專利名稱：新型堿溶性樹脂的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及新型堿溶性樹脂(alkali soluble resin)和包含所述樹脂的平版印刷版前體(precursor)。
背景技術(shù)：
平版印刷機(jī)使用所謂的印刷底版(master)，如安裝在印刷機(jī)滾筒上的印刷版。 底版在其表面上帶有平版印刷圖像，并且通過施用油墨至所述圖像，然后將油墨從底版轉(zhuǎn)印到接受材料(其一般為紙)上得到印刷品。傳統(tǒng)的所謂“濕法”平版印刷，將油墨以及水性潤(rùn)版溶液(也稱作潤(rùn)濕液)提供至由親油的(或疏水的，即受墨(ink-acc印ting)、 斥水(water-impelling))區(qū)域和親水的(或疏油的，即受水(water-acc印ting)、斥墨 (ink-repelling))區(qū)域組成的平版印刷圖像。在所謂無水膠印(driographic printing) 中，平版印刷圖像由受墨和油墨阻粘(ink abhesive)(斥墨)區(qū)域組成，并且在無水膠印中，僅將油墨提供至底版。通常通過被稱為印版前體的成像材料的成像式(image-wise)曝光和處理而獲得印刷底版。除了公知的光敏性的所謂預(yù)敏化印版(其適于通過膜掩模(film mask)紫外線 (UV)接觸曝光)，在20世紀(jì)90年代后期，熱敏的印刷版前體也已經(jīng)非常普及。這種熱材料提供日光穩(wěn)定性的優(yōu)勢(shì)，因而特別是用在所謂電腦直接制版(computer-to-plate)方法中，其中印版前體直接曝光，即不使用膜掩模。該材料對(duì)熱或?qū)t外光曝光，并且產(chǎn)生的熱觸發(fā)(物理)化學(xué)過程，如燒蝕、聚合、聚合物交聯(lián)造成的不溶解、熱致(heat-induced)增溶或熱塑性聚合物膠乳的顆粒凝聚。最普遍的熱敏印版通過堿性顯影劑在涂層的曝光和非曝光區(qū)域之間的熱致溶解性差異形成圖像。該涂層典型地包含親油粘合劑(例如酚醛樹脂)，通過成像式曝光該粘合劑在顯影劑中的溶解速率或減小(陰圖制版)或增大(陽圖制版)。在處理期間，溶解性差異導(dǎo)致涂層非圖像(非印刷)區(qū)域的移除，由此顯露出親水載體，而涂層的圖像(印刷)區(qū)域保留在載體上。此類印版的代表性實(shí)例描述于例如EP-A 625728、823327、825927、 864420、894622和901902中。此類熱材料的陰圖制版實(shí)施方案通常在曝光和顯影之間需要預(yù)熱步驟，如在例如EP-625，728中所述。EP 1 985 445公開了平版印刷版前體，其包含在具有親水表面的載體上的涂層， 該涂層包含紅外(IR)吸收劑和反差放大化合物(contrast enhancing compound)。WO 2007/099047公開了熱敏陽圖型平版印刷版前體，其包含具有親水表面的載體和熱敏涂層，該涂層包含頂吸收劑、酚醛樹脂和堿溶性聚合物，該聚合物包含包括磺酰胺基團(tuán)的特定單體單元。未公布的專利申請(qǐng)EP 8 105 202公開了熱敏陽圖型平版印刷版前體，其包含在具有親水表面的載體上的熱敏性涂層，該涂層包含含有特定堿溶性聚合物的下層和含有酚醛樹脂的上層。在印刷步驟之前、期間和之后，通常用各種液體(例如油墨和/或潤(rùn)版溶液或處理液)處理平版印刷版，以進(jìn)一步改善圖像和非圖像區(qū)域的平版印刷性能。例如油墨和潤(rùn)版溶液可能侵襲涂層，并可能減少印刷耐印力。十分重要的是，涂層對(duì)這些各種各樣的處理液的施用充分耐受，或換言之，具有高的耐化學(xué)性。此外重要的是，基于溶解性差異的陽圖型印刷版前體，在曝光和未曝光區(qū)域的顯影動(dòng)力學(xué)之間展現(xiàn)出充分差異(substantive differentiation)。換言之，在未曝光區(qū)域也開始在顯影劑中溶解之前，曝光區(qū)域在顯影劑中的溶解應(yīng)當(dāng)徹底完成。如果這種差異不是十分顯著，可能造成不充分的清除 (clean-out)，其可能以印版感光度減小、調(diào)色(toning)(非圖像區(qū)域中受墨)和/或油墨在橡皮布(blanket)上積聚而變得明顯。在曝光和未曝光區(qū)域的顯影動(dòng)力學(xué)之間的低差異可能還導(dǎo)致圖像區(qū)域中涂層的損失，特別是小圖像細(xì)節(jié)或所謂高光的損失、印刷耐印力減少和/或耐化學(xué)性降低。發(fā)明概述本發(fā)明的目的是提供新型堿溶性樹脂和提供具有優(yōu)良的平版印刷質(zhì)量和高的耐化學(xué)性的陽圖型平版印刷版。具有高的平版印刷質(zhì)量的印刷版意味著在處理后印版上不顯示污點(diǎn)和在印刷期間不顯示調(diào)色(toning)的印刷版。高的耐化學(xué)性意味著涂層不受或基本不受印刷液(如印刷油墨(例如UV固化性印刷油墨)、潤(rùn)版溶液、印版和橡皮布清潔劑) 的影響。本發(fā)明的目的分別通過權(quán)利要求1和12實(shí)現(xiàn)，S卩，如權(quán)利要求1中所限定的堿溶性樹脂，其特征在于所述樹脂包含含有至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)的第一單體單元和根據(jù)以下結(jié)構(gòu)(I)的第二單體單元
權(quán)利要求
