專利名稱：多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型是關(guān)于一種疊制多層晶片的陶瓷薄膜之漿料攪拌筒構(gòu)造；尤指使用在晶片電容、電感或電阻等電子元件積層陶瓷薄膜的制帶漿料攪拌筒構(gòu)造。
本實用新型的另一目的是提供一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，能在連續(xù)供料減量中適當(dāng)?shù)夭倏財嚢杷俾?，使?jié){料被攪動所發(fā)生的氣泡或熱量能易于控制。
本實用新型的再一目的是提供一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，能在漿料被持續(xù)攪拌保持均勻狀態(tài)供料中，以水流控制漿料升降溫，及由檢知的溫度操控適當(dāng)?shù)臄嚢杷俾?，保持漿料適當(dāng)?shù)臏囟裙┫乱恢瞥淘O(shè)備使用。
本實用新型的又一目的是提供一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，能自動或手動的調(diào)整定量漿料供給下一制程設(shè)備使用。
本實用新型的技術(shù)方案是一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是該攪拌筒構(gòu)造包括一設(shè)有封蓋的攪拌筒體；一固定在攪拌筒體封蓋上或筒體下方、其傳動軸穿入攪拌筒體內(nèi)的動力驅(qū)動裝置；一與動力驅(qū)動裝置傳動軸連接的攪拌裝置；一配合攪拌筒體外形形成一夾層空間且連通一進水管和出水管路的溫控機構(gòu)；一支撐攪拌筒體或溫控機構(gòu)的攪拌速控機構(gòu)以及一與攪拌速控機構(gòu)電連接的操控裝置。
圖2是

圖1的I-I方向剖示圖。
圖3是圖2的第二實施例示意圖。
圖4是本實用新型第二實施例的組合剖示圖。
圖5是圖4的II-II方向剖示圖。
圖6是本實用新型第三實施例的組合剖示圖。
圖7是圖6的III-III方向剖示圖。
圖8是本實用新型第四實施例的組合剖示圖。
圖9是本實用新型第五實施例的組合剖示圖。
攪拌筒體1凸緣環(huán)11對稱的連置若干扣具12可拆裝的扣封其封蓋13。封蓋13中心連設(shè)動力驅(qū)動裝置2，及連通有一入料管路14、一排氣管路15和一抽真空管路16，并設(shè)置有壓力計171、真空計172、溫度計173。攪拌筒體1穿設(shè)一出料管路18設(shè)置一供料泵181和一流量控制器182連通下一制程設(shè)備，可以手動或自動的調(diào)節(jié)進料。
動力驅(qū)動裝置2的軸座21固設(shè)在封蓋13的中心軸線上，于軸座21上固置動力驅(qū)動裝置2的動力軸22，連接軸座21內(nèi)樞設(shè)的一傳動軸23，使傳動軸23穿入攪拌筒體1內(nèi)部連接攪拌機構(gòu)3。
攪拌機構(gòu)3轉(zhuǎn)軸31連接動力驅(qū)動裝置2的傳動軸23，一攪拌葉組32對稱的連設(shè)在轉(zhuǎn)軸31上均置于攪拌筒體1內(nèi)。溫控機構(gòu)4對應(yīng)攪拌筒體1的外形制成一溫控筒體41包封呈一夾層空間42，連通一進水管路43和一出水管路44。
如圖2、3所示，攪拌速控機構(gòu)5其平臺51上對稱或幅射狀的固設(shè)若干支腳52，各支腳52頂面各連設(shè)一橫桿53的一端底面，而各橫桿53另端頂面則各固置一支柱54與支腳52呈上下對立狀態(tài)，使各支柱54固連于攪拌筒體1或包封于其外層的溫控筒體41底面承載整體的重量，當(dāng)攪拌筒中的供料重量變化時橫桿53會發(fā)生微小的彎曲現(xiàn)象，在橫桿53上各貼置一片壓感電容55，其可隨著橫桿53的彎曲而彎曲，并與操控裝置6引接導(dǎo)線。
操控裝置6接收壓感電容55彎曲弧度所生成的類比或數(shù)位信號，并將各壓感電容55彎曲弧度變化的信號轉(zhuǎn)換設(shè)定成重量值，以檢知攪拌筒體1內(nèi)的漿料余量值，進而通過動力驅(qū)動裝置2控制傳動攪拌機構(gòu)3的旋轉(zhuǎn)速率。
使用本實用新型時，由攪拌筒體1的入料管路14自動或手動的批量進料，且同時打開排氣管路15溢放攪拌筒體1內(nèi)的空氣后關(guān)閉，即開啟動力驅(qū)動裝置2；此時，因攪拌筒體1內(nèi)是漿料滿載重量，使攪拌速控機構(gòu)5各橫桿53承重呈最大的彎曲弧度，而在供料的減量變化中由操控裝置6檢知彎曲弧度變化的信號，通過動力驅(qū)動裝置2控制攪拌裝置3根據(jù)攪拌筒中供料的變化保持適當(dāng)?shù)男D(zhuǎn)速率。
