壁部65c，形成為鉤形狀，其中垂直壁部65a將基端固定在上述 后壁12c上來(lái)設(shè)置成大致垂直，傾斜壁部65b在該垂直壁部65a的前端以規(guī)
定的傾斜角度例如45度的角度傾斜設(shè)置，回流防止壁部65c在該傾斜壁部 的前端朝向上述后壁12c的內(nèi)表面，與上述垂直壁部65a平行地設(shè)置。
并且，一對(duì)液體回流防止部件65使相互的回流防止壁部65c相對(duì)置， 配置在上述腔3內(nèi)的沿上述基板W的搬運(yùn)方向的兩端部，即如圖3所示配 置在腔3的寬度方向兩端的端壁12a的附近。
在比上述腔3的上部和下部的設(shè)有支持輥14的搬運(yùn)軸15靠后壁12c側(cè) 的上下端部，設(shè)置未圖示的配管或驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的部件等。因此，上述液體 回流防止部件65為了防止與配管或驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的部件等相干擾，如圖2所 示，長(zhǎng)度尺寸設(shè)定得比腔3的高度尺寸短。
因此，在液體回流防止部件65的上端和腔3的頂壁內(nèi)表面之間、以及 下端和底壁內(nèi)表面之間分別形成上部空間部66和下部空間部67。
在位于上述腔3的寬度方向兩端部的上述液體回流防止部件65的上 端部和下端部，分別設(shè)有通過(guò)阻止部件68。圖2表示在液體回流防止部件 65的下端側(cè)的下部空間部67所設(shè)置的通過(guò)阻止部件68，該通過(guò)阻止部件 68的截面形狀為大致L字形，其基端68a固定在上述腔3的端壁12a的內(nèi)表 面，中途部68b與上述腔3的后壁12c平行，與上述液體回流防止部件65的 下端面卡合。并且，前端部68c向上述液體回流防止部件65的回流防止壁 部65c側(cè)突出，朝向上述后壁12c側(cè)大致彎曲成直角。
在上述液體回流防止部件65的上端側(cè)的上部空間部66上，與下部空 間部67同樣地設(shè)有通過(guò)阻止部件68 。
設(shè)置在液體回流防止部件65的上端側(cè)的通過(guò)阻止部件68、和設(shè)置在 下端側(cè)的通過(guò)阻止部件68分別設(shè)置在上述上部空間部66和上述下部空間 部67的整個(gè)高度方向全長(zhǎng)上。即，無(wú)間隙地設(shè)置在各空間部66、 67的高 度方向上。
因此，通過(guò)了以規(guī)定間隔搬運(yùn)的基板W的前后端之間的上述間隙G的 處理液的一部分與腔3的后壁12c的內(nèi)表面沖撞而反射后，即使通絲形成 在上述液體回流防止部件65的上下端的上部空間部66和下部空間部67，
通過(guò)了各空間部66、 67的處理液與上下一對(duì)的通過(guò)阻止部件68的內(nèi)表面 沖撞，因此可以阻止朝向基板W的背面飛散。
在這樣構(gòu)成的處理裝置中，向第一至第三處理單元lA 1C的腔3內(nèi)， 以規(guī)定間隔依次搬入多個(gè)基板W。從設(shè)在供液管61的噴嘴體62，向搬入 腔3內(nèi)基板W的前面噴射處理液。因此，由處理液處理基板W的前面。
從上述噴嘴體62噴射的處理液的一部分有可能通過(guò)以規(guī)定間隔搬運(yùn) 的基板W的前端和后端之間的間隙G (如圖3所示)，與腔3的后壁12c的 內(nèi)表面沖撞，并由該內(nèi)表面反射而與在腔3內(nèi)搬運(yùn)的基板W的背面接觸。 該情況下，基板W的背面從支持輥14上浮起，有搬運(yùn)狀態(tài)變得不穩(wěn)定， 或不能通過(guò)形成在腔3的寬度方向的兩側(cè)壁的縫隙13等的情況。
但是，在腔3的后壁12c的內(nèi)表面設(shè)有液體回流防止部件65。液體回 流防止部件65由垂直壁部65a、傾斜壁部65b及回流防止壁部65c形成為鉤 形狀。
因此，從噴嘴體62噴射而與腔3的后壁12c內(nèi)表面沖撞并由該內(nèi)表面 反射的處理液的一部分，如圖3中箭頭A、 B所示，沿著由上述垂直壁部 65a、傾斜壁部65b及回流防止壁部65c形成的鉤形部分的內(nèi)表面回繞流 動(dòng)，不會(huì)與在腔3內(nèi)搬運(yùn)的基板W的背面沖撞，因此，基板W的搬運(yùn)狀態(tài)
不會(huì)變得不穩(wěn)定。
