專利名稱：：平版印刷板基材的制造方法和可成像元件的制作方法平版印刷板基材的制造方法和可成像元件發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及含鋁基材的制備方法和由這種基材制備的可成像元件，例如平版印刷板前體。
背景技術(shù)：
：在常規(guī)或"濕"平版印刷中，油墨接受區(qū)(稱為圖像區(qū)域)在親水性表面上產(chǎn)生。當(dāng)這種表面用水潤(rùn)濕并施用油墨時(shí)，該親水區(qū)保持水并排斥油墨，油墨接受區(qū)接受油墨并排斥水。將油墨轉(zhuǎn)移到其上將要復(fù)制圖像的材料的表面上。例如，可以首先將油墨轉(zhuǎn)移到中間轉(zhuǎn)印布(blanket)上，它進(jìn)而用于將油墨轉(zhuǎn)移到其上將要復(fù)制圖像的材料的表面上?？捎糜谥苽淦桨嬗∷宓目沙上裨ǔ０ㄊ┘釉诨牡挠H水性表面上的可成像層。這種可成像層包括一種或多種可以分散在適合的粘結(jié)劑中的輻射敏感性組分?；蛘?，所述輻射敏感性組分也可以是粘結(jié)劑材料。在成像之后，通過(guò)適合的顯影劑除去所述可成像層的成像區(qū)或未成像區(qū)，從而使基材的基礎(chǔ)性親水性表面露出。如果除去成像區(qū)域，則元件被認(rèn)為是正性工作的。相反地，如果除去未成像區(qū)域，則元件被認(rèn)為是負(fù)性工作的。在每種情況下，可成像層的保留的區(qū)域(即，圖像面積)是油墨接受性的，而通過(guò)顯影過(guò)程露出的親水表面的區(qū)域接受水和水溶液(通常是潤(rùn)版溶液)并排斥油墨。與可成像元件的類型無(wú)關(guān)，一般使用金屬基材(或"支撐體")例如含鋁或各種金屬組合物的鋁合金的基材進(jìn)行平版印刷。一般通過(guò)表面磨版粗糙化金屬板的表面以確保對(duì)布置在其上的層，通常是可成像層有良好粘附，和改進(jìn)未成像區(qū)域在印刷期間的保水性。此類鋁支撐型可成像元件本領(lǐng)域中有時(shí)稱為平板印刷板或平版印刷板的前體。各種鋁支撐材料和它們的制備方法在美國(guó)專利5,076,899(Sakaki等人)和5,518,589(Matsura等人)中進(jìn)行了描述。為了制備用于平版印刷元件的含鋁基材，可以處理粗鋁的連續(xù)網(wǎng)幅(web)，例如，使用圖l中示意性顯示的步驟序列處理。一般從展開(kāi)段1取得連續(xù)鋁網(wǎng)幅經(jīng)過(guò)從該鋁網(wǎng)幅除去油和碎屑的去脂段2、堿性蝕刻段3、第一漂洗段4、磨版段5(可以包括機(jī)械或電化磨版或兩者)、第二漂洗段6、磨版后酸性或堿性蝕刻段7、第三漂洗段8、使用適合的酸以提供陽(yáng)極氧化物涂層的陽(yáng)極化段9、第四漂洗段IO、后處理段n、最后或第五漂洗教12^千燥段13,然后重繞或通過(guò)涂覆站以便施用于可成^象層配方。在陽(yáng)極化段中，處理鋁網(wǎng)幅以在其表面上形成氧化鋁層，以致它將展現(xiàn)在印刷過(guò)程中必需的高度耐機(jī)械磨損性。這一氧化物層已經(jīng)具有某種程度的親水性，這對(duì)具有高的水親合性和排斥印刷墨是重要的。然而，該氧化物層是如此活性的以致可以與可成像元件中的可成像層的組分相互作用。該氧化物層可以部分或完全覆蓋鋁基材表面。在后處理段(上面圖l所述的后處理段ll)中，用親水性保護(hù)層(本領(lǐng)域中也稱為"封條"、"亞層(sublayer)"或"中間層")覆蓋氧化物層以提高其親水性，然后施加一種或多種可成^f象層配方?？梢酝ㄟ^(guò)在后處理溶液中浸漬網(wǎng)幅或通過(guò)將所述溶液噴霧到網(wǎng)幅上(用任選的回收罐、過(guò)濾器和流體輸送系統(tǒng))施加親水性保護(hù)層。適合的中間層還可以確保在顯影期間從基材容易地除去可成像層的可溶區(qū)域，從而不留下殘余物和提供清潔的親水性背景。親水性中間層還可以保護(hù)氧化鋁層免受高度堿性顯影劑顯影期間的防腐和防止自可成像層的染料穿透。已經(jīng)描述了各種有機(jī)物質(zhì)用于此目的。一般而言，這些物質(zhì)是具有官能團(tuán)例如羧基、磺酸、膦酸、巰基、羥基或胺基的聚合物。膦?；〈墓柩跬橛H水性保護(hù)層在WO2006/021446(Fiebag等)中進(jìn)行了描述。美國(guó)專利7,049,048(Hunter等)描述了相同用途的乙烯基共聚物?；蛘撸垩趸﹤?cè)鏈的共聚物也可以用于親水性保護(hù)層，如WO2006/028440(Strehmel等)所述。其它親水性保護(hù)層由包括聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸/丙烯酸(VPA/AA)共聚物和聚(丙烯酸)(PAA)的配方制備，例如美國(guó)專利4,153,461(Berghauser等)和EP0537633B1(Elsaesser等)中所述。美國(guó)專利6,218,075(Kimura等)描述了用聚(乙烯基膦酸)的各種組合物處理金屬基材。美國(guó)專利4,427,765(Mohr等)描述了具有酸性官能團(tuán)(例如^^壽或磺-酸基)的水溶性有機(jī)聚合物與二價(jià)金屬陽(yáng)離子的鹽的應(yīng)用。描述了認(rèn)為形成聚合物和金屬陽(yáng)離子的絡(luò)合物的各種有機(jī)聚合物和金屬陽(yáng)離子。美國(guó)專利5,314,787(Elsaesser等)描述了用親水性聚合物溶液處理接著用含二價(jià)或多價(jià)金屬陽(yáng)離子的溶液處理鋁基材。一般將所指出的聚合物應(yīng)用于正以固定速度穿過(guò)含該聚合物的后處理溶液的鋁網(wǎng)幅。在這一制造步驟期間，一般通過(guò)補(bǔ)充后處理溶液將聚合物濃度保持在規(guī)定范圍內(nèi)。同時(shí)，來(lái)源于移動(dòng)網(wǎng)幅的鋁離子提高后處理溶液中的鋁(+3)濃度，從而產(chǎn)生"調(diào)味(seasoned)"處理溶液。在從"新鮮"后處理溶液開(kāi)始的典型制造運(yùn)轉(zhuǎn)期間，鋁(+3)的量提高并引起沉積在移動(dòng)網(wǎng)幅上的聚合物的量變化。這種鋁離子濃度的改變導(dǎo)致一個(gè)階段期間制備的基材。這種鋁基材的變;性可^不利地影響其親水性、可印刷性、粘附性或其它性能。仍需要通過(guò)降低在后處理過(guò)程中獲得的基材表面性能的變動(dòng)性；改進(jìn)平版印刷板中的鋁基材的親水性(水接受性)、油墨排斥性和總體可印刷特性。發(fā)明概述本發(fā)明通過(guò)提供含鋁基材的制備方法解決上面指出的問(wèn)題，該方法包括用包含衍生自乙烯基膦酸的聚合物和A1"鹽的后處理水溶液處理具有陽(yáng)極氧化物層的鋁支撐表面，其中將所述聚合物在所述后處理溶液中的濃度維持在1.5xl0久1.5mol膦酸基/升的目標(biāo)聚合物濃度的±50%的濃度下，并將八1+3在所述后處理溶液中的濃度維持在1\10-6-^10-1mol/L的目標(biāo)八1+3濃度的±50%的濃度下，所述處理步驟足以沉積至少3xl0-s摩爾膦酸基/n^所述支撐體。因此，本發(fā)明還提供通過(guò)所述方法提供的含鋁基材和由這些其上布置了一個(gè)或多個(gè)可成像層的基材制備的可成像元件。通過(guò)本發(fā)明方法提供的含鋁基材展現(xiàn)改進(jìn)的基材親水性、油墨排斥性和總體改進(jìn)的可印刷性，即使當(dāng)在印刷期間使用減少的潤(rùn)版溶液時(shí)仍如此。此外，注意到通過(guò)本發(fā)明制備的鋁基材顯示改進(jìn)的油墨清除(clean-up)性能以致獲得所需的清潔圖像需要更少印張。因此，本發(fā)明提供具有改進(jìn)的可印刷性和油墨清除性能的熱正性工作"計(jì)算機(jī)直接制版(computer-to-plate)"平版印刷板。通過(guò)謹(jǐn)慎地控制用來(lái)將乙烯基膦酸聚合物中間層施加到鋁支撐體上的后處理溶液中的鋁(+)濃度和所迷聚合,^"度達(dá)封這些優(yōu)點(diǎn)。尤其有用的是將鋁(+3)濃度控制在目標(biāo)濃度范圍內(nèi)以致減小已知后處理溶液中存在的濃度變動(dòng)性，并因此產(chǎn)生更一致的鋁表面(和聚合物中間層)性能。例如，可以監(jiān)測(cè)后處理溶液并控制鋁(+3)濃度以致該后處理溶液像"調(diào)p未"溶液，即4吏在其使用開(kāi)始時(shí)仍如此。附圖簡(jiǎn)述圖l是上面發(fā)明背景中描述的制造平版印刷板用含鋁基材的典型方法的圖示。發(fā)明詳述定義除了文中另有說(shuō)明以外，否則當(dāng)在本文中使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)"含鋁基材"、"可成像元件'V'正性工作可成像元件"和"印刷板前體"意味著參考本發(fā)明的實(shí)施方案。術(shù)語(yǔ)"支撐體"在本文中用來(lái)指含鋁材料(網(wǎng)幅、片材、箔片或其它形式)，然后將它處理以制備"含鋁基材"，該"含鋁基材"是指其上涂布各種層的親水性制品。因此，"含鋁基材"是指通過(guò)本發(fā)明方法制備的制口口Po術(shù)語(yǔ)"后處理溶液"和"后處理水溶液"是指用來(lái)涂覆陽(yáng)極化基材(例如，移動(dòng)陽(yáng)才及化鋁網(wǎng)幅)上的中間層的7JC溶液。另外，除非上下文另有指示，本文所述的各種組分例如可成像元件中各種層的或本發(fā)明方法中使用的水溶液的組分是指那些組分中一種或多種。因此，冠詞"一個(gè)"或"一種"的使用不一定意味著僅涉及單一組分。除非另有說(shuō)明，否則百分率是指千重量百分率，或％固體分。本文所使用的術(shù)語(yǔ)"輻射吸收性化合物"是指對(duì)某些波長(zhǎng)的輻射敏感且可以在將它們置于其中的層之內(nèi)將光子轉(zhuǎn)化為熱的化合物。這些化合物還可以稱為"光熱轉(zhuǎn)化材料"、"敏化劑"或"光至熱轉(zhuǎn)化劑"。7對(duì)于任何關(guān)于聚合物的術(shù)語(yǔ)的定義說(shuō)明，請(qǐng)參考InternationalUnionofPureandAppliedChemistry("IUPAC")出版的"GlossaryofBasicTermsinPolymerScience",PureAppl.Chem.68,2287-2311(1996)。然而，任何在本文中項(xiàng)確給出的定義都應(yīng)該被認(rèn)為是^N^。除非另有說(shuō)明，術(shù)語(yǔ)"聚合物"是指包括低聚物的高和低分子量聚合物并且包括均聚物和共聚物。術(shù)語(yǔ)"共聚物"是指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物。即，它們包含具有大約兩種不同化學(xué)結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。術(shù)語(yǔ)"主鏈"是指聚合物中的多個(gè)側(cè)基可以與之相連接的原子鏈。