1. 一種堿溶性樹脂，所述樹脂包含第一單體單元和第二單體單元，所述第一單體單元包括至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)，所述第二單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)的單體
2.根據(jù)權(quán)利要求1的堿溶性樹脂，其中所述乙烯型不飽和可聚合基團(tuán)代表丙烯酸酯、 甲基丙烯酸酯、苯乙烯、馬來酰亞胺、丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺基團(tuán)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的堿溶性樹脂，其中所述第二單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)的單體
4.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中所述第二單體單元衍生自選自以下列表的單體
5.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中所述第一單體單元包含由-NRj-S02-、-S02-NRk-代表的磺酰胺基團(tuán)，其中Rj和Rk各自獨(dú)立地代表氫、任選取代的烷基、烷?；⑾┗?、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)、芳基、雜芳基、芳烷基、雜芳烷基或它們的組合。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中包含磺酰胺基團(tuán)的第一單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)的單體其中
7.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中包含磺酰胺基團(tuán)的第一單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)的單體
8.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中，包含磺酰胺基團(tuán)的第一單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)的單體
9.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，其中，包含磺酰胺基團(tuán)的第一單體單元衍生自選自以下單體的單體
10.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂，所述樹脂另外包含一種或多種單體單元， 所述單體單元衍生自選自以下的單體(甲基)丙烯酸烷基酯或芳基酯、(甲基)丙烯酸、 (甲基)丙烯酰胺、N-烷基(甲基)丙烯酰胺或N-芳基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、苯乙烯、乙烯基吡啶、乙酸乙烯酯、乙烯醇、乙烯基乙縮醛、乙烯基丁縮醛、乙烯基醚、乙烯酰胺、己內(nèi)酰胺、乙烯基吡咯烷酮或馬來酰亞胺。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-10的任一項(xiàng)的堿溶性樹脂在平版印刷版中的用途。
12.—種陽圖型平版印刷版前體，所述前體包含在載體上的熱敏和/或光敏涂層，所述載體具有親水表面或提供有親水層，所述涂層包括紅外吸收劑和包含根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的堿溶性樹脂的第一層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的陽圖型平版印刷版前體，其中，所述涂層包含在所述第一層頂部的第二層，所述第二層包含酚醛樹脂。
14.一種制造陽圖型平版印刷版的方法，所述方法包含以下步驟 -提供根據(jù)權(quán)利要求12或13的熱敏平版印刷版前體；-將所述熱敏平版印刷版前體對(duì)熱和/或紅外光成像式曝光； -將所述成像式曝光的前體用含水堿性顯影劑顯影，以使曝光區(qū)域溶解。
15.一種平版印刷方法，所述方法包含以下步驟 (i)提供根據(jù)權(quán)利要求14的印刷版；( )將所得印刷版安裝在印刷機(jī)上，并通過施用油墨和/或潤(rùn)濕液開始印刷。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種堿溶性樹脂，其包含第一單體單元和第二單體單元，所述第一單體單元包括至少一個(gè)磺酰胺基團(tuán)，所述第二單體單元衍生自根據(jù)以下結(jié)構(gòu)(I)的單體，其中R1代表包含乙烯型不飽和可聚合基團(tuán)的結(jié)構(gòu)部分；R2、R3和R4獨(dú)立地代表氫、任選取代的烷基、烯基、炔基、烷芳基、芳烷基、芳基或雜芳基或者形成五至八元環(huán)必需的原子。
文檔編號(hào)B41C1/00GK102300887SQ201080006290
公開日2011年12月28日 申請(qǐng)日期2010年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月30日
發(fā)明者J·洛庫菲爾, P·莫里亞梅, S·林吉爾 申請(qǐng)人:愛克發(fā)印藝公司