由一對(duì)液體回流防止部件65捕獲而被阻止回流到基板W的背面的處
理液是由腔3的后壁12c的內(nèi)表面反射的處理液的一部分，殘留的處理液 有可能與基板W的背面沖撞。
但是，即使由一對(duì)液體回流防止部件65捕獲的處理液是一部分，由 腔3的后壁12c的內(nèi)表面反射而作用于基板W的處理液的力量被削弱，由 此，可以防止破壞基板W的順滑的搬運(yùn)狀態(tài)。
上述液體回流防止部件65是具有以規(guī)定角度傾斜的傾斜壁部65b的 鉤形狀。因此，從噴嘴體62噴射后通過(guò)了被搬運(yùn)的基板W的前后端之間 的間隙G的處理液即使與上述傾斜壁部65b的外表面沖撞，如圖3中箭頭C 所示，也向與其傾斜角度對(duì)應(yīng)的方向反射。因此，由上述傾斜壁部65b的
外表面反射的處理液幾乎不回到基板w的內(nèi)面，由此也難以破壞基板w
的搬運(yùn)狀態(tài)。
在上述液體回流防止部件65的上下端與腔3的頂壁內(nèi)表面及底壁內(nèi) 表面之間，分別形成有上部空間部66和下部空間部67。因此，通過(guò)以規(guī) 定間隔搬運(yùn)的基板W的前后端之間的間隙G后，在腔3的后壁12c的內(nèi) 表面反射的處理液的一部分，有可能通過(guò)上述上部空間部66和下部空間 部67，在腔3的端壁12a的內(nèi)面反射后與基板W的背面接觸。
68，該通過(guò)阻止部件68阻止由腔3的后壁12c反射的處理液通過(guò)上部空 間部66和下部空間部67。
因此，如圖3中箭頭F所示，即使通過(guò)上述間隙G由腔3的后壁12c 反射的處理液通過(guò)形成在上述液體回流防止部件65的上下端的上部空間 部66和下部空間部67，也與設(shè)在各空間部66、 67的通過(guò)阻止部件68的 中間部68b的內(nèi)表面沖撞，并朝向腔3的后壁12c側(cè)反射。
朝向腔3的后壁12側(cè)反射的處理液在腔3的端壁12a的內(nèi)面朝向后 壁12c側(cè)反射后，與后壁12c沖撞而衰減。
因此，即使處理液通過(guò)形成在液體回流防止部件65的上下端的上部 空間部66和下部空間部67，也利用通過(guò)阻止部件68阻止朝向基板W的 背面反射，因此能夠可靠地防止通過(guò)了各空間部66、 67的處理液與基板 W的背面沖撞。
圖4表示該發(fā)明的第二實(shí)施方式。該實(shí)施方式中，對(duì)應(yīng)于一個(gè)供液管 61 ，將2個(gè)液體回流防止部件65配置在與上述供液管61的兩側(cè)對(duì)應(yīng)的位 置，即配置在比供液管61稍靠上游側(cè)和下游側(cè)的位置。
若這樣配置液體回流防止部件65，則從一個(gè)供液管61的噴嘴體62噴 射而在腔3的后壁12c的內(nèi)面反射的處理液的大部分，如箭頭D所示，由一 對(duì)液體回流防止部件65捕獲，被阻止由腔3的后壁12c的內(nèi)表面反射而回 到基板W的背面，因此，可以使基板W的搬運(yùn)狀態(tài)更加穩(wěn)定。 、
并且，雖未圖示，但可以在圖4所示的液體回流防止部件65的上下端， 設(shè)置如第一實(shí)施方式所示的通過(guò)阻止部件68。
本發(fā)明不僅可以適用于用剝離液處理基板的情況，還可以適用于用 純水等其它處理液進(jìn)行處理的情況，并且，還可以適用于從噴嘴體噴射 混合了氣體和液體的混合流體的情況。并且，取代液體，在為了去除附 著在基板上的液體而通過(guò)例如氣刀等噴射去液用的氣體的情況下，也可 以適用本發(fā)明。重點(diǎn)在于，只要是液體或氣體等的流體以高壓向基板噴 射的情況就可以適用。
液體回流防止部件的上端和腔的頂壁內(nèi)表面之間可以不設(shè)置配管等 而空著。在這樣的情況下，能夠使液體回流防止部件的上端與腔的頂壁 內(nèi)表面接觸，因此可以僅在液體回流防止部件的下端側(cè)設(shè)置通過(guò)阻止部 件。
另外，在位于腔的寬度方向兩端的端壁附近的液體回流防止部件的 上下端設(shè)置通過(guò)阻止部件，但是，在腔的端壁附近以外的部位設(shè)置液體 回流防止部件的情況下，可以在該液體回流防止部件的上下端或至少在 下端設(shè)置通過(guò)阻止部件。
權(quán)利要求