此種主鏈的一個(gè)實(shí)例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合獲得的"全碳"主鏈。然而，其它主鏈可以包括雜原子，其中聚合物是通過(guò)縮合反應(yīng)或一些其它手段形成的。用途根據(jù)本發(fā)明制備的經(jīng)處理含鋁基材可以用于制備本發(fā)明的可以按許多方式使用的可成像元件。例如，所述基材可以用來(lái)制備下面更詳細(xì)描述的平版印刷板的前體。然而，這不意味著是本發(fā)明的唯一用途。例如，所述含鋁基材可以用于要求親水性含鋁表面的任何應(yīng)用。此外，所述可成^f象元件還可以用作熱構(gòu)圖系統(tǒng)和用來(lái)形成掩膜元件和印刷電贈(zèng)^板?；母鶕?jù)本發(fā)明制備的基材一般初始作為電化學(xué)磨版的含鋁作為主要組分的支撐體提供，并包括純鋁和鋁合金的支撐體。因此，電化學(xué)磨版的金屬支撐體可以由純鋁，含少量(至多10wt。/c)其它元素例如錳、硅、鐵、鈦、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鎳或鋯的鋁合金組成，或是其上層壓或沉積了純鋁或鋁合金片的聚合物膜或紙(例如，鋁片和聚酯膜的層壓體)。一般而言，在本發(fā)明中使用電化學(xué)磨版的純鋁或鋁合金。支撐體可以呈任何有用的形式或形狀，包括連續(xù)網(wǎng)幅、片材和巻材。可以改變所得的含鋁基材的厚度，但是應(yīng)該足以承受印刷帶來(lái)的磨損并足夠薄以巻繞印版。一般而言，支撐片具有100-600fxm的厚度。一般而言，用來(lái)制備成基材的支撐體具有所需的拉伸強(qiáng)度、彈性、結(jié)晶度、傳導(dǎo)性及其它在平版印刷領(lǐng)域常規(guī)的物理性能，這些性能可以使用已知的處理例如熱處理、冷或熱制造工藝或用于平版印刷基材制備的鋁合金制造領(lǐng)域中常規(guī)的其它方法達(dá)到。可以將基材以^mt或成巻帶材制備,議t^^;^^ww^需片材的為連續(xù)網(wǎng)幅的基材。在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用膦酸基的方法之前一般使用適合的已知程序清潔、粗糙化和陽(yáng)極化支撐體的鋁表面。例如，用表面活性劑、有機(jī)溶劑或堿性水溶液的去脂處理通常用來(lái)從支撐體表面除去油脂。然后，可以通過(guò)熟知的技術(shù)，例如機(jī)械粗糙化、電化學(xué)粗糙化或其組合(多重磨版)粗糙化(或磨版)該表面。以電化學(xué)方式磨版可以按例如美國(guó)專利7,049,048(上面指出)中描述的在本文中對(duì)磨版程序引用的適合方式進(jìn)行。在一些實(shí)施方案中，可以使用美國(guó)7>開(kāi)號(hào)2008/0003411(Hunter等)描述的程序和化學(xué)過(guò)程將含鋁支撐體的表面以電化學(xué)方式磨版。在這些程序中，讓經(jīng)粗糙化的含鋁支撐體經(jīng)歷交流電處理，優(yōu)選在含適合的強(qiáng)酸例如鹽酸、硝酸或其混合物的電解溶液中經(jīng)歷。電解i^液的酸濃度，對(duì)于鹽酸一般是自0.4%且通常自0.7%至2%,或?qū)τ谙跛幔?.2%且通常自0.4%至2.5%。任選的添加劑可以存在于電解溶液中作為防腐劑或穩(wěn)定劑，包括但不限于金屬硝酸鹽和氯化物(例如硝酸鋁和氯化鋁)、單胺、二胺、醛、石岸酸、4各酸、硼酸、乳酸、乙酸和草酸。這種電化學(xué)磨版最通常在18-50。C,典型地在20。C-40。C的溫度下進(jìn)行?？梢酝ㄟ^(guò)常規(guī)實(shí)l全對(duì)給定酸濃度和溶解鋁水平優(yōu)化溫度以更好地控制點(diǎn)蝕深度(pitdepth)。磨版過(guò)程中^f吏用的交流電可以具有在正電壓和負(fù)電壓間交^,變化^的任何所需的波形，包括但不限于方波、梯形波或正弦波。可以使用普通的單相或三相電流。在50-200A/dm2,通常50-80A/dm2的電流密度下進(jìn)行磨版。電荷密度一般小于或等于850庫(kù)侖/dm2，通常自450庫(kù)侖/dn^且最高750庫(kù)侖/dm2。合適的電流密度可以4艮據(jù)使用的特定酸和其濃度選擇。例如，如果鹽酸濃度是0.7-1.1%,則電荷密度的最大值應(yīng)該是600庫(kù)侖/dm2(通常500-550C/dm2)。如果酸濃度從1.1%提高至1.4%,則電荷密度最大值應(yīng)該是750C/dm2的(通常550C/dm2-650C/dm2)。9電化學(xué)磨版可以在整個(gè)過(guò)程中在相同電荷密度下進(jìn)行或可以3姿逐步方式改變它的電荷密度，藉此每個(gè)磨版步驟在與前一個(gè)磨版步驟或隨后的磨版步驟不同的電流密度下進(jìn)行。例如，逐步磨版過(guò)程可以通過(guò)在隨后的磨版步驟中連續(xù)，t^r^njsa^("向F等變")総密度來(lái)進(jìn)行。控制具體的磨版電流密度和使用它的方式以提供小于0.60jim，通常自0.28但是小于0.60pm的表面中線平均粗糙度(Ra)。另外，鋁金屬表面的平均最大點(diǎn)蝕深度(Rv)小于或等于4.5jim,通常1.2-4.5(im。雖然這種電化學(xué)磨版的金屬板此刻可以用于本發(fā)明方法，但是通常在此種^吏用之前對(duì)它進(jìn)^亍附加處理。一^:而言，用石咸性溶液蝕刻這種電化學(xué)磨版的金屬表面以除去至少IOOmg/m2,通常除去100-1000mg/m2?？梢酝ㄟ^(guò)將這種金屬纟反浸漬在高度酸性溶液或pH值至少13且導(dǎo)電率30-90mS/cm的高度堿性溶液中進(jìn)行蝕刻。重要的是除去足夠的鋁金屬以改變其光學(xué)密度，這直接地與該鋁板表面上的"污斑"水平相關(guān)。所除去的鋁金屬的量是蝕刻過(guò)程中的濃度、溫度和停留時(shí)間的函數(shù)。因此，技術(shù)人員可以在常規(guī)實(shí)驗(yàn)中考慮這些參數(shù)的許多組合以為除去至少IOOmg/n^找到最佳蝕刻條件。然后可以以交流電作用讓電化學(xué)磨版的鋁支撐體在20-60°C的溫度下通過(guò)石克酸溶液(5-30%)5-250秒以在金屬表面上形成氧化物層而加以陽(yáng)極化。如本領(lǐng)域技術(shù)人員容易知道的那樣，當(dāng)將磷酸用于陽(yáng)極化時(shí)，可以改變條件。一般而言，進(jìn)行陽(yáng)極化以提供至少0.3g/m2,通常1.5-4g/n^的氧化物層。然后處理含鋁支撐體來(lái)提供親水中間層，通過(guò)用例如，后處理溶液處理將其表面變得更親水性，所述后處理溶液含有乙烯基膦酸(PVPA)的均聚物或乙烯基膦酸共聚物例如衍生自乙烯基膦酸和(曱基)丙烯酸(它是甲基丙烯酸、丙烯酸或這兩者)的共聚物。通常，用PVPA處理以電化學(xué)方式磨版、蝕刻和陽(yáng)極化的鋁支撐體。用包含衍生自乙烯基膦酸的聚合物和A1"鹽的后處理水溶液處理具有陽(yáng)極氧化物層的鋁支撐表面，其中將所述聚合物在所述后處理溶液中的濃度維持在1.5xl0"-1.5mol膦酸基/升的目標(biāo)聚合物濃度的士50%的濃度下，并將Al"在同一后處理溶液中的濃度維持在lxlO-Mxl0—1mol/L10的目標(biāo)八1+3濃度的±50%的濃度下。這一處理步驟沉積至少3xl(^摩爾膦酸基/1112支撐體。通常，在該后處理步驟期間，將所述的聚合物在后處理水溶液中的濃度維持在1.5xlO氣lxl(^摩爾膦酸基/升的T標(biāo)聚合物濃度的士r5^濃度下。另外，將Al"的濃度維持在lxlO-S-lxl(T3mol/L的目標(biāo)Al"濃度的±15%的濃度下。可以按各種形式處理鋁支撐體，但是通常讓磨版和陽(yáng)極化的鋁支撐體的連續(xù)網(wǎng)幅按足以在其表面上提供所需聚合物層的速率通過(guò)后處理水溶液。圖1示意性示出的過(guò)程4戈表4吏用鋁支撐體網(wǎng)幅的典型基才才制造過(guò)程。在本發(fā)明中的后處理步驟期間，將鋁(+3)濃度維持在目標(biāo)鋁(+3)濃度而不是讓它連續(xù)地提高，從而提供最佳基材性能。濃度維持的條件才既4吞在下面。在大多數(shù)實(shí)施方案中，將鋁支撐體浸于后處理溶液中保持適合的時(shí)間以沉積所需量的親水性聚合物。隨后的大部分論述更直接地涉及后處理的這種浸漬模式。然而，應(yīng)該理解的是，本發(fā)明的某些實(shí)施方案可以使用"噴霧"模式進(jìn)行，其中使用一個(gè)或多個(gè)噴霧桿從使用適合的流體輸送系統(tǒng)的儲(chǔ)存或回收槽將后處理溶液輸送或施加到鋁支撐體上。所述儲(chǔ)存或回收槽然后將含有合適量的后處理溶液，其中使用根據(jù)本發(fā)明的各種手段將鋁(+3)和親水性聚合物的濃度控制在所需目標(biāo)濃度的±50%內(nèi)。通過(guò)確定待沉積在鋁支撐體上的聚合物的所需量和該支撐體處于后處理水溶液中的時(shí)間選才奪目標(biāo)聚合物濃度。這可以通過(guò)常規(guī)實(shí)-驗(yàn)進(jìn)行或/人本領(lǐng)域中使用的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)j各得到。后處理溶液中的目標(biāo)聚合物濃度和網(wǎng)幅停留時(shí)間經(jīng)選擇沉積至少3x1(T6mol膦酸基/m2?？梢匀缦麓_定目標(biāo)鋁(+3)濃度在后處理水溶液中嘗試各種濃度并評(píng)價(jià)作為成像平版印刷板一部分的所得基材的可印刷性能。這也可以用常規(guī)實(shí)驗(yàn)和使用下面實(shí)施例中提供的教導(dǎo)進(jìn)行。后處理溶液中的膦酸基與A1"離子的摩爾比一般是1000:1-1:10(通常10:1-1:5),且后處理溶液具有一般1.5-7(通常2-4)的pH值。一般在20-80。C(通常40-70。C)的溫度下進(jìn)行后處理步驟，同時(shí)使網(wǎng)幅接觸l-60秒(通常5-20秒)?？梢匀缦戮S持聚合物在后處理溶液中的目標(biāo)濃度用各自處于給定速率的一種或多種補(bǔ)充劑溶液補(bǔ)充所述后處理溶液以維持，提高或降低所述聚合物濃度、Al"濃度或兩者的濃度?？梢岳?，使兩以下步棘控制后處理溶液中的鉉(+37和^^^合物濃度處于預(yù)選定的目標(biāo)濃度1)制備分別具有目標(biāo)Al"濃度[Al"h和聚合物濃度[聚合物;h的后處理溶液。2)制備分別具有Al"濃度[Al"h和聚合物濃度[聚合物]2的單一混合的或獨(dú)立的補(bǔ)充溶液。3)讓具有給定網(wǎng)幅寬度(W)的鋁基材網(wǎng)幅按本領(lǐng)域技術(shù)人員易于知道的預(yù)定網(wǎng)幅速度(S)穿過(guò)后處理溶液。4)用所述單一混合的或獨(dú)立的補(bǔ)充溶液以》會(huì)定速率(R)補(bǔ)充后處理溶液，以分別保持鋁離子和聚合物濃y復(fù)在[Al+"!和[聚合物]1,每種濃度的偏差為±50%(通?！?50/0)。在該過(guò)程內(nèi)，隨著時(shí)間加工鋁網(wǎng)幅，[Al+3]2、[聚合物h和R可以由技術(shù)人員用常規(guī)實(shí)驗(yàn)容易地測(cè)定以在"穩(wěn)態(tài)"模式下達(dá)到總體上恒定的鋁離子和聚合物濃度?