技術(shù)編號：2766877
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種發(fā)光系統(tǒng)，其特別用于極遠(yuǎn)紫外(EUV)光刻術(shù)，該系統(tǒng)包括投影物鏡，該投影物鏡用于以≤193nm的波長制造半導(dǎo)體元件，該系統(tǒng)還包括光源、物平面、出射光瞳，以及用于生成光通道的具有第一柵格元件的第一光學(xué)元件和具有第二柵格元件的第二光學(xué)元件，將第二光學(xué)元件的柵格元件分配給由第一光學(xué)元件的第一柵格元件之一形成的每個光通道，可以通過構(gòu)造或設(shè)置第一光學(xué)元件和第二光學(xué)元件的柵格元件，使每個光通道是從光源到物平面的連續(xù)光束路徑。本發(fā)明還涉及一種具有上述發(fā)光系...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。