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構(gòu)造薄膜鏡的方法

文檔序號:2726157閱讀:223來源:國知局
專利名稱:構(gòu)造薄膜鏡的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種構(gòu)造薄膜鏡的方法。
技術(shù)背景薄膜鏡是已知的。它們用來在圖像顯示設(shè)備中產(chǎn)生大視場顯示器。 圖像顯示設(shè)備可為仿真、休閑、可視化或計算機設(shè)計提供顯示器。在用于仿真的顯示器中,薄膜鏡一般用作準(zhǔn)直(collimated)或近似準(zhǔn)直 的離軸顯示器的部件。薄膜鏡還用于例如太陽能收集器和望遠鏡之類 的其它應(yīng)用中。薄膜鏡利用薄膜構(gòu)造。該薄膜通常是聚合物薄膜,例如聚對苯二 曱酸乙二酯,或其它的適用的薄膜。薄膜具有一個已經(jīng)鍍鋁以提供反 射面的表面。薄膜鏡的幾何精度是確定鏡的品質(zhì)以及鏡的實用性的主要因素。 在圖像顯示設(shè)備中尤其如此。不是平面薄膜鏡的薄膜鏡一般利用吸室 構(gòu)造。這種非平面薄膜鏡的幾何精度取決于吸室邊緣的精度、將薄膜 加到吸室邊緣的方法和當(dāng)向薄膜的任一側(cè)施加差壓時薄膜的變形。非平面的、彎曲的薄膜鏡可利用具有各種形狀的吸室形成。對于 球面鏡,吸室的邊緣一般處于球的表面上。吸室的圓形邊緣由小圓限 定,該小圓是由球和未經(jīng)過該球中心的平面相交形成的圓。替代地, 吸室可被用于利用具有復(fù)雜邊緣的吸室來構(gòu)造球面鏡,該復(fù)雜邊緣包 括小圓的部分、或大圓的部分、或小圓的部分和大圓的部分的組合。 大圓是由球和經(jīng)過該球中心的平面相交形成的。具有復(fù)雜邊緣的這類 吸室用來形成在用于仿真用途的準(zhǔn)直圖像顯示設(shè)備中使用的薄膜鏡。用于形成薄膜鏡的薄膜最初為一大張。該薄膜在沒有初始張力的 情況下被加到吸室。薄膜中的張力在施加吸力或差壓時產(chǎn)生,并且該 薄膜被反吸到吸室中。當(dāng)薄膜中的張力在薄膜整個表面上接近均一時,將會得到理想的形狀。眾所周知,以這種方式構(gòu)造的薄膜鏡具有性能 不令人滿意的區(qū)域,因為在這個區(qū)域薄膜中的張力不均一。這個區(qū)域 一般是薄膜鏡的邊界區(qū)域,該邊界區(qū)域是薄膜的鄰近吸室邊緣的部分。 在邊界區(qū)域,薄膜鏡的幾何形狀不夠精確而不能使用,因此多數(shù)情況 下這個區(qū)域不得不被覆蓋或遮擋以便不會看到。這個不可用的邊界區(qū)域被稱為鏡不工作區(qū)域(deadband)。鏡的不工作區(qū)域可能包括薄膜鏡的相當(dāng)大的部分。這又要求薄膜鏡被構(gòu)造為比假設(shè)整個薄膜鏡能夠使用的情況下大很多。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種制造薄膜鏡的方法,這種方法減少了鏡 的不工作區(qū)域。因此,在本發(fā)明的一個非限制性實施例中,提供一種構(gòu)造薄膜鏡 的方法,該方法包4舌(i) 將薄膜附接到吸室,該吸室具有用來附接薄膜并且處于要構(gòu) 造的薄膜鏡所需的幾何形狀的邊緣;(ii) 向吸室施加部分真空以便將張力引入該薄膜中;(iii) 調(diào)整部分真空以便形成該薄膜鏡,但是薄膜鏡僅在薄膜鏡的 一部分上達到所需幾何形狀;(iv) 設(shè)置第一張緊裝置并局部調(diào)整第一張緊裝置以便使薄膜鏡的 達到所需幾何形狀的部分增加,該第一張緊裝置在離吸室的邊緣基本 上均一的第一距離處鄰近吸室的邊緣與薄膜表面接觸;和(v) 設(shè)置第二張緊裝置并局部調(diào)整第二張緊裝置以便使薄膜鏡的 達到所需幾何形狀的部分進一步增加,該第二張緊裝置在離吸室的邊 緣基本上均一的第二距離處鄰近第一張緊裝置與薄膜表面接觸,該第 二距離大于第一張緊裝置離吸室的邊緣的第一距離。與通過已知方法制造的相同尺寸的鏡相比,通過本發(fā)明的方法制 造的薄膜鏡減少了鏡的不工作區(qū)域。