；蛘撸炀毤夹g(shù)人員可以由聚合物到鋁網(wǎng)幅上的所需沉積的計(jì)算(即，后處理溶液中的聚合物損失)以及鋁離子進(jìn)入后處理溶液的量的計(jì)算來(lái)計(jì)算所需的^1+3]2、[聚合物]2和R。或者，可以在鋁網(wǎng)幅的處理期間測(cè)量并通過(guò)4要預(yù)定速率添加以下補(bǔ)充溶液中的一種或多種維持后處理溶液目標(biāo)濃度[Al"h和[聚合物h:a)具有[聚合物h而且具有0或顯著低于所述[Al+勺!的鋁離子濃度的溶液以將所述后處理溶液鋁離子濃度降低到[Al"h。b)具有[聚合物h而且具有顯著高于[AlWh的鋁離子濃度的溶液以將所述后處理溶液鋁離子濃度提高到[Al"h。c)具有[Al+S;h而且具有顯著高于[聚合物h的聚合物濃度的溶液以將所述聚合物濃度提高到[聚合物h。可以使用一種或多種鋁(+3)鹽(包括但不限于水合硫酸鋁、水合氯化鋁、水合溴化鋁和水合硝酸鋁)將鋁補(bǔ)充溶液補(bǔ)償?shù)剿璧匿X(+3)鹽濃度?？梢酝ㄟ^(guò)將所需量的聚合物溶解在水中配制聚合物補(bǔ)充溶液。雖然可以使用單種補(bǔ)充劑溶液維持目標(biāo)聚合物和鋁(+3)濃度，但12是也可以將那些組分結(jié)合在加入后處理溶液的單一混合的補(bǔ)充劑溶液中?？梢允褂煤线m量的鋁鹽和/或聚合物容易地配制其它指出的溶液a)、b)和c)。雖然本文描述的補(bǔ)充溶液通常以連續(xù)方式使用，但是也可以間歇地使用它們，即在鋁網(wǎng)幅的處理期間按需使用?；蛘撸梢赃B續(xù)地使用一些補(bǔ)充溶液(例如聚合物補(bǔ)充溶液)，而間歇地z使用其它補(bǔ)充溶液(例如鋁離子補(bǔ)充溶液)。鋁基材的背面(非成像側(cè))可以涂有抗靜電劑和/或滑動(dòng)層或消光層以改進(jìn)可成Y象元件的手感和"觸感"?？沙蒦f象元件本發(fā)明的基材可以用來(lái)制備各種各樣的可成像元件，包括可以成像和沖洗以便用作平版印刷板的負(fù)性和正性工作可成像元件。此類可成像元件一般是平版印刷板前體并包括布置在基材上的一個(gè)或多個(gè)油墨接受層。即，它們除一般用作亞(subbmg)層、粘合層、保護(hù)性覆蓋層或其它非成像目的層的任何層之外還包括一個(gè)或多個(gè)可成像層?？梢允箍沙上駥?從此為元件)變得對(duì)任何適合的成像輻射，包括UV、可見(jiàn)光和最大曝光波長(zhǎng)為150-1500nm的紅外輻射每丈感。可成〗象元件可以經(jīng)設(shè)計(jì)用于在各種設(shè)備上成像和使用常^見(jiàn)顯影劑溶液脫印刷機(jī)(脫機(jī))地顯影或使用潤(rùn)版溶液、印刷墨或其混合物在印刷機(jī)上(在機(jī))顯影。例如，本領(lǐng)域中存在涉及可以用于本發(fā)明實(shí)踐的負(fù)性工作可成^f象組合物和元件的許多出版物。那些有用的組合物中的一些是光敏性的并且基于萘并醌二疊氮化物、重氮樹脂、光敏聚合物或熱可轉(zhuǎn)換聚合物(即，從疏水性到親水性的熱轉(zhuǎn)換聚合物層，或反之亦然)的使用。其它有用的負(fù)性工作組合物一般包括可聚合組分(例如自由基可聚合單體、低聚物或聚合物或酸交聯(lián)的化合物)、引發(fā)劑組合物(例如產(chǎn)生自由基，或促進(jìn)陽(yáng)離子或酸催化聚合或交聯(lián)的化合物)、對(duì)特定輻射敏感性合適的敏化劑或輻射吸收性化合物(亦稱光熱轉(zhuǎn)化材料)例如炭黑、IR染料、香豆素、鋪鹽、三嗪、茂金屬、多元羧酸、六芳基雙咪唑和硼酸鹽。這些組合物中，優(yōu)選IR-專1感性組合物。本發(fā)明可以使用的一些尤其有用的負(fù)性工作可成像組合物和元件包括但不限于，EP專利公開(kāi)770,494A1(V函eersch等)、924,570Al(Fujimaki等)、1,063,103A1(Uesugi)、EP1,182,033Al(Fujimako等)、EP1,342,568Al(Vermeersch等)、EP1,449,650A1(Goto)和EP1,614,539A1(Vermeersch等),美國(guó)專利4,511,645(Koike等)、6,027,857(Teng)、6,309,792(Hauck等)、6,569,603(Furukawa等)、6,899,994(Huang等)、7,045,271(Tao等)和7,049,046(Tao等)和美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2003/0064318(Huang等)、2004/0265736(Aoshima等)、2005/0266349(VanDamme等)和2006/0019200(Vermeersch等)中描述的那些。其它負(fù)性工作組合物和元件例如在日本Kokai2000-187322(Takasaki)、2001-330946(Saito等)、2002-040631(Sakurai等)、2002-341536(Miyamoto等)和2006匿317716(Hayashi)中進(jìn)行了描述。本發(fā)明的可成像元件也可以是單或多層、熱敏、正性工作可成像元件，它們一般依賴分散在一種或多種聚合物粘結(jié)劑內(nèi)的輻射吸收性化合物，所述聚合物粘結(jié)劑在適合的輻射下在堿性顯影劑中是可溶、可分散或可除去的，本領(lǐng)域中存在它們的許多實(shí)例。因此，在輻射下，可成像層在其受輻射(曝光)的區(qū)域中發(fā)生相對(duì)于堿性顯影劑的溶解性能的改變。例如，"單層"正性工作可成<象元件例如，在WO2004/081662(Memetea等)、美國(guó)專利6,255,033(Levanon等)和6，541,181(Le雨on等)、EP1,627,732(hatanaka等)和美國(guó)公開(kāi)專利申請(qǐng)2005/0214677(Nagashima)、2004/0013965(Memetea等)、2005/0003296(Memetea等)和2005/0214678(Nagashima)中進(jìn)行了描迷。其它實(shí)施方案包括可成像元件，它們包括含鋁基材(根據(jù)本發(fā)明提供)、內(nèi)層(亦稱"底層")和布置在該內(nèi)層上的油墨接受外層(亦稱"頂層"或"面涂層)。在熱成像之前，外層在分配給顯影的正常時(shí)間內(nèi)一般不可溶于、分散于堿性顯影劑或不可被堿性顯影劑除去，但是在熱成像之后，外層的成像區(qū)域更容易地被堿性顯影劑除去或可溶于堿性顯影劑。內(nèi)層也一般可被堿性顯影劑除去。紅外輻射吸收性化合物(下面所限定)也存在于可成像元件中，并且通常存在于內(nèi)層中，但是可以任選地在內(nèi)部和外層之間的隔離層中。熱可成像、多層元件例如，在美國(guó)專利6,294，311(Shimazu等)、6，352,812(Shimazu等)、6,593,055(Shimazu等)、6,352,811(Patd等)、6,358,669(Savariar-Hauck等)和6,528,228(Savariar畫Hauck等),美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2004/0067432Al(Kitson等)和2005/0037280(Loccufier等)中進(jìn)4亍了描述。內(nèi)層布置在外層和基材之間。通常，它直接地布置在基材上。內(nèi)層包含可被顯影劑除去并且優(yōu)選可溶于顯影劑以減少顯影劑的淤渣的主要的第一聚合物材料。另外，這種第一聚合物材料優(yōu)選不溶于用來(lái)涂覆外層的溶劑，以致可以將外層涂在內(nèi)層上而不會(huì)溶解該內(nèi)層。這種聚合物材料在本文中也稱為"第一聚合物粘結(jié)劑"，以致將它與下面對(duì)外層所述的"第二聚合物粘結(jié)劑"區(qū)分。這些第一聚合物粘結(jié)劑的混合物可以根據(jù)需要用于內(nèi)層。對(duì)內(nèi)層有用的第一聚合物粘結(jié)劑包括但不限于，(曱基)丙烯腈聚合物、含側(cè)羧基的(甲基)丙烯酸類樹脂、聚乙烯醇縮醛、馬來(lái)酸化木松香、苯乙烯-馬來(lái)酸酐共聚物、(曱基)丙烯酰胺聚合物例如衍生自N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺的聚合物、衍生自N-取代的環(huán)酰亞胺的聚合物、具有側(cè)脲或環(huán)脲基的聚合物、和它們的組合。同時(shí)提供耐潤(rùn)版溶液和侵蝕性洗劑性的第一聚合物粘結(jié)劑公開(kāi)在美國(guó)專利6,294，3U(上面指出)中。尤其有用的第一聚合物粘結(jié)劑包括(甲基)丙烯腈聚合物，和衍生自N-取代的環(huán)酰亞胺(特別是N-苯基馬來(lái)酰亞胺)、(甲基)丙烯酰胺(特別是曱基丙烯酰胺)、含側(cè)脲或環(huán)脲基的單體和(甲基)丙烯酸(特別是甲基丙烯酸)的聚合物。這種類型的第一聚合物粘結(jié)劑是包含20-75摩爾％衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-(4-羧基苯基)馬來(lái)酰亞胺、N-千基馬來(lái)酰亞胺或其混合物的重復(fù)單元，10-50摩爾%衍生自丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺或其混合物的重復(fù)單元和5-30摩爾°/0衍生自曱基丙烯酸的重復(fù)單元的共聚物。其它親水性單體，例如曱基丙烯酸羥乙酯可以代替一些或全部曱基丙烯酰胺使用。其它堿溶性單體，例如丙烯酸可以代替一些或全部甲基丙烯酸^使用。任選地，這些聚合物還可以包括衍生自(曱基)丙烯腈或!\42-(2-氧代-l-咪唑烷基)乙基]-曱基丙烯酰胺的重復(fù)單元。還可以使用WO2005/018934(Kitson等)和美國(guó)專利6,893,783(Kitson等)中描述的可烘烤內(nèi)層。15其它有用的第一聚合物粘結(jié)劑以聚合形式可以包含5molQ/。-30mol。/c)衍生自含羧基的烯屬不飽和可聚合單體(例如丙烯酸、曱基丙烯酸、衣康酸及其它本領(lǐng)域中已知的類似單體(優(yōu)選丙烯酸和曱基丙烯酸))的重復(fù)單元，20mol。/。-75mol。/()衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺或其混合物的重復(fù)單元，任選地，5mol。/o-50mol。/o衍生自甲基丙烯酰胺的重復(fù)單元和3mol。/。-50mol。/Q—種或多種衍生自以下結(jié)構(gòu)(I)的單體化合物的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>其中Ri是d-C!2烷基、苯基、C廣d2取代的苯基、d-Cu芳烷基或Si(CH3)3，R2是氫或曱基。這些聚合物材料中某些的制備方法在美國(guó)專利6,475,692(Jarek)中進(jìn)行了公開(kāi)?？捎糜诒景l(fā)明的第一聚合物粘結(jié)劑也可以是含羥基的聚合物材料，該聚合物材料包含衍生自兩種或更多種烯屬不飽和單體的重復(fù)單元，其中l(wèi)-50molo/。