攪拌裝置3攪動漿料時，若攪拌葉組32和漿料的攪動發(fā)生氣泡，則需抽真空管路16連通真空泵161抽除，或由壓力計171、真空計172檢知導(dǎo)入操控裝置6操控；同時，溫度計173檢知漿料溫度的類比或數(shù)位信號導(dǎo)入操控裝置6，使操作溫控機構(gòu)4的進水管路43引入水流，經(jīng)夾層空間43加溫或降溫攪動的漿料，及操控動力驅(qū)動裝置2適當(dāng)?shù)臄噭铀俾剩刂茲{料在預(yù)定溫度由供料泵181供給下一制程設(shè)備的進料。
如圖4、5所示，本實用新型攪拌速控機構(gòu)5的第二實施例可由一重量計5a完全承載重量，以測知余料多少的類比或數(shù)位信號導(dǎo)入操控裝置6，通過動力驅(qū)動裝置2控制適當(dāng)?shù)男D(zhuǎn)速率，且由若干扶持裝置51a滑持漿料增減量的重量變化時的整體位移。
如圖6、7所示，本實用新型攪拌速控機構(gòu)5的第三實施例是使用液面檢知計5b測知漿料液位高低，若攪拌速率控制得宜，則不會產(chǎn)生氣泡時，可以使用壓力計171檢測漿料液面的空間壓力變化，檢知漿料供料時余量變化的類比或數(shù)位信號，操控裝置6通過動力驅(qū)動裝置2控制適當(dāng)?shù)男D(zhuǎn)速率。
如圖8所示，本實用新型第四實施例是在可控制變量的供料泵181管路設(shè)置一流量計數(shù)器5c，以測知批量進料的漿料由供料泵181連續(xù)進給下一制程設(shè)備的料量所剩的余料變化信號導(dǎo)入操控裝置6，通過動力驅(qū)動裝置2控制適當(dāng)?shù)男D(zhuǎn)速率。
如圖9所示，本實用新型第五實施例是在整體外形適當(dāng)位置對稱的連設(shè)壓感電容55構(gòu)造的攪拌速控機構(gòu)5或重量計5a，以一托架5d支撐檢測攪拌筒體1內(nèi)的余料量，而攪拌裝置3a轉(zhuǎn)軸31a密封的樞穿出攪拌筒體1a底部并與對應(yīng)固設(shè)的動力驅(qū)動裝置2a連接；本實用新型也可將攪拌筒體1內(nèi)漿料通過供料泵181連續(xù)供給下一工程制造中，入料管路14也可持續(xù)進給漿料。
權(quán)利要求1.一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是該攪拌筒構(gòu)造包括一設(shè)有封蓋的攪拌筒體；一固定在攪拌筒體封蓋上或筒體下方、其傳動軸穿入攪拌筒體內(nèi)的動力驅(qū)動裝置；一與動力驅(qū)動裝置傳動軸連接的攪拌裝置；一配合攪拌筒體外形形成一夾層空間且連通一進水管和出水管路的溫控機構(gòu)；一支撐攪拌筒體或溫控機構(gòu)的攪拌速控機構(gòu)以及一與攪拌速控機構(gòu)電連接的操控裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是溫控機構(gòu)與操作裝置電性連接并將溫度變化信號反饋給操作裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是攪拌筒體出料管路上設(shè)有流量計數(shù)器，流量計數(shù)器與操作裝置電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是攪拌速控機構(gòu)是在一平臺上設(shè)置若干支腳，每個支腳與一橫桿連接，橫桿的一端各設(shè)有一用于支撐攪拌筒體的支柱，橫桿的另一端則各貼置一個壓感電容，壓感電容與操控裝置電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是攪拌速控機構(gòu)為一支撐攪拌筒體或溫控機構(gòu)的重量計，重量計與操控裝置電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是重量計上設(shè)有扶持裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，其特征是攪拌筒體上設(shè)有液面檢知計和壓力計，壓力計與操控裝置電連接。
專利摘要一種多層晶片陶瓷薄膜漿料攪拌筒構(gòu)造，該攪拌筒構(gòu)造由攪拌筒體、動力驅(qū)動裝置、攪拌裝置、溫控裝置、攪拌速控機構(gòu)以及操控裝置組成。操控裝置通過攪拌筒內(nèi)漿料用量變化而引起重量變化、壓力變化、流量計量變化的信息反饋、自動調(diào)整攪拌轉(zhuǎn)速，從而保證了陶瓷薄膜產(chǎn)品的質(zhì)量。
文檔編號H01G4/12GK2590142SQ02241110
公開日2003年12月3日 申請日期2002年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年6月28日
發(fā)明者王家煌, 謝財萬 申請人:王家煌, 謝財萬