專利名稱：特別用于極遠紫外(euv)光刻術(shù)中的發(fā)光系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種發(fā)光系統(tǒng)，其特別用于極遠紫外(EUV)光刻術(shù)，該系統(tǒng)包括投影物鏡，該投影物鏡用于以≤193nm的波長制造半導(dǎo)體元件，該系統(tǒng)還包括光源、物平面、出射光瞳，以及用于生成光通道的具有第一柵格元件的第一光學(xué)元件和具有第二柵格元件的第二光學(xué)元件，將第二光學(xué)元件的柵格元件分配給由第一光學(xué)元件的第一柵格元件之一形成的每個光通道，可以通過構(gòu)造或設(shè)置第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件的柵格元件，使每個光通道是從光源到物平面的連續(xù)光束路徑。
本發(fā)明還涉及一種具有上述發(fā)光系統(tǒng)的投影曝光設(shè)備。
背景技術(shù)：
為了減小電子元件的結(jié)構(gòu)寬度，特別是半導(dǎo)體元件的結(jié)構(gòu)寬度，微光刻中所使用的光波長應(yīng)該進一步降低。目前，在光刻中已經(jīng)使用波長≤193nm的光。
這里，適用于EUV光刻術(shù)的發(fā)光系統(tǒng)應(yīng)該均勻地(即平均地)照射為EUV光刻術(shù)而預(yù)先規(guī)定的區(qū)域，特別是物鏡的環(huán)形區(qū)域，同時應(yīng)盡可能地減少反射。另外，應(yīng)與該區(qū)域無關(guān)地照射物鏡的光瞳，直至達到特定的占滿級別(fillinglevel)σ，并且該發(fā)光系統(tǒng)的出射光瞳應(yīng)位于物鏡的入射光瞳處。
關(guān)于一般的現(xiàn)有技術(shù)，可參考US 5,339,346，US 5,737,137，US 5,361,292和US 5,581,605。
EP 0 939 341說明了一種用于EUV范圍的發(fā)光系統(tǒng)，其包括具有大量第一柵格元件的第一光學(xué)積分器和具有大量第二柵格元件的第二光學(xué)積分器。在這種情況中，通過光闌輪盤控制出射區(qū)域內(nèi)的照射分布。然而，如果使用光闌輪盤必然伴有相當(dāng)大的光損耗。然而，所提出的其它解決方案，例如四極照射分布以及通過可互換光學(xué)器件可不同地使用的發(fā)光系統(tǒng)，這些發(fā)光系統(tǒng)首先非常復(fù)雜的，其次是僅限于特殊的照射類型。
DE 199 03 807 A1描述了一種EUV發(fā)光系統(tǒng)，其特別包括兩個具有柵格元件的反射鏡。也可將這種類型的系統(tǒng)稱為雙面EUV發(fā)光系統(tǒng)。在這種情況中，柵格元件在第二反射鏡上的排布確定了出射光瞳的照射。這樣就確定了出射光瞳中的照射或照射分布。
在更早的德國專利申請100 53 587.9中描述了一種發(fā)光系統(tǒng)，其可以通過第一光學(xué)元件的柵格元件與第二光學(xué)元件的柵格元件之間的適當(dāng)組合，在該發(fā)光系統(tǒng)的出射光瞳中設(shè)置預(yù)先確定的照射圖案。利用這種類型的發(fā)光系統(tǒng)，可均勻地照亮在分劃板平面中的區(qū)域，并且利用局部填充的孔徑也可以以可變的方式照射該發(fā)光系統(tǒng)的出射光瞳。這樣可在基本上沒有光損失的情況下，完成在出射光瞳中任何需要的照射分布的可變設(shè)置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種發(fā)光系統(tǒng)，利用該系統(tǒng)就可通過結(jié)構(gòu)解決方案來實際實現(xiàn)早先的發(fā)明申請的基本思想。
根據(jù)本發(fā)明，這個目的是通過以下方法實現(xiàn)的，即可以調(diào)整第一光學(xué)元件的第一柵格元件的角度，以便修改傾斜。此外，也可以單獨地并且彼此無關(guān)地調(diào)整第二光學(xué)元件的第二柵格元件的位置和/或角度，以便通過使第一和第二柵格元件移動和/或傾斜來實現(xiàn)第一光學(xué)元件的第一柵格元件與第二光學(xué)元件的第二柵格元件的不同分配。
通過柵格元件的適當(dāng)移動和/或傾斜，目前就可以獲得可變配置中的光通道。
為了使該區(qū)域中作為柵格元件的場蜂窩結(jié)構(gòu)(field honeycomb)的獨立射線束再次重疊，可相對于光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板(pupil honeycomb plate)或后者的反射鏡支持件，將作為柵格元件的光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)進行適當(dāng)?shù)仄被騼A斜。反射鏡面特別適合作為場蜂窩結(jié)構(gòu)和光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)。