重復(fù)單元衍生自一種或多種由以下結(jié)構(gòu)(II)表示的單體CH2=C(R3)C(=0)NR4(CR5R6)m0H(n)其中R3、R4、R5、Rs獨(dú)立地是氳、取代或未取代的含1-10個(gè)碳原子的低級(jí)烷基(例如甲基、氯代甲基、乙基、異丙基、叔丁基和正癸基)或取代或未取代的苯基，m是l-20。含羥基的第一聚合物粘結(jié)劑的有用的實(shí)施方案可以由以下結(jié)構(gòu)(III)表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>其中A表示由以下結(jié)構(gòu)(IV)表示的重復(fù)單元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>其中R7至R,o和p與上面對(duì)結(jié)構(gòu)(II)指出的R3至R6和m的定義相同。在結(jié)構(gòu)(IV)中，B表示含酸性官能團(tuán)或N-馬來(lái)酰亞胺基的重復(fù)單元，C表示不同于A和B的重復(fù)單元，x為l-50mo10/。，y為40-90mo10/。，z為0-70moP/。，基于總重復(fù)單元。在結(jié)構(gòu)(IV)的一些實(shí)施方案中A表示衍生自N-羥甲基丙烯酰胺和N-羥甲基曱基丙烯酰胺中一種或兩種的重復(fù)單元，B表示衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-千基馬來(lái)酰亞胺、N-(4-羧基苯基)馬來(lái)酰亞胺、(曱基)丙烯酸和乙烯基苯甲酸中一種或多種的重復(fù)單元，和C表示衍生自苯乙烯屬單體(例如苯乙烯和其衍生物)、曱基(丙烯酸酯)、N-取代的(甲基)丙烯酰胺、馬來(lái)酸酐、(甲基)丙烯腈、丙烯酸烯丙酯和由以下結(jié)構(gòu)(V)表示的化合物中一種或多種的重復(fù)單元(V)其中Ru是氬、曱基或鹵素，q是l-3，X'是含2-12個(gè)碳原子的亞烷基，x是10-40molQ/。，y是40-70mo1。/。，z是0-50mo1。/。，都基于總重復(fù)單元。在結(jié)構(gòu)III的其它實(shí)施方案中，B表示按20-50moiy。的量衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-千基馬來(lái)酰亞胺、N-(4-羧基苯基)馬來(lái)酰亞胺中一種的重復(fù)單元和按10-30mol。/o的量衍生自(甲基)丙烯酸和乙烯基苯曱酸中一種的重復(fù)單元，基于總重復(fù)單元。在這些實(shí)施方案中，C表示衍生自曱基丙烯酰胺、(曱基)丙烯腈、馬來(lái)酸酐或<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>的重復(fù)單元還有的其它有用的第一聚合物粘結(jié)劑是加成或縮合聚合物，它們具有含連接的側(cè)磷酸基、側(cè)金剛烷基或這兩類側(cè)基的聚合物主鏈。所述側(cè)金剛烷基經(jīng)由脲或氨基曱酸酯連接基與聚合物主鏈連接，但是也可以存在其它連接基。這類第一聚合物粘結(jié)劑可以由以下結(jié)構(gòu)(VI)表示-(A)x-(B)y-(VI)其中A和B—同表示聚合物主鏈，其中A還包含含側(cè)磷酸基、側(cè)金剛烷基或兩者的重復(fù)單元，B進(jìn)一步表示不同的重復(fù)單元，x表示5-100wt。/。，y表示0-95wt0/0,條件是如果A含側(cè)金剛烷基，則此種基團(tuán)經(jīng)由脲或氨基甲酸酯連接基(但是也可以存在其它連接基)與聚合物主鏈連接。此類第一聚合物粘結(jié)劑可以由以下結(jié)構(gòu)(VII)表示-.<formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula>(VII)其中Ru表示氫、取代或未取代的含l-4個(gè)碳原子的低級(jí)烷基(例如甲基、乙基、正丙基或叔丁基)或卣素基團(tuán)。L表示直接鍵或在連接鏈中含1個(gè)或更多碳原子和任選的1個(gè)或更多雜原子的連接基。有用的連接基可以包括，但不限于，取代或未取代的、直鏈或支化含1-10個(gè)碳原子的亞烷基(例如亞甲基、甲氧基亞甲基、亞乙基、異亞丙基、正亞丁基、叔亞丁基和正亞己基)、取代或未取代的在環(huán)狀基中含5-10個(gè)碳原子的亞環(huán)烷基(例如1,3-亞環(huán)戊基和1,4-亞環(huán)已基)、取代或未取代的在環(huán)狀基中含6-10個(gè)碳原子的亞芳基(例如1,4-亞苯基、3-甲基-l,4-亞苯基或亞萘基)或它們的組合，例如亞芳基亞烷基、亞烷基亞芳基和亞烷基亞芳基亞烷基。L連接基還可以在連接鏈內(nèi)包括一個(gè)或多個(gè)氧基、硫、酰氨基、羰基、氧羰基、羰氧基、碳酰氨基、磺酰氨基、脲、氨基甲酸酯和碳酸酯[-O-C(=O)-O-]基，含或不含上述任何亞烷基、亞環(huán)烷基和亞芳基。L可以包括這些基團(tuán)中兩個(gè)或更多個(gè)的組合。在結(jié)構(gòu)(VII)中，Ru表示側(cè)磷酸基、側(cè)金剛烷基或這兩類側(cè)基。耐溶劑性聚合物可以包含一種或多種含磷酸基的不同重復(fù)單元或一種或多種含金剛烷基的不同重復(fù)單元。或者，聚合物可以包括一種或多種含磷酸基的不同重復(fù)單元和一種或多種含金剛烷基的不同重復(fù)單元的混合物。當(dāng)R!3是側(cè)金剛烷基時(shí)，L在連接鏈內(nèi)包含脲或氨基甲酸酯連接基。在涉及"磷酸"基時(shí)，還打算包括磷酸的相應(yīng)鹽，包括但不限于堿金屬鹽和銨鹽。任何適合的正平衡離子可以與側(cè)磷酸基一起使用，只要該平衡離子不會(huì)不利地影響所得聚合物的性能或其它所需的成像性能。在結(jié)構(gòu)VI和VII中，當(dāng)A表示含側(cè)磷酸基的重復(fù)單元時(shí)，x為5-20wt%,y為80-95wt。/。。或者，當(dāng)A表示含側(cè)金剛烷基的重復(fù)單元時(shí)，x為5-40wt0/0,B為60-95wt0/。。在結(jié)構(gòu)(VI)和(VII)中，B表示衍生自一種或多種不含側(cè)磷酸基或金剛烷基的烯屬不飽和可聚合單體的重復(fù)單元。各種單體可以用于提供B重復(fù)單元，包括苯乙烯屬單體、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸類或它們的酯、(甲基)丙烯腈、乙酸乙烯酯、馬來(lái)酸酐、N-取代的馬來(lái)酰亞胺或它們的混合物。優(yōu)選地，由B表示的重復(fù)單元衍生自苯乙烯、N-苯基馬來(lái)酰亞胺、甲基丙烯酸、(曱基)丙烯腈或甲基丙烯酸曱酯，或這些單體中兩種或更多種的混合物。在一些實(shí)施方案中，第一聚合物粘結(jié)劑可以由上述結(jié)構(gòu)(VI)表示，其中x為5-30wt0/。，B表示衍生自以下組分的重復(fù)單元a)苯乙烯、N-苯基馬來(lái)酰亞胺、甲基丙烯酸和甲基丙烯酸甲酯中一種或多種，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中全部重復(fù)單元的190-70wt%,和b)丙烯腈或曱基丙烯腈或其混合物中一種或多種，其中這些重復(fù)單元占耐溶劑聚合物中全部重復(fù)單元的20-95wt%。其它有用的第一聚合物粘結(jié)劑包含主鏈并具有與該主鏈連接的以下結(jié)構(gòu)Q基<formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>其中L1、L7和I獨(dú)立地表示連接基，T1、丁2和丁3獨(dú)立地表示端基，a、b和c獨(dú)立地是O或l。更具體地說(shuō)，L1、1^2和1^中的每一個(gè)獨(dú)立地是取代或未取代的含1-4個(gè)碳原子的亞烷基(例如亞曱基、1,2-亞乙基、1,1-亞乙基、正亞丙基、異亞丙基、叔亞丁基和正亞丁基)、環(huán)狀環(huán)中含5-7個(gè)碳原子的取代的亞環(huán)烷基(例如亞環(huán)戊基和l,4-亞環(huán)已基)、芳族環(huán)中含6-10個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳基(例如l,4-亞苯基、亞萘基、2-甲基-l,4-亞苯基和4-氯-l,3-亞苯基)或環(huán)狀環(huán)中含5-10個(gè)碳和一個(gè)或多個(gè)雜原子的取代或未取代的，芳族或非芳族二價(jià)雜環(huán)基(例如亞吡啶基、亞吡嗪基、亞嘧。定基或亞p塞唑基)或這些二價(jià)連接基中兩個(gè)或更多個(gè)的任何組合?；蛘?，1和!^一同可以表示形成碳環(huán)或雜環(huán)結(jié)構(gòu)所必要的原子。優(yōu)選地，1^是碳?xì)鋯捂I或亞甲基、亞乙基或亞苯基，1^和L、蟲立地是氫、甲基、乙基、2-羥乙基或環(huán)狀-(CH2)20(CH2CH2)-基。T1、12和13獨(dú)立地是端基例如氫或取代或未取代的含1-10個(gè)碳原子的烷基(例如曱基、乙基、異丙基、叔丁基、正己基、甲氧基甲基、苯基曱基、羥乙基和氯代乙基)、取代或未取代的含2-10個(gè)碳原子的烯基(例如乙烯基和己烯基)、取代或未取代的炔基(例如乙炔基和辛炔基)、取代或未取代的環(huán)狀環(huán)中含5-7個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)戊基、環(huán)己基和環(huán)庚基)、環(huán)中含碳原子和一個(gè)或多個(gè)雜原子的取代或未取代的雜環(huán)基(芳族和非芳族)(例如吡啶基、吡。秦基、嘧啶基、噻唑基和吲哚基)例如苯基、萘基、3-甲氧基苯基、千基和4-溴代苯基)。或者，丁2和丁3—同表示形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)所必需的原子，該環(huán)狀結(jié)構(gòu)也可以含有稠環(huán)。另外，當(dāng)"a"是O時(shí)，丁3不是氫。在一些實(shí)施方案中，結(jié)構(gòu)Q基可以與聚合物主鏈中的a-碳原子直接地連接，其中該a-碳原子還具有與其連接的吸電子基團(tuán)。在其它實(shí)施方案中，結(jié)構(gòu)Q基經(jīng)由連接基與聚合物主鏈間接地連接。第一聚合物粘結(jié)劑還可以由以下結(jié)構(gòu)(VIII)表示-(A)x-(B)y-(VIII)其中A表示衍生自含相同或不同的Q基的一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的重復(fù)單元，B表示衍生自不含Q基的一種或多種不同烯屬不飽和可聚合單體的重復(fù)單元。更具體地it,結(jié)構(gòu)VIII中的A重復(fù)單元可以由以下結(jié)構(gòu)(Villa)或(VIIIb)表示(Villa)(VHIb)其中1114和1116獨(dú)立地是氪或卣素、取代或未取代的含1-7個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、正丙基、異丙基或千基)或取代或未取代的苯基。