通過減少鏡的不工作區(qū)域,本發(fā) 明的方法使得能夠構(gòu)造具有相同的可用區(qū)域或視場的更小的鏡。因為 鏡子更小,它們能比已知的可比較的鏡子價格低廉。因此,通過本發(fā)明的方法制造的薄膜鏡與通過傳統(tǒng)方法制造的薄膜鏡相比具有改進的 性能,并且這種改進的性能導(dǎo)致鏡子價格更低廉以及生產(chǎn)成本更低廉。本發(fā)明的方法優(yōu)選為薄膜是聚合物薄膜。優(yōu)選地,該聚合物是聚 對苯二甲酸乙二酯。然而可以采用其它的聚合物。薄膜鏡可具有鏡面。該鏡面優(yōu)選為鍍鋁鏡面??梢圆捎闷渌愋偷溺R面o本發(fā)明的方法可以是一種使用真空泵來施加部分真空的方法。 吸室可具有圓形邊緣輪廓。吸室可具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾 何形狀的邊緣,該幾何形狀是球形。替代地,吸室可具有處于要構(gòu)造 的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,該幾何形狀是環(huán)形。替代地,吸室可具 有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,該幾何形狀是橢圓形。替 代地,吸室可具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,該幾何形 狀是拋物線形。第一張緊裝置可以是與薄膜鏡的表面接觸的單個的連續(xù)張緊裝 置。替代地,第一張緊裝置可以包括兩個或多個分離的部件。第一張緊裝置可以是柔性的張緊裝置。替代地,第一張緊裝置可 以是半剛性的張緊裝置。第一張緊裝置可以具有圓形橫截面。替代地,第一張緊裝置可以 具有半圓形橫截面。第一張緊裝置可以局部調(diào)整。第二張緊裝置可以是與該薄膜鏡的表面接觸的單個的連續(xù)張緊裝 置。替代地,第二張緊裝置可以包括兩個或多個分離的部件。笫二張緊裝置可以是柔性的張緊裝置。替代地,第二張緊裝置可 以是半剛性的張緊裝置。第二張緊裝置可以具有圓形橫截面。替代地,第二張緊裝置可以 具有半圓形橫截面。第二張緊裝置可以局部調(diào)整。通過本發(fā)明的方法制造的薄膜鏡可被用在圖像顯示設(shè)備中。該圖 像顯示設(shè)備可以是準(zhǔn)直圖像顯示設(shè)備。該準(zhǔn)直圖像顯示設(shè)備可以是離軸準(zhǔn)直圖像顯示設(shè)備。替代地,該薄膜鏡可被用在望遠鏡中。替代地, 該薄膜鏡可被用在太陽能收集器中。當(dāng)被用于各種應(yīng)用中時,為了使 薄膜鏡保持所需幾何形狀,薄膜鏡通常被附接到吸室?,F(xiàn)在僅僅通過舉例的方式并根據(jù)下述實施例給出根據(jù)本發(fā)明的構(gòu) 造薄膜鏡的方法。實例首先將薄膜附接到吸室的邊緣。吸室的邊緣通常處于要制造的薄 膜鏡的幾何形狀。將薄膜附接到吸室,這時薄膜只有很小的張力或者 沒有張力。降低吸室中的壓力,在吸室中產(chǎn)生部分真空。較大的外部 空氣壓力迫使薄膜伸展,將張力引入薄膜中。設(shè)置第一張緊裝置,并且局部調(diào)整與薄膜鏡的表面接觸的該第一 張緊裝置。該局部調(diào)整通過對著薄膜較大或較小程度地推壓第一張緊 裝置,同時監(jiān)測薄膜鏡的幾何形狀來實現(xiàn)。薄膜鏡的可用區(qū)域增加。 不可用的邊界區(qū)域減少。舉例來說,如果第一張緊裝置是半剛性的或 柔性的桿,則該張緊裝置將張力引入薄膜鏡的邊界部分的程度可以局 部改變,以便可以補償任何局部的變化或不規(guī)則情況。這種調(diào)整伴隨 著反復(fù)調(diào)整和確定該薄膜鏡性能的過程,直到獲得令人滿意的結(jié)果。 第一張緊裝置鄰近吸室的邊緣抵靠著薄膜鏡的表面設(shè)置。該第一張緊 裝置位于鏡的不工作區(qū)域,并且該第一張緊裝置具有增加薄膜鏡的可 用中央部分的作用,即減少不工作區(qū)域的作用。設(shè)置也與薄膜鏡的表面接觸的第二張緊裝置。該第二張緊裝置在 第一張緊裝置的遠離吸室的邊緣的一側(cè)鄰近第一張緊裝置設(shè)置。該第 二張緊裝置也可局部調(diào)整,對著薄膜較大或較小程度地推壓該第二張 緊裝置同時監(jiān)測薄膜鏡的幾何形狀。