在這種情況下，如果將該系統(tǒng)構(gòu)造成在場蜂窩結(jié)構(gòu)板或第一光學(xué)元件的反射鏡支持件之后具有光源的中間實像的系統(tǒng)，那么同時可將該光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)用作場鏡，該場鏡用于將光源耦合投影到光刻物鏡或投影物鏡的入射光瞳中。
在本發(fā)明的優(yōu)選改進方案中，如果光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板或反射鏡支持件的第二柵格元件(光瞳蜂窩結(jié)構(gòu))的數(shù)目M總大于N，則在出射光瞳中可表現(xiàn)出可變的照射圖案，其中N是根據(jù)已照亮的第一柵格元件(場蜂窩結(jié)構(gòu))的數(shù)目所確定的通道數(shù)。換句話說在這種情況下，在第二光學(xué)元件上所提供的光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)或反射鏡面，將比由第一光學(xué)元件的第一柵格元件制造出的光通道數(shù)所需的更多。如果給定具有包括N個通道的特定場蜂窩結(jié)構(gòu)的特定設(shè)置，則在每個情況下僅對光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)中的某些區(qū)域進行照射。由此導(dǎo)致了對該光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)的分段或部分照射。


利用附圖，從其余附加權(quán)利要求和以下對示例性實施例的基本描述中，表現(xiàn)出本發(fā)明的其他優(yōu)點和改進。其中圖1表示了具有光源、發(fā)光系統(tǒng)和投影物鏡的EUV發(fā)光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)；圖2表示了一個光路的基本示意圖，該光路包括兩個帶有反射鏡面形式的柵格元件的反射鏡以及集光器裝置；圖3表示了另一個光路的基本示意圖，該光路也包括兩個帶有反射鏡面形式的柵格元件的反射鏡以及集光器裝置；圖4表示了具有大量反射鏡面的場蜂窩結(jié)構(gòu)板(反射鏡支持件)形式的第一光學(xué)元件的平面圖；圖5表示了作為反射鏡支持件的光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板形式的第二光學(xué)元件的平面圖，該反射鏡支持件具有大量呈圓形照射的反射鏡面；圖6表示了光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板形式的第二光學(xué)元件的平面圖，該光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板具有大量呈環(huán)形照射的反射鏡面；圖7表示了光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板的平面圖；圖8表示了沿圖7中的VIII-VIII線所得的截面圖；圖9表示了構(gòu)成控制盤的光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板的平面圖；圖10表示了沿圖9中的X-X線所得的截面圖；圖11表示了具有固體接頭的反射鏡面截面的放大圖；圖12表示了根據(jù)圖11的反射鏡面的平面圖；圖13表示了具有另一種安裝類型的反射鏡面截面的放大圖；圖14表示根據(jù)圖13的反射鏡面的平面圖。
具體實施例方式
圖1以一般說明的方式表示了具有完整EUV發(fā)光系統(tǒng)的EUV投影發(fā)光設(shè)備，該發(fā)光系統(tǒng)包括光源1，例如激光-等離子、等離子或箍縮等離子體光源或其他任何一種EUV光源，還包括僅大體表示出的投影物鏡2。除了光源1以外，在該光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置了集光器反射鏡2，例如，該集光器反射鏡2可包括多個彼此排列的罩，還設(shè)置了平面反射鏡3或反射光譜濾波器，具有光源圖像(未示出)的孔徑光闌4，具有大量分段鏡6(參看圖2和3)的第一光學(xué)元件5，其后設(shè)置的、具有大量分段鏡形式的柵格元件8的第二光學(xué)元件7，以及兩個投影反射鏡9a和9b。該投影反射鏡9a和9b用于將第二光學(xué)元件7的分段鏡8投影到投影物鏡2的入射光瞳上。分劃板12可以作為掃描系統(tǒng)在y方向上移動。同時，分劃平面11也構(gòu)成了物平面。