優(yōu)選地，1114和1116獨(dú)立地是氬或甲基或卣基，更優(yōu)選它們獨(dú)立地是氬或甲基。Rlclo.4J.1笠Rlc8...IIIRICIYICICIQ1H1結(jié)構(gòu)VIIIa中的R^5是如上面所限定的吸電子基團(tuán)，包括但不限于氰基、硝基、碳環(huán)含6-10個(gè)碳原子的取代或未取代的芳基、雜芳環(huán)中含5-10個(gè)碳、硫、氧或氮原子的取代或未取代的雜芳基、-C(=0)OR2o和-C(=0)R20,其中R2o是氫或取代或未取代的含l-4個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、正丙基、叔丁基)、取代或未取代的環(huán)烷基(例如取代或未取4氣的環(huán)己基)或取代或未取代的芳基(例如取代或未取代的苯基)。氰基、硝基、-C(=0)OR2o和-C(=0)R加基是優(yōu)選的，氰基、-C(=O)CHg和-C(=O)OCH3是最優(yōu)選的。結(jié)構(gòu)(VIIIb)中的1117和1118獨(dú)立地是氪或取代或未取代的含1-6個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、正丙基、叔丁基、正己基)、取代或未取代的含5或6個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如環(huán)己基)、取代或未取代的含6-10個(gè)碳原子的芳基(例如苯基、4-曱基苯基和萘基)或-C(=0)Rw基，其中Rw是取代或未取代的烷基(如對(duì)Rn和R^所限定那樣)、取代或未取代的含2-8個(gè)碳原子的烯基(例如乙烯基和l,2-丙烯基)、取代或未取代的環(huán)烷基(如上面對(duì)Rn和R!8所限定)或取代或未取代的芳基(如上面對(duì)Rn和Rw所限定)。優(yōu)選地，Rn和R!8獨(dú)立地是氬或如上面所限定的取代或未取代的烷基、環(huán)烷基、芳基或-C(=O)R!9基，其中R19是含1_4個(gè)碳原子的烷基。在結(jié)構(gòu)(vnib)中，Y是直接鍵或二價(jià)連接基。有用的二價(jià)連接基包括但不限于氧基、硫代、-NR21-、取代或未取代的亞烷基、取代或未取代的亞苯基、取代或未取代的亞雜環(huán)基、-C(=O)-和-C(=0)0-基或它們的組合，其中Ru是氫或如上面對(duì)Rn和Rw所限定的取代或未取代的烷基、取代或未取代的環(huán)烷基或取代或未取代的芳基。優(yōu)選地，Y是直接鍵或氧基、-C(=O)O-、-C(=O)OCH2CH20-或-C(=O)CH2CH2OC(=0)CH2隱基。在結(jié)構(gòu)(Vm)中，x為l-70mo10/。，y為30-99mo1。/。，基于總重復(fù)單元。優(yōu)選地，x為5-50moiy。，y為50-95molQ/。，基于總重復(fù)單元。仍在結(jié)構(gòu)(VIII)中，B可以表示衍生自各種烯屬不々包和可聚合單體的重復(fù)單元。尤其有用的重復(fù)單元衍生自一種或多種N-取代的馬來(lái)酰亞胺、N-取代的(甲基)丙烯酰胺、未取代的(甲基)丙烯酰胺、(曱基)丙烯腈或含酸性基的乙烯基單體，更優(yōu)選衍生自一種或多種N-苯基馬來(lái)酰亞胺、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、N-千基馬來(lái)酰亞胺、N-(4-羧基苯基)22馬來(lái)酰亞胺、(曱基)丙烯酸類、乙烯基苯曱酸類、(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯腈。這些單體中數(shù)種可以共聚合而提供多重類型的B重復(fù)單元。B重復(fù)單元的尤其有用的組合包括衍生自甲基丙烯酸、甲基丙烯酰胺和N-苯基馬來(lái)酰亞胺中兩種或更多種的那些。第一聚合物粘結(jié)劑是內(nèi)層中的主要聚合物材料。即，它們占內(nèi)層中總聚合物材料的50%-100%(干重)。然而，內(nèi)層還可以包含一種或多種主附加聚合物材料，只要這些主附加聚合物材料不會(huì)不利地影響內(nèi)層的耐化學(xué)品性和溶解性。有用的主附加聚合物材料包括共聚物，該共聚物包含1-30摩爾％衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺的重復(fù)單元，1-30摩爾％衍生自甲基丙烯酰胺的重復(fù)單元，20-75摩爾％衍生自丙烯腈的重復(fù)單元和20-75摩爾％衍生自結(jié)構(gòu)(IX)的一種或多種單體的重復(fù)單元CH2=C(R23)-C02-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-R22(IX)其中R22是OH、COOH或S02NH2，R23是H或甲基，和任選地，l-30摩爾%和當(dāng)存在時(shí)3-20摩爾％衍生自結(jié)構(gòu)(X)的一種或多種單體的重復(fù)單元CH2=C(R25)-CO-NH-p-C6H4-R24(X)其中R24是OH、COOH或S02NH2，R25是H或曱基。內(nèi)層還可以包含一種或多種副附加聚合物材料，它們是具有活化羥曱基和/或活化烷基化羥甲基的樹脂。內(nèi)層中的這些"副附加聚合物材料"不應(yīng)該與外層中使用的"第二聚合物粘結(jié)劑"混淆。副附加聚合物材料可以包括，例如，甲階酚醛樹脂和它們的烷基化類似物，羥甲基蜜胺樹脂和它們的烷基化類似物(例如蜜胺-甲醛樹脂)，羥曱基甘脲樹脂和烷基化類似物(例如，甘脲-甲醛樹脂)，硫脲-曱醛樹脂，胍胺-甲醛樹脂和苯并胍胺-甲醛樹脂?？缮藤?gòu)的蜜胺-甲醛樹脂和甘脲-甲醛樹脂包括，例如，CYMEL⑧樹脂(DynoCyanamid)和NIKALAC⑧樹月旨(Sa證aChemical)。具有活化羥曱基和/或活化烷基化羥甲基的樹脂優(yōu)選是曱階酚醛樹脂或甲階酚醛樹脂的混合物。甲階酚醛樹脂是為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的。它們是通過(guò)使酚與醛在堿性條件下使用過(guò)量朌反應(yīng)而制備的?？缮藤?gòu)的曱階酚醛樹脂包括，例如，GP649D99甲階酚醛樹月旨(GeorgiaPacific)23和BKS-5928甲階酚搭沖對(duì)脂(UnionCarbide)。有用的副附加聚合物材料還可以包括共聚物，該共聚物包含25-75摩爾％衍生自N-苯基馬來(lái)酰亞胺的重復(fù)單元，10-50摩爾％衍生自甲基丙烯酰胺的重復(fù)單元和5-30摩爾％衍生自曱基丙烯酸的重復(fù)單元。這些副附加共聚物在美國(guó)專利6,294,311(Shimazu等)和6,528,228(Savariar畫Hauck等)中進(jìn)行了公開(kāi)?？捎糜趦?nèi)層的第一聚合物粘結(jié)劑和主和副附加聚合物材料可以通過(guò)為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的并且例如，在Macromolecules第2巻第2版的20和21章(H.G.Elias，Plenum,NewYork,1984)中描述的方法(例如自由基聚合)制備。有用的自由基引發(fā)劑是過(guò)氧化物例如過(guò)氧化苯曱酰、氬過(guò)氧化物例如氫過(guò)氧化枯基和偶氮化合物例如2,2'-偶氮雙(異丁腈)(AIBN)。適合的反應(yīng)溶劑包括對(duì)反應(yīng)物惰性并且不會(huì)不利地影響反應(yīng)的液體。在一些實(shí)施方案中，內(nèi)層(優(yōu)選僅內(nèi)層)還包含吸收600nm-1500且通常700nm-1200nm的輻射的紅外輻射吸收性化合物("IR吸收性化合物")，其最小吸收在300-600nm。這種化合物(有時(shí)稱為"光熱轉(zhuǎn)化材料")吸收輻射并將它轉(zhuǎn)化成熱。雖然聚合物材料之一可以本身包含IR吸收性結(jié)構(gòu)部分，但是通常紅外輻射吸收性化合物是單獨(dú)的化合物。這種化合物可以是染料或顏料例如鐵氧化物和炭黑。有用的顏料的實(shí)例是ProJet900、ProJet860和ProJet830(都可以從ZenecaCorporation獲得)。有用的紅外輻射吸收性化合物還包括炭黑，包括用本領(lǐng)域中熟知的增溶基表面官能化的炭黑。與親水性、非離子聚合物接枝的炭黑例如FX-GE-003(由NipponShokubai制造)，或用陰離子基團(tuán)表面官能化的炭黑例如CAB-0-JET⑧200或CAB-O-JET⑧300(由CabotCorpomtion制造)也是有用的。希望IR吸收性染料(特別是可溶于堿性顯影劑的那些)防止顯影劑由于不溶性材料而引起的淤渣。適合的IR染料的實(shí)例包括但不限于，偶氮染灃牛、方酸(squarylium)染津+、croconate染泮+、三芳基胺染*+、。塞唑鋪染料、吲哚鎵染料、氧雜菁染料、oxaxolium染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、吲咮菁染料、indoamlme染料、merostyryl染料、吲哚三碳菁染料、哺三碳菁染料、硫菁染料、噻三碳菁染料、部花青染料、隱花青染料、萘酞菁染料、聚苯胺染料、聚p比咯染料、聚噻吩染料、24chalcogenopyryloarylidene禾口bi(chalcogenopyrylo)聚甲川染料、氧基中氮茚(oxymdolizme)染料、吡喃鎩染料、吡唑啉偶氮染料、^惡嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亞胺染料、曱川染料、芳基曱川染料、斯夸苷染料、嚅唑染料、克酮素(crocomne)染料、卟吩染料和上述染料類的任何取代的或離子的形式。適合的染料還在許多出版物，包括美國(guó)專利6,294,311(上面指出)和5,208,135(Patel等人)和其中引用的參考文獻(xiàn)中進(jìn)行了描述。有用的IR吸收性化合物的實(shí)例包括ADS-830A和ADS-1064(AmericanDyeSource,BaieD'Urfe,Quebec,Canada)、EC2117(FEW,Wolfen,Germany)、CyasorbIR99和CyasorbIR165(GPTGlendaleInc.Lakeland,FL)和下面實(shí)施例中使用的IR吸收性染料A。近紅外吸收性花青染料也是有用的并且例如在美國(guó)專利6,309,792(Hauck等人)、6,264,920(Achilefu等人)、6,153,356(Urano等人)、5,496,903(Watanate等人)中進(jìn)行了描述。適合的染料可以使用常規(guī)方法和起始材料形成或從各種商業(yè)源獲得，包括AmericanDyeSource(Canada)和FEWChemicals(Germany)。用于近紅外二極管激光束的其它有用的染料例如，在美國(guó)專利4,973,572(DeBoer)中進(jìn)4亍了描述。除了低分子量IR-吸收性染料之外，還可以使用與聚合物鍵接的IR染料結(jié)構(gòu)部分。