該第二張緊裝置鄰近第一張緊裝 置設(shè)置但是也位于不可用的區(qū)域內(nèi)、即不工作的邊界區(qū)域內(nèi)。如果遵 循類似的反復(fù)過程來調(diào)整第二張緊裝置,由于通過第二張緊裝置將張 力引入不工作區(qū)域中,薄膜鏡的可用的部分進一步增加。通過在吸室處于部分真空的情況下將第一和第二張緊裝置與薄膜鏡一起使用,薄 膜的達到所需幾何形狀并因此可用的部分大于在不使用第一和第二張緊裝置的情況下可用的部分。因此與制造薄膜鏡的已知方法相比,這種方法使得可由吸室獲得 的薄膜鏡的尺寸增加。本發(fā)明的方法對于由接近于其最大尺寸的薄膜 制造的薄膜鏡特別重要。某些薄膜鏡,尤其是用在仿真顯示設(shè)備中的 那些薄膜鏡,在尺寸上受到可用的薄膜原材料的物理尺寸的限制。如 果薄膜的較大部分可制造成達到所需幾何形狀,則可被制造成可用標(biāo) 準(zhǔn)的薄膜鏡的實際尺寸就增加。在本實例中,該薄膜一般是聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。該薄膜一般具有千分之一英寸(25微米)的厚度,具有涂敷到薄膜的表面的鍍 鋁表面??墒褂闷渌愋偷木酆衔锉∧碇圃毂∧ょR。如果采用其它 類型的聚合物薄膜,則這些聚合物薄膜可具有與常用的聚對苯二甲酸 乙二酯薄膜的上述厚度相同或不同的厚度。在本實例中,第一和第二張緊裝置設(shè)置成使得它們在薄膜的位于 吸室外部的一側(cè)接觸薄膜的表面。因此,張緊裝置的橫截面形狀很重 要,因為它與薄膜接觸。第一張緊裝置可具有圓形橫截面,并且可以 是桿或管的形式。第一張緊裝置可以具有柔性或半剛性特性。第一張 緊裝置可以是連續(xù)元件或者它可以包括兩個或多個分離的元件。在采 用兩個或多個分離的元件的情況下,它們可以被連接到一起。如果需 要,第一張緊裝置可采用替代的橫截面形狀。第一張緊裝置設(shè)置為與薄膜接觸并能夠進行局部調(diào)整。換句話說, 能夠?qū)埩σ氲讲糠直∧ぶ幸源笥诨蛐∮诒∧さ钠渌糠值膹埩?。第一張緊裝置設(shè)置為在離開吸室的邊緣一定距離處鄰近吸室的邊 緣與薄膜接觸,該距離是薄膜鏡的總尺寸的一部分。沿著吸室的整個周邊,該距離可以是相同的,或者該距離可以隨著環(huán)繞該周邊的不同 位置而改變。第二張緊裝置可以具有圓形橫截面并且具有桿或管的形式。第二 張緊裝置可以具有柔性或半剛性特性。第二張緊裝置可以是連續(xù)元件 或者它可以包括兩個或多個分離的元件。在采用兩個或多個分離的元 件的情況下,這些分離的元件可以被連接到一起。第二張緊裝置可以采用其它的橫截面形狀。第二張緊裝置設(shè)置為在薄膜的與第一張緊裝置相同的一側(cè)與薄膜 接觸。另外,第二張緊裝置鄰近第一張緊裝置并離開吸室的邊緣的第 二距離,該第二距離大于第一張緊裝置離開吸室的邊緣的第一距離。與制造薄膜鏡的傳統(tǒng)方法相比,應(yīng)當(dāng)注意制造薄膜鏡的傳統(tǒng)方法 將會調(diào)整部分真空以使薄膜鏡的形狀接近所需幾何形狀。然而,通過 傳統(tǒng)制造方法制得的薄膜鏡的可用區(qū)域受到限制并且存在不工作區(qū) 域。這是因為很小的張力或者沒有張力被引入到薄膜的邊界區(qū)域,該 邊界區(qū)域是薄膜的鄰近吸室的邊緣的部分。因此,當(dāng)薄膜處于部分真 空時,該邊界部分并不像薄膜鏡的其它中央部分一樣工作,尤其是并 不伸展。該邊界部分并不處于可提供令人滿意的性能的形式或幾何形 狀。


現(xiàn)在僅僅通過舉例的方式并根據(jù)隨后的附圖描述本發(fā)明的方法,其中圖l是附接有薄膜的吸室的橫截面視圖;圖2是吸室的橫截面視圖,其中部分真空施加到該吸室;圖3是像圖2—樣的橫截面視圖,但是示出了所制造的薄膜鏡的不可用的不工作區(qū)域;圖4是橫截面視圖,示出了其中部分真空施加到吸室的吸室,并且還示出了第一張緊裝置;圖5是像圖4一樣的橫截面,但是還示出了第二張緊裝置;圖6是具有平面圓形邊緣輪廓的吸室的正視圖,并且示出了在圖5中所采用的第一和第二張緊裝置的位置;圖7示出了用來形成薄膜鏡的吸室,該吸室具有非平面的邊緣輪廓,并且還示出了第一和第二張緊裝置的位置;和 圖8是示出了本發(fā)明的方法的各個步驟的流程圖。