為了提供不同的光通道以調(diào)節(jié)該發(fā)光系統(tǒng)光路中的設(shè)置，例如，第二光學(xué)元件7的反射鏡面8的數(shù)目M大于相對應(yīng)的第一光學(xué)元件5的反射鏡面6的數(shù)目N。在圖1中，出于清楚的原因未示出反射鏡面。在每種情況下，第一光學(xué)元件5的反射鏡面6的傾角可進行獨立地調(diào)節(jié)，而第二光學(xué)元件7的反射鏡面8的傾角和位置均可進行調(diào)節(jié)。在下文中所解釋的圖7到14中，將對這些內(nèi)容進行詳細描述和說明。由于可以傾斜地排列以及移動反射鏡面6和8，所以可在第一光學(xué)元件5和第二光學(xué)元件7之間生成不同的光路以及由此生成不同的光通道。
可將下面的投影物鏡2構(gòu)造為六反射鏡的投影物鏡。將晶片14作為將要曝光的物體設(shè)置在載體裝置13上。
由于能夠調(diào)節(jié)反射鏡面6和8，所以可在該發(fā)光系統(tǒng)的出射光瞳15上實現(xiàn)不同的設(shè)置，與此同時該出射光瞳也形成了投影物鏡2的入射光瞳。
在圖2和3中，利用兩個光學(xué)元件5和7的反射鏡面6和8的不同層和角度，大體上表示出了不同的光通道。與圖1中所示的相比，在這種情況下以簡化的形式表示了該發(fā)光系統(tǒng)(例如相對于光學(xué)元件5和7的位置以及僅具有一個投影反射鏡9)。
在這種情況下，在圖2中所示的表示了更大的占滿系數(shù)σ。
對于σ＝1.0，表示物鏡光瞳被完全占滿；而σ＝0.6意味著未占滿。
在圖2和3中，表示了來自于光源1、經(jīng)由分劃板12到入射光瞳15的光路。
圖4表示了具有多個柵格元件的第一光學(xué)元件5的反射鏡支持件16的平面圖，該柵格元件呈反射鏡面6的形式。該圖表示了142個可單獨調(diào)節(jié)的反射鏡面6，該反射鏡面為呈矩形形狀的場蜂窩結(jié)構(gòu)，將它們呈塊狀排布在由嵌套(nested)集光器反射鏡2照射的區(qū)域中。在每種情況下，可對反射鏡面6的角度進行單獨地調(diào)節(jié)。另外如果需要，可將第二光學(xué)元件7的反射鏡面8在其自身范圍內(nèi)彼此是獨立地移動。
圖5表示了第二光學(xué)元件7的反射鏡支持件16或光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)板的平面圖，光通道成圓形設(shè)置。
圖6表示了第二光學(xué)元件7的反射鏡支持件16的平面圖，該第二光學(xué)元件7具有呈環(huán)形設(shè)置的反射鏡面。另一種可能性在于公知的四極設(shè)置(未示出)。在圖5和6中，在各種情況中照射到的反射鏡面表示為黑色的。
圖7表示第二光學(xué)元件7的反射鏡支持件16的平面圖，該反射鏡支持件16形成了引導(dǎo)盤。該反射鏡支持件16或引導(dǎo)盤設(shè)有大量引導(dǎo)槽(出于清楚的原因，在圖7中僅示出一個引導(dǎo)槽17)，在每種情況下，在該引導(dǎo)槽中引導(dǎo)圓形反射鏡面8。出于該目的，該引導(dǎo)槽17基本上徑向地或以略微彎曲的形式布設(shè)。引導(dǎo)槽17的路線取決于各自的用途以及需要的反射鏡面8的移動方向。
在反射鏡支持件16或引導(dǎo)盤的下面，與之平行并在其上靜止地設(shè)置了控制盤18，其同樣設(shè)有一些與引導(dǎo)槽17對應(yīng)的控制槽19，因此該控制槽也與反射鏡面8相應(yīng)。由此在引導(dǎo)槽17和控制槽19中引導(dǎo)每個反射鏡面8。如果利用驅(qū)動裝置(未示出)，在圖7中箭頭20的方向上移動控制盤18，則反射鏡面8沿著引導(dǎo)槽17向內(nèi)或向外徑向移動。這種移動的所帶來的結(jié)果是改變了光通道的分配并由此改變了照射。這就意味著，通過相對于引導(dǎo)盤16旋轉(zhuǎn)控制盤18，在兩引導(dǎo)槽17和19交點上的關(guān)聯(lián)反射鏡面8就會沿著關(guān)聯(lián)的引導(dǎo)槽17移動。
圖9和10分別表示了第二光學(xué)元件7的反射鏡面8在反射鏡支持件16的引導(dǎo)槽17中移動的改進方案，在每種情況下均提供了驅(qū)動裝置21(僅作基本說明，并在圖9和10中用虛線表示)。在這種情況下，每個反射鏡面8在關(guān)聯(lián)的引導(dǎo)槽17中具有其自己的驅(qū)動器，例如，可以依照已知的壓電毛蟲式(piezoelectric inch-worm)原理提供該驅(qū)動器。
當(dāng)然，為了這個目的，在各種情況下利用其它的驅(qū)動裝置也可以獨立地調(diào)節(jié)反射鏡面8。在每種情況中，如果需要，則取代將驅(qū)動裝置直接安置在引導(dǎo)槽17中，當(dāng)然也可將它們獨立地安置在反射鏡支持件16的下面或后面。
圖11和12表示了第一光學(xué)元件5的反射鏡面6的放大截面圖和平面圖，通過接頭22將反射鏡面6與第一光學(xué)元件5的反射鏡支持件16相連，其中接頭22形成固體接頭。在這種情況下，所有部件可以是一體的，或者每個反射鏡面6具有中央連接板作為接頭22，通過該中央連接板形成了與位于下面的反射鏡支持件16的連接。