此外，也可以使用IR染料陽(yáng)離子，即該陽(yáng)離子是染料鹽的IR吸收性部分，該染料鹽與側(cè)鏈中包含羧基、磺基、磷光體或膦酰基的聚合物發(fā)生離子相互作用。紅外輻射吸收性化合物可以基于元件的總干重按一般5%-30%且通常12-25%的量存在于可成像元件中。這種量基于它所在的層的總干重。內(nèi)層可以包括其它組分例如表面活性劑、分散助劑、保濕劑、殺生物劑、增粘劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑、抗氧化劑和著色劑。內(nèi)層一般具有0.5-2.5g/n^的干涂層覆蓋度。上述第一聚合物粘結(jié)劑一4殳基于總干層重量計(jì)占自50wt。/。且通常60-90wt0/。，并且這種量可以才艮據(jù)存在的其它聚合物和化學(xué)組分而改變。任何主和副附加聚合物材料(例如線型酚醛清漆、甲階酚醛樹脂或上面給出的共聚物)可以按5-45wt。/。的量存在，基于內(nèi)層的總干重計(jì)?？沙上裨挠湍邮苄酝鈱硬贾迷趦?nèi)層上并且在優(yōu)選的實(shí)施方25案中內(nèi)部和外層之間沒(méi)有中間層。外層包含不同于上述第一聚合物粘結(jié)劑的第二聚合物材料。外層基本上不含紅外輻射吸收性化合物，這是指不將這些化合物特意地引入其中并且無(wú)顯著的量自其它層擴(kuò)散到其中。因此，外層包含是光穩(wěn)定、水不溶性、堿性顯影劑可溶、成膜性粘結(jié)劑材料例如酚醛樹脂、聚氨酯樹脂和聚丙烯酸酯的第二聚合物粘結(jié)劑。尤其有用的粘結(jié)劑材料例如在美國(guó)專利6,352,812(上面指出)、6,358,669(上面指出)、6,352,811(上面指出)、6,294,311(上面指出)、6,893,783(Kitson等)和6,645,689(Jarek)、美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2003/0108817(Patel等)和2003/0162126(Kitson等)和WO2005/018934(Kitson等)中進(jìn)行了描述。用于外層的其它有用的成膜第二聚合物粘結(jié)劑是酚醛樹脂或含酚醛單體單元的含羥基聚合物，它們可以是不同單體的無(wú)規(guī)、交替、嵌段或接枝共聚物并且可以選自乙烯基酚、線型酚醛清漆樹脂或甲階酚醛樹脂的聚合物。有用的聚(乙烯基酚)樹脂可以是含一個(gè)或多個(gè)羥苯基的單體例如羥基苯乙烯和(甲基)丙烯酸羥苯基酯的聚合物。不含羥基的其它單體可以與含羥基的單體共聚合。這些樹脂可以是通過(guò)在自由基引發(fā)劑或陽(yáng)離子聚合引發(fā)劑存在下使用已知的反應(yīng)條件將一種或多種單體聚合制備的。有用的含羥基聚合物的實(shí)例包括ALNOVOLSPN452、SPN400、HPN100(ClariantGmbH),DURITEPD443、SD423A、SD126A、PD494A、PD-140(HexionSpecialtyCh函cals,Columbus,OH)，BAKELITE6866LB02、AG6866LB03(BakeliteAG),KR400/8(KoyoChemicalsInc.),HRJ1085禾口2606(SchenectadyInternational,Inc,)禾口LyncurCMM(SiberHegner),它們都在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2005/0037280(上面指出)中進(jìn)行了描述。上層中有用的線型酚醛清漆樹脂可以是非官能化的，或用極性基團(tuán)官能化的，所述極性基團(tuán)包括但不限于，重氮基、羧酸酯(例如乙酸酯笨甲酸酯)、磷酸酯、亞磺酸酯、磺酸酯(例如磺酸甲酯、磺酸苯基酯、甲苯磺酸酯、2-硝基苯甲苯磺酸酯和對(duì)溴苯基磺酸酯)和醚(例如苯基醚)。可以將酚羥基轉(zhuǎn)變成-T-Z基，其中'T'是極性基團(tuán)，"Z"是另一個(gè)非二疊氮化物官能團(tuán)(例如McCullough等的WO99/01795和McCullough等的美囯專利6,218，083中所述)。酚羥基還可以用含鄰萘醌二疊氮4b物結(jié)構(gòu)部分的重氮基衍生(例如都屬于West等的美國(guó)專利5,705,308和5,705,322中所述)。還可以在外層中包括一種或多種包含酚類重復(fù)單元的"改性"酴醛樹脂粘結(jié)劑，該酚類重復(fù)單元被上面對(duì)可用于內(nèi)層的聚合物粘結(jié)劑所示的結(jié)構(gòu)(Q)表示的基團(tuán)取代。因此，內(nèi)部和外層可以包含相同或不同的"改性"酚醛樹脂粘結(jié)劑。其它有用的第二聚合物粘結(jié)劑包括馬來(lái)酸酐和苯乙烯或取代的苯乙烯或苯乙烯單體的混合物的共聚物。馬來(lái)酸酐一般占該共聚物的l-50mol%。附加的單體，例如(曱基)丙烯酸酯和(曱基)丙烯腈、(曱基)丙烯酰胺也可以用來(lái)提供該共聚物內(nèi)的重復(fù)單元。還有的其它有用的第二聚合物粘結(jié)劑包括一種或多種(曱基)丙烯酸酯和一種或多種含羧基并具有14個(gè)或更少碳原子的單體的共聚物。有用的(曱基)丙烯酸酯的實(shí)例包括但不限于，丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯和甲基丙烯酸正丁酯。含羧基的有用的單體包括但不限于，丙烯酸、曱基丙烯酸、3-乙烯基苯甲酸、4-乙烯基苯甲酸、衣康酸、馬來(lái)酸和由含羥基單體(例如丙烯酸2-羥乙酯和曱基丙烯酸2-鞋乙酯)和環(huán)酸酐(例如琥珀酸酐或鄰苯二曱酸酐)的反應(yīng)形成的單體。(甲基)丙烯酸酯單體與含羧基單體的摩爾比一般是80:20-98:2。這些共聚物還可以包括衍生自一種或多種馬來(lái)酸肝、乙烯基醚、(甲基)丙蜂腈和(曱基)丙烯酰胺的重復(fù)單元。仍更有用的第二聚合物粘結(jié)劑是美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2004/0137366(Kawauchi等)中描述的共聚物，該共聚物包含與聚合物主鏈直接或間接連接的側(cè)羧基。第二聚合物粘結(jié)劑還可以包含由以下結(jié)構(gòu)(XI)或(XII)—般性表示的具有側(cè)羧基的重復(fù)單元，該重復(fù)單元占第二聚合物粘結(jié)劑中總重復(fù)單元的3mol。/o:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>(XII)其中n是l-3(優(yōu)選1或2，更優(yōu)選l)。在結(jié)構(gòu)(XI)或(XII)中，Rs和Rt獨(dú)立地是氫或取代或未取代的含l-7個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、叔丁基或芐基)或鹵基(例如氯或溴)。優(yōu)選地，Rs和Rt獨(dú)立地是氫或取代或未取代的曱基或氯基，更優(yōu)選，它們獨(dú)立地是氬或曱基。X是多價(jià)連接基，包括但不限于多價(jià)脂族和芳族連接基，和它們的組合。在大多數(shù)實(shí)施方案中，X是二價(jià)連接基。此類基團(tuán)可以包括亞烷基、亞芳基、亞烷基亞芳基、亞芳基亞烷基、亞烷基氧基亞烷基、亞芳基氧基亞芳基和亞烷基氧基亞芳基，它們都可以是未取代的或被一個(gè)或多個(gè)不會(huì)不利地影響該第二聚合物粘結(jié)劑性能的取代基取代。優(yōu)選地，X是取代或未取代的亞苯基，特別是當(dāng)n是l時(shí)。在結(jié)構(gòu)(XII)中，Y是氧基或-NR-,其中R是氫或取代或未取代的含1-10個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、異丙基、正己基和芐基)。優(yōu)選地，Y是氧基。仍在結(jié)構(gòu)(XII)中，Z是單價(jià)有機(jī)基團(tuán)，包括但不限于單價(jià)脂族或芳族基或它們的組合。此類基團(tuán)定義與上面對(duì)X描述的多價(jià)基團(tuán)類似，但是還可以包括亞芳基或亞烷基或它們的組合，有或者沒(méi)有羰基[C(=O)]或氨基(-NH-)或它們的組合。例如，有用的Z基團(tuán)包括-R'-NHC乙基和異亞丙基)，R"是:代或未取代的含i-io;碳原子的i基(例如甲基、甲氧基曱基、乙基、異丙基、正己基和芐基)。一種尤其有用的牛OH4、rlc、>Iz28Z基是-CH2CH2NHC(=0)-苯基。Z還可以是取代或未取代的含l-10個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、乙基、異丙基、叔丁基、正己基和千基)。Z的尤其有用的烷基包括含l-8個(gè)碳原子的那些(包括直鏈和支化丁基)。上述第二聚合物粘結(jié)劑一般具有至少20mgKOH/g的酸值。為了改變第二聚合物粘結(jié)劑的酸度，可以通過(guò)與嗜唑啉反應(yīng)，或通過(guò)與醇或烷基由化物酯化使用已知的方法調(diào)節(jié)(例如，減少)側(cè)羧酸基的量。這種第二聚合物粘結(jié)劑還一般具有使用已知的技術(shù)測(cè)量的1,000-250，000的數(shù)均分子量。此外，此種第二聚合物粘結(jié)劑還可以由以下結(jié)構(gòu)(XIII)表示-(A)x-(B)y-(XIII)其中A表示通過(guò)結(jié)構(gòu)(xi)或(xn)或結(jié)構(gòu)(xi)和(xn)兩者限定的重復(fù)單元。因此，可以使用多重類型的單體提供A重復(fù)單元。仍在結(jié)構(gòu)(XIII)中，x是3-15mo10/。，y是85-97mo10/。。在結(jié)構(gòu)(XIII)中，B表示除由A表示的那些以外的重復(fù)單元。它們可以衍生自一種或多種烯屬不飽和可聚合單體，這些烯屬不飽和可聚合單體能夠與A重復(fù)單元衍生自的單體(包括馬來(lái)酸酐)共聚合。B重復(fù)單元的代表性的有用單體包括但不限于，(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基醚、乙烯基酯、乙烯基酮、烯烴、不飽和亞胺(包括N國(guó)馬來(lái)酰亞胺)、不飽和酸酐例如馬來(lái)酸酐、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基呼唑、4-乙烯基吡啶、(甲基)丙烯腈或苯乙烯屬單體或這些單體的任何組合。這些和類似類別的特定單體例如，在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2004/0137366的至段中進(jìn)4亍了描述。優(yōu)選地，B表示結(jié)構(gòu)(xni)的衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、N-苯基馬來(lái)酰亞胺或(甲基)丙烯酰胺例如N-烷氧基烷基甲基丙烯酰胺或這些單體中兩種或更多種的組合的重復(fù)單元。