具體實施方式
參考圖1,所示出的設(shè)備2包括吸室4,吸室4具有附接到吸室4邊緣的薄膜鏡6。吸室4的內(nèi)部8的氣壓沒有減小。換句話說,沒有 施加部分真空。因此薄膜6沒有處于張力下,并且在吸室8的邊緣之 間保持平面狀態(tài)。該吸室8的全部可用寬度10由虛線表示。圖2示出了包括吸室14的設(shè)備12。該吸室14的內(nèi)部16已處于 部分真空。因此,如所示,薄膜18已被吸進吸室14中。如果薄膜18 受到均一的張力,那么由薄膜18在橫截面上形成的形狀將被描繪為圓 弧。該圓的半徑將隨著薄膜18被吸進吸室14的程度而變化。在這種 理想情況下,薄膜18的可用區(qū)域由虛線20表示并且它保持了吸室16 的總寬度。然而,薄膜18的行為并不均一,因此用來制造薄膜鏡的薄 膜18的可用區(qū)域減小到小于最大可用區(qū)域的區(qū)域。這意味著通過如上 相對于圖1和圖2所述的常規(guī)方法制造的薄膜鏡直到離吸室的邊緣相 當(dāng)大的距離都是不可用的。圖3示出了具有吸室24的設(shè)備22。該吸室24的內(nèi)部26已經(jīng)處 于部分真空。這意味著薄膜28已經(jīng)被反吸進吸室24中。虛線30表示 薄膜28的可能的最大可用范圍。虛線32表示薄膜28的實際可用范圍。 通過比較虛線30、 32可以看出,薄膜28的實際可用范圍顯著小于最 大可用范圍。由薄膜28制造的薄膜鏡的邊界區(qū)域由邊界區(qū)域34、 36 表示。薄膜鏡的這些邊界區(qū)域34、 36是那些有很小的張力或沒有張力、 因此不具有所需薄膜鏡的正確的幾何形狀的區(qū)域。薄膜鏡的表示為區(qū) 域38的區(qū)域是處于薄膜鏡的可用區(qū)域和區(qū)域34之間的過渡區(qū)域。盡 管具有比區(qū)域34大得多的張力,該過渡區(qū)域38仍舊沒有達到薄膜鏡 的所需幾何形狀。這意味著薄膜鏡的在吸室的該邊緣處的不可用的不 工作區(qū)域是區(qū)域34和38的組合。類似地,在吸室24的另一側(cè),不可 用的不工作區(qū)域是區(qū)域36和40的組合。圖4示出了包括吸室44的設(shè)備42。該吸室42的內(nèi)部46已經(jīng)處 于部分真空。這已經(jīng)造成薄膜48被反吸進吸室44中。虛線50表示薄 膜48的可能的最大可用范圍。虛線52表示薄膜48的實際可用范圍。 在橫截面中所示的第一張緊裝置54、 56位于鄰近吸室"的邊緣的位置。該第一張緊裝置54、 56在不工作區(qū)域?qū)埩σ氡∧?8中,并 且減小了作為薄膜48的整個區(qū)域一部分的不工作區(qū)域的大小。不工作 區(qū)域由區(qū)域58、 60、 62和64表示。圖5示出了用來執(zhí)行本發(fā)明的方法的設(shè)備66。該設(shè)備66包括吸 室68。該吸室68的內(nèi)部70已經(jīng)處于部分真空。這已經(jīng)造成薄膜72 被反吸進吸室68中。虛線74表示薄膜72的可能的最大可用范圍。虛 線76表示薄膜72的實際可用范圍。在橫截面中示出了第一張緊裝置 78、 80。所示的第一張緊裝置78、 80設(shè)置為與薄膜72的表面接觸。 第一張緊裝置78、 80已經(jīng)根據(jù)如上所述的本發(fā)明的方法進行了調(diào)整。 在橫截面中示出了第二張緊裝置82、 84。第二張緊裝置82、 84鄰近 第一張緊裝置78、 80設(shè)置,并且在第一張緊裝置78、 80的一側(cè)與薄 膜表面接觸,并且遠離吸室70的邊緣?,F(xiàn)在,薄膜鏡76的可用區(qū)域 大于僅僅使用第一張緊裝置54、 56的圖4中所示的可用區(qū)域52。使 用第二張緊裝置82、 84進一步增加了具有所需幾何形狀的薄膜鏡的比 例。圖6示出了包括附有薄膜106的吸室96的設(shè)備94。薄膜106附 接于吸室98的邊緣。當(dāng)將部分真空施加于吸室98時,薄膜在該室100 的內(nèi)邊緣變形。第一張緊裝置位于由虛線102表示的位置。第二張緊 裝置位于由虛線104表示的位置。圖7示出了包括吸室110的i殳備108。