通過未具體示出的調(diào)節(jié)器(actuator)23，可相對于反射鏡支持件16傾斜每個反射鏡面6，該調(diào)節(jié)器設(shè)置在反射鏡支持件16與每個反射鏡面6的下側(cè)之間。根據(jù)圖12的平面圖所示，通過設(shè)置在y軸上的調(diào)節(jié)器23以及設(shè)置在x軸上的另一個調(diào)節(jié)器23，提供了在這兩個方向上傾斜的可能性。在這個情況下，兩個調(diào)節(jié)器23在每種情況下均設(shè)置在軸交點之外的分配給它們的軸上。
由于所進行的對每個反射鏡面6的調(diào)節(jié)和傾斜的范圍很小，因此例如可將壓電陶瓷元件用作調(diào)節(jié)器23。
圖13和14描述了一種改進方案，利用該方案可以對反射鏡面6進行更大的傾斜。如從圖13中可看到的，在這個情況下，在反射鏡面6和反射鏡支持件16之間具有中央傾斜接頭或傾斜軸承24。并且本文中調(diào)節(jié)器23也確保了反射鏡面6在x方向和y方向上均可傾斜。為此，在這個情況下，將兩個調(diào)節(jié)器23設(shè)置在兩軸交點之外的y軸上，并且彼此相隔一定距離，并且將另兩個調(diào)節(jié)器23設(shè)置在y軸以外距x軸相同距離的兩側(cè)上(參考圖14)。
通過圖11到14中所示的傾斜轉(zhuǎn)置，可以不僅僅調(diào)節(jié)第一光學(xué)元件5的反射鏡面6，還可按需要并彼此獨立地對第二光學(xué)元件7的反射鏡面8進行調(diào)節(jié)。
不同于具有細長或狹窄矩形形狀的第一光學(xué)元件5的反射鏡面6，第二光學(xué)元件7的反射鏡面8為圓形。然而，這個區(qū)別不影響在圖11到14中所示的傾斜裝置作用的類型或模式。
原則上，同樣可以如圖7到10中所示的相同方式來移動第一光學(xué)元件的反射鏡面6，但實際上通常沒有這個必要；取而代之的是，通常單純的傾斜調(diào)節(jié)就足夠了。
可被磁激活或電激活的調(diào)節(jié)元件也可作為調(diào)節(jié)器23。在這種情況下，調(diào)節(jié)器23可通過控制回路(未示出)連續(xù)地調(diào)節(jié)反射鏡面6和8。同樣，也可以對該驅(qū)動器限定最終位置，在各種情況下，利用該最終位置來為反射鏡面6和8預(yù)先確定兩個精確的傾斜位置。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光系統(tǒng)，特別用于EUV光刻術(shù)，其包括投影物鏡，該投影物鏡用于以≤193nm的波長制造半導(dǎo)體元件，還包括光源、物平面、出射光瞳，以及用于生成光通道的具有第一柵格元件的第一光學(xué)元件和具有第二柵格元件的第二光學(xué)元件，將第二光學(xué)元件的柵格元件分配給由第一光學(xué)元件的第一柵格元件之一形成的每個光通道，可以通過構(gòu)造或設(shè)置第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件的柵格元件，使每個光通道是從光源到物平面的連續(xù)光束路徑，其特征在于，可以調(diào)整第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)的角度，以便修改傾斜，通過傾斜第一柵格元件(8)來實現(xiàn)第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的不同分配。
2.如權(quán)利要求1所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的數(shù)目M大于第一光學(xué)元件(5)的柵格元件(6)的數(shù)目N。
3.如權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于通過第一和第二柵格元件(8)的移動和/或傾斜，可單獨地并且彼此獨立地調(diào)節(jié)第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的位置和/或角度，從而實現(xiàn)第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的不同分配。
4.如權(quán)利要求3所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于將第一柵格元件以第一反射鏡面(6)的形式形成為場蜂窩結(jié)構(gòu)，并且將第二柵格元件以第二反射鏡面(8)的形式形成為光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)，在每種情況下，將第一反射鏡面(6)和第二反射鏡面(8)排列在反射鏡支持件(16)上。