1.一種基板的處理裝置，將基板以規(guī)定的角度傾斜搬運(yùn)的同時(shí)用流體處理，其特征在于，具備腔；支持輥，設(shè)在該腔內(nèi)，并支持上述基板的傾斜方向下側(cè)的背面；驅(qū)動(dòng)輥，將由上述支持輥支持背面的上述基板的下端，利用該驅(qū)動(dòng)輥的外周面支持并旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，由此將上述基板在規(guī)定方向上搬運(yùn)；流體供給機(jī)構(gòu)，向上述基板的傾斜方向上側(cè)的前面噴射上述流體；及流體回流防止部件，設(shè)置在與被搬運(yùn)的上述基板的背面對(duì)置的上述腔的后壁內(nèi)表面，防止從上述流體供給機(jī)構(gòu)噴射后沖撞上述腔的上述后壁內(nèi)表面而反射的流體與上述基板的背面接觸。
2. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述流體回 流防止部件包括垂直壁部，前端朝向上述基板的背面方向地設(shè)置在上 述腔的后壁內(nèi)表面；傾斜壁部，以規(guī)定角度傾斜設(shè)置在該垂直壁部的前 端；及回流防止壁部，朝向上述后壁內(nèi)表面彎曲設(shè)置在該傾斜壁部的前 端，阻止由該后壁內(nèi)表面反射的流體朝向上述基板的背面飛散。
3. 如權(quán)利要求l所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述流體回 流防止部件的長(zhǎng)度尺寸被設(shè)定成比上述腔的上下方向的尺寸短，在上述 流體回流防止部件的上下端部中的至少下端部設(shè)置有通過(guò)阻止部件，該 通過(guò)阻止部件防止與上述腔的上述后壁內(nèi)表面沖撞而反射的流體通過(guò)上 述流體回流防止部件的下端后與上述基板的背面接觸。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述通過(guò)阻 止部件設(shè)置在沿著上述基板的搬運(yùn)方向的上述腔的端部。
5. 如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述流體 供給機(jī)構(gòu)沿著上述基板的搬運(yùn)方向以規(guī)定間隔配置，由供給上述流體的 多個(gè)供給管及設(shè)置在各供給管的多個(gè)噴嘴體構(gòu)成；上述流體回流防止部件配置在與位于上述基板的搬運(yùn)方向上游側(cè)的 端部和下游側(cè)的端部的各供給管對(duì)應(yīng)的位置。
6.如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述流體 供給機(jī)構(gòu)由供給上述流體的供給管及設(shè)置在該供給管的多個(gè)噴嘴體構(gòu) 成；上述流體回流防止部件配置在與沿著上述基板的搬運(yùn)方向的上述供 給管的兩側(cè)對(duì)應(yīng)的位置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板的處理裝置，防止以規(guī)定的角度傾斜搬運(yùn)的基板從支持背面的支持輥上浮起。一種基板的處理裝置，將基板以規(guī)定的角度傾斜搬運(yùn)并用處理液處理，具備腔(3)；支持輥(14)，設(shè)在腔內(nèi)，并支持基板的傾斜方向下側(cè)的背面；驅(qū)動(dòng)輥(17)，將由支持輥支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，由此在規(guī)定方向上搬運(yùn)基板；噴嘴體(62)，向基板的傾斜方向上側(cè)的前面噴射處理液；及流體回流防止部件(65)，設(shè)置在與被搬運(yùn)的基板的背面對(duì)置的腔的后壁內(nèi)表面，防止從噴嘴體噴射后沖撞腔的壁內(nèi)表面而反射的處理液與基板的背面接觸。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK101114573SQ20071013675
公開日2008年1月30日 申請(qǐng)日期2007年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月27日
發(fā)明者廣瀨治道, 石川大輔, 磯明典, 西部幸伸 申請(qǐng)人:芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社