該吸室110不是和圖6所 示的吸室96的情況一樣的圓形。圖7所示的吸室IIO是這樣的,吸室 110的邊緣隨要制造的薄膜鏡的所需幾何形狀而定。在這種情況下, 薄膜鏡將是球形,吸室110的邊緣是該球的局部的小圓和大圓。薄膜 鏡附接于吸室110的邊緣112。當(dāng)部分真空施加于吸室110時,薄膜 將從吸室110的內(nèi)邊緣114變形。第一張緊裝置位于由虛線116表示 的位置。第二張緊裝置由虛線118表示。第一和第二張緊裝置可制作 為單件式的第一和第二張緊裝置,或者它們可制作為一個或多個部件。圖8示出了標(biāo)明在吸室上制造薄膜鏡所采用的方法步驟的流程 圖,所制造的薄膜鏡具有經(jīng)證明的性能并且達到該性能水平的薄膜的比例增加??梢岳斫?,以上參考附圖所述的本發(fā)明的實施例僅僅用于舉例說 明,并且可以進行改進。因此,舉例來說,在橫截面中,所示的第一 和第二張緊裝置為柔性或半剛性的??梢葬娪闷渌臋M截面形狀。此 外,有多種不同方式來使第一和第二張緊裝置與薄膜保持接觸,同時 能夠局部調(diào)整通過第一和第二張緊裝置給予薄膜的張力。舉例來說,局部調(diào)整可通過用于局部調(diào)整第一和第二張緊裝置的一系列可獨立調(diào) 整的桿來實現(xiàn),所述桿被固定到吸室的外部。
權(quán)利要求
1.一種構(gòu)造薄膜鏡的方法,該方法包括(i)將薄膜附接到吸室,該吸室具有用來附接薄膜并且處于要構(gòu)造的薄膜鏡所需的幾何形狀的邊緣;(ii)向吸室施加部分真空以便將張力引入該薄膜中;(iii)調(diào)整部分真空以便形成該薄膜鏡,但是薄膜鏡僅在薄膜鏡的一部分上達到所需幾何形狀;(iv)設(shè)置第一張緊裝置并局部調(diào)整第一張緊裝置以便使薄膜鏡的達到所需幾何形狀的部分增加,該第一張緊裝置在離吸室的邊緣基本上均一的第一距離處鄰近吸室的邊緣與薄膜表面接觸;和(v)設(shè)置第二張緊裝置并局部調(diào)整第二張緊裝置以便使薄膜鏡的達到所需幾何形狀的部分進一步增加,該第二張緊裝置在離吸室的邊緣基本上均一的第二距離處鄰近第一張緊裝置與薄膜表面接觸,該第二距離大于第一張緊裝置離吸室的邊緣的第一距離。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法,其特征在于,該薄膜是聚合物薄膜。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,該聚合物是聚對苯 二甲酸乙二酯。
4. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該薄膜 具有鏡面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,該鏡面是鍍鋁鏡面。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,使用真 空泵來施加部分真空。
7. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該吸室 具有圓形邊緣輪廓。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該吸室 具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,其中該幾何形狀是球形。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法,其特征在于,該吸室具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,其中該幾何形狀是環(huán) 形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法,其特征在于,該吸 室具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,其中該幾何形狀是橢 圓形。