5.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于通過相對于反射鏡支持件(16)傾斜第一光學(xué)元件(5)的反射鏡面(6)，可以調(diào)節(jié)第一和第二光學(xué)元件(5，7)的反射鏡面(6，8)之間的光通道，從而以這種方式實現(xiàn)了第一光學(xué)元件(5)的第一反射鏡面(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)的不同分配，并由此實現(xiàn)了出射光瞳(15)的不同照射圖案。
6.如權(quán)利要求4或5所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于通過相對于反射鏡支持件(16)傾斜并移動第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)，可以調(diào)節(jié)第一光學(xué)元件(5)的第一反射鏡面(6)和第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)之間的光通道。
7.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于在每種情況下，第一光學(xué)元件(5)和/或第二光學(xué)元件(7)的反射鏡面(6，8)通過接頭(22)與關(guān)聯(lián)的反射鏡支持件(16)連接。
8.如權(quán)利要求7所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于接頭(22)形成為固體接頭。
9.如權(quán)利要求7或8所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于可在x方向和/或y方向上傾斜該反射鏡面(6，8)。
10.如權(quán)利要求9所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于在每種情況下，該接頭(22)均設(shè)置在反射鏡面(6，8)的x軸和/或y軸上。
11.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于，為了移動和/或傾斜該反射鏡面(6，8)，在柵格元件(6，8)和反射鏡支持件(16)之間設(shè)置調(diào)節(jié)器(23)。
12.如權(quán)利要求11所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于該調(diào)節(jié)器(23)具有壓電陶瓷調(diào)節(jié)元件。
13.如權(quán)利要求12所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于該調(diào)節(jié)器(23)設(shè)有可被磁或電激活的調(diào)節(jié)元件。
14.如權(quán)利要求11所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于該調(diào)節(jié)器(23)通過控制回路連續(xù)地調(diào)節(jié)柵格元件(6，8)。
15.如權(quán)利要求11所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于為該調(diào)節(jié)器(23)確定最終位置。
16.如權(quán)利要求4所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于該反射鏡面(6，8)可在預(yù)先規(guī)定的路徑上移動。
17.如權(quán)利要求16所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于將凸輪軌道引入反射鏡支持件(16)中，在該凸輪軌道中在每種情況下單獨地引導(dǎo)反射鏡面(6，8)。
18.如權(quán)利要求17所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于反射鏡支持件(16)形成為引導(dǎo)盤，其與控制盤(18)相互作用，在控制盤(18)中設(shè)置了用于移動反射鏡面(6，8)的導(dǎo)軌(19)。
19.如權(quán)利要求18所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于驅(qū)動該控制盤(18)。
20.如權(quán)利要求17所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于在反射鏡支持件(16)中的凸輪軌道中引導(dǎo)每個反射鏡面(6，8)，并且通過驅(qū)動元件可單獨驅(qū)動每個反射鏡面(6，8)。