B重復(fù)單元衍生自的一些尤其有用的單體包括甲基丙烯酸曱酯、苯乙烯、含側(cè)環(huán)狀脲基的烯屬不飽和可聚合單體和它們的組合。包含結(jié)構(gòu)xi和xn重復(fù)單元的第二聚合物粘結(jié)劑可以使用各種方法制備。例如，含側(cè)羧酸基的馬來(lái)酰亞胺聚合物可以容易地如下制備使用常規(guī)自由基引發(fā)劑[例如2,2'-偶氮雙(異丁腈)或AIBN]使與結(jié)構(gòu)(XI)29的重復(fù)單元對(duì)應(yīng)的馬來(lái)酰亞胺單體自由基聚合，或在對(duì)反應(yīng)物惰性的適合的溶劑中用所述酸酐共聚物將相應(yīng)的胺酰亞胺化。含結(jié)構(gòu)(xn)重復(fù)單元的聚合物可以通過(guò)使馬來(lái)酸酐聚合并隨后與醇或仲胺反應(yīng)來(lái)獲得。含結(jié)構(gòu)(XII)重復(fù)單元的聚合物可作為商業(yè)產(chǎn)品獲得，例如Scripset⑧540苯乙烯-馬來(lái)酸酐共聚物(可以從Hercules,Wilmmgton,DE獲得)。第二聚合物粘結(jié)劑可以是均聚物或共聚物。因此，外層中有用的聚合物粘結(jié)劑包括包含衍生自苯乙烯或苯乙烯衍生物的重復(fù)單元和衍生自馬來(lái)酸肝的重復(fù)單元的共聚物、包含衍生自(甲基)丙烯酸酯的重復(fù)單元和衍生自(甲基)丙烯酸的重復(fù)單元的共聚物或這兩種類型的共聚物的混合物。這些類型的共聚物的更多細(xì)節(jié)在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)2007/0065737(Kitson等)中進(jìn)行了描述。第二聚合物粘結(jié)劑一般按MOOwt。/。的干覆蓋度存在于外層中，基于該層的總干重計(jì)。連同或代替上述酚醛樹脂，外層還可以包括非酚醛聚合物材料作為成膜粘結(jié)劑材料。此類非盼醛聚合物材料包括由馬來(lái)酸酐和一種或多種苯乙烯屬單體(即，苯環(huán)上含各種取代基的苯乙烯和苯乙烯衍生物)形成的聚合物、由甲基丙烯酸甲酯和一種或多種含羧基單體形成的聚合物和它們的混合物。這些聚合物可以包含衍生自所指出的單體的重復(fù)單元以及衍生自附加的，但是任選的單體[例如(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈和(甲基)丙烯酰胺]的重復(fù)單元。在一些實(shí)施方案中，外層還可以包括單體或聚合物，該單體或聚合物包括苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分。該聚合物可以是衍生有苯醌二疊氮化物和/或萘醌二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分的酚醛樹脂，例如美國(guó)專利5,705,308(West等)和5,705,322(West等)中所述。也可以使用此類化合物的混合物。這種類型的有用的聚合物的實(shí)例是P-3000,即焦櫚酚/丙酮樹脂的萘醌二疊氮化物(可以從PCAS,France獲得)。含二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分的其它有用的化合物例如在美國(guó)專利6,294,311(上面指出)和5,143,816(Mizutani等)中進(jìn)行了描述。含笨醌和/或萘醌二疊氮化物結(jié)構(gòu)部分的單體或聚合物可以一般按5%的量存在于外層中，基于外層的總干重計(jì)。外層可以任選地包括附加的化合物，它們是可以充當(dāng)堿溶性聚合物的溶解性抑制組分的著色劑。這些著色劑通常具有極性官能團(tuán)，這些極性官能團(tuán)被認(rèn)為充當(dāng)與聚合物粘結(jié)劑中各種基團(tuán)氫鍵合的受體部位?？扇苡趬A性顯影劑的著色劑是優(yōu)選。有用的極性基團(tuán)包括但不限于，重氮基團(tuán)、重氮鎩基團(tuán)、酮基團(tuán)、磺酸酯基團(tuán)、磷酸酯基團(tuán)、三芳基甲烷基團(tuán)、鋪基團(tuán)(如锍、殃鋪和磷f翁基團(tuán))，其中氮原子結(jié)合到雜環(huán)中的基團(tuán)，和含有帶正電原子的基團(tuán)(如季化銨基團(tuán))。更多細(xì)節(jié)和代表性的著色劑例如在美國(guó)專利6,294,311(上面指出)中進(jìn)行了描述。尤其有用的著色劑包括三芳基甲烷染料例如乙基紫、結(jié)晶紫、孔雀綠、亮綠、維多利亞藍(lán)B、維多利亞藍(lán)R和維多利亞純藍(lán)BO。這些化合物可以充當(dāng)將經(jīng)顯影的可成像元件中的非成像區(qū)域與成像區(qū)域區(qū)分的對(duì)比染料。當(dāng)著色劑存在于外層中時(shí)，其量可以廣泛地改變，但是一般而言，它按0.1%-30%的量存在，基于外層的總干重。外層可以任選地包括印出或?qū)Ρ热玖?、表面活性劑、分散助劑、保濕劑、殺生物劑、增粘劑、干燥劑、消泡劑、防腐劑和抗氧化劑。涂料表面活性劑是尤其有用的。外層一般具?.2-lg/n^的干涂層覆蓋度。雖然不優(yōu)選，但是隔離層可以在內(nèi)層和外層中間并與該內(nèi)層和外層接觸。這種隔離層可以充當(dāng)屏障以使輻射吸收性化合物從內(nèi)層到外層的遷移最小化。這種獨(dú)立的"屏障"層一般包含可溶于堿性顯影劑的第三聚合物粘結(jié)劑。如果這種第三聚合物粘結(jié)劑不同于內(nèi)層中的第一聚合物粘結(jié)劑，則優(yōu)選它可溶于內(nèi)層笫一聚合物粘結(jié)劑不溶于其中的大約一種有機(jī)溶劑。優(yōu)選的第三聚合物粘結(jié)劑是聚(乙烯醇)。一般而言，這種屏障層的厚度應(yīng)該小于內(nèi)層厚度的五分之一，優(yōu)選小于內(nèi)層厚度的十分之可成像元件的制備可以通過(guò)將一種或多種可成像層配方施加到本發(fā)明的含鋁基材的表面上來(lái)制備可成像元件?？梢允褂贸Ｒ?guī)涂覆或?qū)訅悍椒ㄒ来问┘佣鄠€(gè)層，例如施加內(nèi)層配方，然后在內(nèi)層上施加外層配方。重要的是避免內(nèi)層和外層配方的摻合?？梢酝ㄟ^(guò)將所需成分分散或溶解于適合的涂覆溶劑中施加各種層，并采用適合的設(shè)備和程序(如旋涂、刀涂、凹版涂覆、模涂、狹槽涂覆、棒涂、盤條涂覆、輥涂或擠出機(jī)料斗涂覆)將所得的配方依次或同時(shí)施加到基材上。也可以通過(guò)噴涂到適合的支撐體(例如在機(jī)印刷筒)上來(lái)施加所述配方。用于涂覆各種層(例如，內(nèi)層和外層)的溶劑的選擇取決于該配方中聚合物粘結(jié)劑及其它組分的性質(zhì)。例如，為了防止內(nèi)部和外層配方混合或當(dāng)施加外層配方時(shí)內(nèi)層溶解，應(yīng)該由內(nèi)層的第一聚合物粘結(jié)劑不溶于其中的溶劑涂覆外層配方。技術(shù)人員將知道如何選擇溶劑來(lái)提供各種層而不使它們混合。或者，可以通過(guò)擠出涂覆方法由各自的層組合物的熔融混合物施加配方。通常，此類熔體混合物不包含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。各種層配方的施加之間可以采用中間干燥步驟，以在涂覆其它配方之前除去溶劑。干燥步驟也可以有助于防止各種層的混合。在將層干燥之后，可以在40-90。C的溫度下在抑制水分從干燥層除去的條件下進(jìn)一步熱處理可成像元件(特別是多層可成像元件)至少4小時(shí)(優(yōu)選至少20小時(shí))。此種熱處理可以在50-70。C的溫度下進(jìn)^f亍至少24小時(shí)。在熱處理期間，將可成像元件包裹或包覆在不透水片材中以代表從這種前體除濕的有效屏障，或在其中相對(duì)濕度被控制到至少25%的環(huán)境中進(jìn)行可成像元件的熱處理。另外，可以圍繞著可成像元件的邊緣密封不透水片材，其中該不透水片材是圍繞著可成像元件邊緣密封的聚合物膜或金屬箔。在一些實(shí)施方案中，可以對(duì)包括至少100個(gè)相同可成^象元4牛(優(yōu)選500個(gè)元件)的堆疊體進(jìn)行這種熱處理，或當(dāng)可成像元件呈巻材形式時(shí)?？沙伞较笤梢跃哂腥魏斡杏玫男问?，包括4旦不限于印刷々反前體、印刷筒、印刷套和印刷帶(包括撓性印刷網(wǎng)幅)。印刷板前體可以具有任何有用的尺寸與形狀(例如，正方形或矩形)，其中必要的內(nèi)層和外層置于適合的基材上。印刷筒和套稱為旋轉(zhuǎn)印刷構(gòu)件，其具有呈圓柱形的基材和內(nèi)和外層。中空或?qū)嵭慕饘傩究梢杂米饔∷⑻椎幕?。成像和顯影在使用過(guò)程中，將可成像元件暴露于使用適合的光源的適合的輻射源中，包括UV、可見(jiàn)光和紅外輻射。使用波長(zhǎng)處于600nm-1500nm且通常波長(zhǎng)處于700nm-1200nm的紅外激光輻射是希望的。用來(lái)將可成像元件曝光的激光優(yōu)選是二極管激光，原因在于二極管激光系統(tǒng)的可靠性和少的維護(hù)，但是也可以使用其它激光例如氣體或固態(tài)激光。激光成像的功率、強(qiáng)度和曝光時(shí)間的組合對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員將是顯而易見(jiàn)的。當(dāng)前，可商購(gòu)的圖像照排機(jī)中使用的高性能激光器或激光二極管發(fā)射波長(zhǎng)為800-850nm或1040-1120nm的紅外輻射。成虧象i殳備可以4又發(fā)揮板照排機(jī)作用或它可以直接地？I入到平版印刷機(jī)中。在后一種情況下，印刷可以在成像之后立即開(kāi)始，由此大大降低印刷準(zhǔn)備時(shí)間。成像設(shè)備可以配置為平板式記錄器或鼓式記錄器，其中可成像構(gòu)件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面。有用的成像設(shè)備的實(shí)例可作為CreoTrendsetter圖《象照^非才凡/人CreoCorporation(EastmanKodakCompany的子公司(Burnaby,BritishColumbia,Canada))獲4尋，其包括發(fā)射波長(zhǎng)830nm的近紅外線輻射的激光二極管。其它適合的成像源包4舌在1064nm的波長(zhǎng)下才喿作的Crescent42TPlatesetter和ScreenPlateRite4300系列或8600系列板照排機(jī)(可以從Screen,Chicago,IL獲得)。其它有用的輻射源包括可以用來(lái)使元件成像的直接成像印刷機(jī)，同時(shí)它與印刷板筒體附接。適合的直接成像印刷機(jī)的實(shí)例包括HeidelbergSM74-DI印刷機(jī)(可以從Heidelberg，Dayton,OH獲得)。成像一般通過(guò)直接數(shù)字成像，即"計(jì)算機(jī)直接制版"成像進(jìn)行?？沙上裨某上癞a(chǎn)生包括成像(曝光)和未成像(未曝光)區(qū)域的潛像的成像元件。高pH值且含有機(jī)溶劑的顯影劑可用于處理本發(fā)明的可成像元件。技術(shù)人員將知道如何為此挑選合適的顯影劑。