11,根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所述的方法,其特征在于,該吸 室具有處于要構(gòu)造的薄膜鏡的幾何形狀的邊緣,其中該幾何形狀是拋 物線形。
12. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 一張緊裝置是與該薄膜鏡的表面接觸的單個的連續(xù)張緊裝置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項所述的方法,其特征在于,該 第一張緊裝置包括兩個或多個分離的元件。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 一張緊裝置是柔性的張緊裝置。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1-13中任一項所述的方法,其特征在于,該 第 一 張緊裝置是半剛性的張緊裝置。
16. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 一張緊裝置具有圓形橫截面。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1-15中任一項所述的方法,其特征在于,該 第一張緊裝置具有半圓形橫截面。
18. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 一張緊裝置是可局部調(diào)整的。
19. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 二張緊裝置是與該薄膜鏡的表面接觸的單個的連續(xù)張緊裝置。
20. 根據(jù)權(quán)利要求1-18中任一項所述的方法,其特征在于,該 第二張緊裝置包括兩個或多個分離的元件。
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 二張緊裝置是柔性的張緊裝置。
22. 根據(jù)權(quán)利要求1-20中任一項所述的方法,其特征在于,該第二張緊裝置是半剛性的張緊裝置。
23. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 二張緊裝置具有圓形橫截面。
24. 根據(jù)權(quán)利要求1-22中任一項所述的方法,其特征在于,該 第二張緊裝置具有半圓形橫截面。
25. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其特征在于,該第 二張緊裝置是可局部調(diào)整的
全文摘要
一種構(gòu)造薄膜鏡的方法,該方法包括(i)將薄膜(72)附接到吸室(68),該吸室(68)具有用來附接薄膜(72)并且處于要構(gòu)造的薄膜鏡所需的幾何形狀的邊緣;(ii)向吸室(68)施加部分真空以便將張力引入該薄膜(72)中;(iii)調(diào)整部分真空以便形成該薄膜鏡,但是薄膜鏡僅在薄膜鏡的一部分上達到所需幾何形狀;(iv)設(shè)置第一張緊裝置(78、80)并局部調(diào)整第一張緊裝置(78、80)以便使薄膜鏡的達到所需幾何形狀的部分增加,該第一張緊裝置(78、80)在離吸室(68)的邊緣基本上均一的第一距離處鄰近吸室(68)的邊緣與薄膜(72)的表面接觸;和設(shè)置第二張緊裝置(82、84)并局部調(diào)整第二張緊裝置(82、84)以便使薄膜鏡的達到所需幾何形狀的部分進一步增加,該第二張緊裝置(82、84)在離吸室(68)的邊緣基本上均一的第二距離處鄰近第一張緊裝置(78、80)與薄膜(72)的表面接觸,該第二距離大于第一張緊裝置(78、80)離吸室(68)的邊緣的第一距離。
文檔編號G02B26/08GK101218532SQ200680024965
公開日2008年7月9日 申請日期2006年6月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月8日
發(fā)明者R·E·克里克 申請人:Seos有限公司
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