21.如權(quán)利要求20所述的發(fā)光系統(tǒng)，其特征在于在每種情況下，將驅(qū)動裝置(21)設(shè)置在凸輪軌道中，并且根據(jù)毛蟲式原理單獨移動每個反射鏡面(6，8)。
22.一種用于微光刻的投影曝光裝置，以用于制造半導(dǎo)體元件，其包括發(fā)光系統(tǒng)，還包括投影物鏡，用于以≤193nm的波長制造半導(dǎo)體元件，還包括光源、物平面、出射光瞳，以及用于生成光通道的具有第一柵格元件的第一光學(xué)元件和具有第二柵格元件的第二光學(xué)元件，將第二光學(xué)元件的柵格元件分配給由第一光學(xué)元件的第一柵格元件之一形成的每個光通道，可以通過構(gòu)造或設(shè)置第一光學(xué)元件的柵格元件和第二光學(xué)元件的柵格元件，使每個光通道是從光源到物平面的連續(xù)光束路徑，其特征在于，可以調(diào)整第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)的角度，以便修改傾斜，通過使第一柵格元件(8)傾斜來實現(xiàn)第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的不同分配。
23.如權(quán)利要求22所述的投影曝光裝置，其特征在于第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的數(shù)目M大于第一光學(xué)元件(5)的柵格元件(6)的數(shù)目N。
24.如權(quán)利要求22或23所述的投影曝光裝置，其特征在于單獨地并且彼此獨立地調(diào)節(jié)第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的位置和/或角度，通過移動和/或傾斜第一和第二柵格元件(6)，從而實現(xiàn)第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的不同分配。
25.如權(quán)利要求24所述的投影曝光裝置，其特征在于將第一柵格元件以第一反射鏡面(6)的形式形成為場蜂窩結(jié)構(gòu)，并且將第二柵格元件以第二反射鏡面(8)的形式形成為光瞳蜂窩結(jié)構(gòu)，在每種情況下，將第一反射鏡面(6)和第二反射鏡面(8)排列在反射鏡支持件(16)上。
26.如權(quán)利要求25所述的投影曝光裝置，其特征在于通過相對于反射鏡支持件(16)傾斜第一光學(xué)元件(5)的反射鏡面(6)，可以調(diào)節(jié)第一和第二光學(xué)元件(5，7)的反射鏡面(6，8)之間的光通道，從而以這種方式實現(xiàn)了第一光學(xué)元件(5)的第一反射鏡面(6)與第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)的不同分配，并由此實現(xiàn)了出射光瞳(15)的不同照射圖案。
27.如權(quán)利要求25或26所述的投影曝光裝置，其特征在于通過相對于反射鏡支持件(16)傾斜并移動第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)，可以調(diào)節(jié)第一光學(xué)元件(5)的第一反射鏡面(6)和第二光學(xué)元件(7)的第二反射鏡面(8)之間的光通道。
全文摘要
特別用于極遠紫外光刻、包括以≤193nm的波長制造半導(dǎo)體元件的投影透鏡的發(fā)光系統(tǒng)，設(shè)有光源(1)、物平面(12)、出射光瞳(15)、生成光通道的具有第一柵格元件(6)的第一光學(xué)元件(5)、具有第二柵格元件(8)的第二光學(xué)元件(7)，將第二光學(xué)元件(7)的柵格元件(8)分配給由第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)之一形成的每個光通道。構(gòu)造或設(shè)置第一光學(xué)元件(5)和第二光學(xué)元件(7)的柵格元件(6)，使得對于每個光通道，生成從光源(1)到物平面(12)的連續(xù)光路。調(diào)整第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)的角度以修改傾斜。使第一和第二柵格元件(8)產(chǎn)生位移和/或傾斜，可以不關(guān)聯(lián)單獨調(diào)節(jié)第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)的位置和/或角度，通過另一種分配方式將第一光學(xué)元件(5)的第一柵格元件(6)分配給第二光學(xué)元件(7)的第二柵格元件(8)。
文檔編號G02B17/00GK1650234SQ03809609
公開日2005年8月3日 申請日期2003年4月8日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月30日
發(fā)明者F·梅爾策爾, W·辛格 申請人:卡爾蔡司Smt股份公司