對(duì)于成像的正性工作可成像元件，顯影除去一個(gè)或多個(gè)層，例如，外層和基礎(chǔ)層(包括內(nèi)層)的曝光區(qū)域，并使本發(fā)明基材的親水性表面暴露出來(lái)。該基材的親水性表面的曝光(或成像)區(qū)域排斥油墨，而外層的未曝光(或未成像)區(qū)域接受油墨。通常使用常規(guī)加工條件將成像元件顯影。顯影之后，可以用水漂洗成像元件并按適合的方式干燥。還可以用常規(guī)的樹膠溶液(優(yōu)選阿拉伯膠)處理干燥的元件。也可以將成像和顯影的元件在后烘烤操作中烘烤，這可以進(jìn)行以提高所獲成像元件的運(yùn)轉(zhuǎn)壽命。烘烤可以在例如220。C-240。C下進(jìn)行7-10分鐘，或在12(TC下進(jìn)行30分鐘?？梢詫⑵桨嬗湍蜐?rùn)版溶液施加到用于印刷的成4象元件的印刷表面上。油墨被外層的親油性區(qū)域吸收，并且潤(rùn)版溶液被通過(guò)成像和顯影過(guò)程揭露的親水性表面(通常是本發(fā)明的含鋁基材)吸收。然后將該油墨轉(zhuǎn)移至適合的接收材料(例如布、紙、金屬、玻璃或塑料)而在其上提供圖像的所需壓印。通常使用中間"轉(zhuǎn)印布"輥來(lái)將油墨從成像構(gòu)件轉(zhuǎn)移到接收材料。提供以下實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明實(shí)踐，但是在任何情況下都沒(méi)有以任何方式限制本發(fā)明的意圖。實(shí)施例用于實(shí)施例和分碎斤方法的組分和材4牛如下粘結(jié)劑A代表N-苯基馬來(lái)酰亞胺、曱基丙烯酰胺和曱基丙烯酸(40.2:34.9:24.9mol%)的共聚物。BLO代表y-丁內(nèi)酯。DEK代表二乙基酮。乙基紫是C丄42600(CAS2390-59-2,;虹=596nm),具有化學(xué)式(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cr(AldrichChemicalCompany,Milwaukee,WI,USA)。IR染料A從EastmanKodakCompany獲得并具有以下結(jié)構(gòu)IR染料AIR染料BDl1是從PCAS(Longjumeau,France)獲得的著色劑并具有以下結(jié)構(gòu):《JN、DllP3000是從PCAS(Longjumeau,France)獲得的焦櫚酚丙酮縮合物的215萘并醌二疊氮化物磺酸酯。PD140A是從BordenChemical(Louisville,KY)獲得的線型酚醛清漆(75%間曱酚和25%對(duì)曱盼，MW7000)。PGME^^表l-甲氧基丙-2-醇(亦稱DowanolPM)。聚(乙烯基膦酸)(聚合物l)的合成將乙酸乙酯(3650g)加入配備有冷凝器的10升反應(yīng)容器并在70。C下加熱。將乙烯基膦酸(1950g)單體混入1000g乙酸乙酯。將AIBN(52g)溶解在這種單體混合物中，并經(jīng)4小時(shí)將該單體混合物逐滴添加到在7(TC下的反應(yīng)容器中。在此加料之后，反應(yīng)混合物在70。C下保持2小時(shí)，然后冷卻至室溫。通過(guò)過(guò)濾離析沉淀的白色粉末并用l升乙酸乙酯洗滌而提供所需聚合物l。乙烯基膦酸和曱基丙烯酸的共聚物(聚合物2)的合成將乙酸乙酯(3650g)加入配備有冷凝器的10升反應(yīng)容器并在70。C下加熱。將乙烯基膦酸單體(390g)和甲基丙烯酸(1243g)混入乙酸乙酯(1000g)。將AIBN(52g)溶解到這種單體混合物中，并經(jīng)4小時(shí)將該單體混合物逐滴添加到在70。C下的反應(yīng)容器中。在此加料之后，反應(yīng)混合物在70。C下保持2小時(shí)，然后冷卻至室溫。通過(guò)過(guò)濾離坤斤沉淀的白色粉末并用1升乙酸乙酯洗滌而提供所需聚合物2。丙烯酸系樹脂l的合成向配備有攪拌器、冷凝器和滴液漏斗的10升燒瓶中添加2990gN,N-二甲基乙酰胺，然后將它在90。C下加熱。在氮?dú)鈿夥障陆?jīng)2小時(shí)將740.5gN-苯基馬來(lái)酰亞胺、1001g曱基丙烯酰胺、368g甲基丙烯酸、643g丙烯腈、203.6gPhosmerM(Unichemical)、222.5g苯乙烯、10.6gAIBN、16g正十二烷硫醇和2670gN,N-二甲基乙酰胺的混合物滴入該燒瓶。向該混合物中添加5.3gAIBN并在100。C下加熱和攪拌4小時(shí)。在反應(yīng)期間，以1-小時(shí)間隔添加5.3gAIBN。在反應(yīng)之后，將混合物冷卻降至60。C并倒入50升水中。過(guò)濾，洗滌并在真空下在60。C下干燥所得的固體24小時(shí)，而提供2873g所需丙烯酸系樹脂l(產(chǎn)率90%)。以下表I所示的各種量的中間層聚合物和鋁離子濃度制備后處理水溶液。表I<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>*A1+、V、A12(S04)3.16H20添加。八1+3的濃度按八1+3(g/1)=2xM(A1+3)/M(Al2(S04)3.16H20)計(jì)算。發(fā)明&對(duì)比實(shí)施例由0.50^mRa鋁板制備含鋁基材，該鋁板使用氫氧化鈉去脂并在20%鹽酸鹽中以電解磨版。然后使用20%硫酸在2A/dm2下將它陽(yáng)極化，洗滌并干燥。獲得2.7g/n^的氧化物層。將所得的基材浸入表I所示的在6(TC下的各個(gè)后處理水溶液之中^f呆持10秒。^吏用下表II所示的后處理水溶液如此獲得實(shí)施例l-8和對(duì)比實(shí)施例l-4中使用的十二個(gè)不同的經(jīng)處理基材。<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>制備聚合物2(0.5g/1)和鋁(+3)離子(0.02g/1)的1升溶液，并加熱到60。C以制作pH值為2.80且導(dǎo)電率為0.58mS/cm的中間層溶液(溶液A)。制備具有20g/l聚合物2(補(bǔ)充劑A)的聚合物2的補(bǔ)充劑A溶液。以45.15g/l制備A1"的補(bǔ)充劑B溶液。在施加上述中間層之前連續(xù)地處理鋁板。該板按30m/分鐘移動(dòng)。將鋁基材連續(xù)地浸入溶液A之中，同時(shí)用補(bǔ)充劑A以0.3升/min,補(bǔ)充劑B以0.02升/mm和去離子水以13升/min補(bǔ)充溶液A。調(diào)節(jié)去離子水的量，同時(shí)維持溶液A處于2.7-2.9的pH值和0.50-0.70mS/cm的導(dǎo)電率。在Omin(處理開(kāi)始，實(shí)施例9)試^r鋁基材，在處理之后l小時(shí)開(kāi)始(實(shí)施例IO),和在處理之后3小時(shí)開(kāi)始(實(shí)施例ll)。三個(gè)發(fā)明實(shí)施例的結(jié)果示于以下表III中。<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>*SMA樹脂是苯乙烯和馬來(lái)酸酐(摩爾比l:l)的共聚物。通過(guò)使用輥涂機(jī)將下層涂料配方涂覆到含鋁基材上并在100。C下干燥2分鐘制備正性工作可成像元件。然后將上層涂料配方涂覆到該干下層上并在10(TC下千燥2分鐘。下層和上層的涂層重量分別是1.5g/n^和0.5g/m2。通過(guò)混合下表VI列出的組分制備堿性顯影劑表VI<table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table>顯影劑的pH值和導(dǎo)電率分別是11.5和1.2mS/cm。使用PTR4300成像照排機(jī)(DaimpponScreen)以150mJ/cm2曝光所制備的可成像元件。在所指出的已經(jīng)在商業(yè)沖洗一幾P-1310X(KodakPolychromeGraphics)中稀釋5倍的顯影劑中在30。C下將它們顯影15秒,然后用涂飾膠PF2(KodakPolychromeGraphics,以1+1.5稀釋)處理而提供平版印刷板。使用以下方法和印刷條件進(jìn)行印刷試驗(yàn)印刷才幾R(shí)-201(ManRoland)，油墨Spacecolor,FusionGMagenta(DaiNipponInkandChemical),潤(rùn)版溶液NA108W(DaiNipponInkandChemical)和1%和異丙醇按1%。有限水階(limitedwaterlevel)試馬全使用所指出提及的印刷條件以60水階(最大100)使用所有試驗(yàn)印刷板印刷。使用低水階堵塞印刷紙張的陰影區(qū)。評(píng)價(jià)使陰影區(qū)被堵塞的水的階數(shù)。所需的結(jié)果是使用更少水和少許堵塞獲得良好的印刷品。油墨清除性能試驗(yàn)使用上面指出的印刷條件印刷五千張紙。然后停止印刷并使用不含潤(rùn)版溶液的墨輥將油墨添加在整個(gè)印刷板上。在30分鐘之后，重新開(kāi)始印刷并供應(yīng)潤(rùn)版溶液，并從未成像區(qū)域除去油墨。通過(guò)測(cè)定要求在非成像區(qū)和陰影區(qū)不顯示油墨的紙張數(shù)評(píng)價(jià)油墨清除性能(或"油墨積累試驗(yàn)")。這些試驗(yàn)的結(jié)果示于以下表VII中。<table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table>權(quán)利要求1.一種制備含鋁基材的方法，所述方法包括用包含衍生自乙烯基膦酸的聚合物和Al+3鹽的后處理水溶液處理具有陽(yáng)極氧化物層的鋁支撐表面，其中將所述聚合物在所述后處理溶液中的濃度維持在1.5×10-4-1.5mol膦酸基/升的目標(biāo)聚合物濃度的±50％的濃度下，并將Al+3在所述后處理溶液中的濃度維持在1×10-6-1×10-1mol/L的目標(biāo)Al+3濃度的±50％的濃度下，所述處理步驟足以沉積至少3×10-6摩爾膦酸基/m2所述支撐體。2.權(quán)利要求1的方法，其中，在所述處理步驟期間，將所述聚合物在所述后處理溶液中的濃度維持在lxl(T、lxl(T1mol膦酸基/升的目標(biāo)聚合物濃度的±15%的濃度下。3.權(quán)利要求1的方法，其中，在所述處理步驟期間，將A產(chǎn)在所述后處理溶液中的濃度維持在^10-5-^10-3mol/L的目標(biāo)八1+3濃度的±15%的濃度下。4.權(quán)利要求1的方法，其中所述聚合物是衍生自乙烯基膦酸的均聚物或衍生自乙烯基膦酸和(甲基)丙烯酸的共聚物。5.權(quán)利要求1的方法，其中，所述后處理溶液中膦酸基與A1"離子的摩爾比為1000:1-1:10,并且所述后處理溶液具有1.5-7的pH值。6.權(quán)利要求1的方法，其中如下維持所述聚合物在所述后處理溶液中的目標(biāo)濃度用各自處于給定速率的一種或多種補(bǔ)充劑溶液補(bǔ)充所述后處理溶液以維持，提高或降低所述聚合物濃度、Al"濃度或兩者的濃度。7.權(quán)利要求1的方法，其中通過(guò)用分別含聚合物和A1"的獨(dú)立的補(bǔ)充劑溶液補(bǔ)充所述后處理溶液維持聚合物和A1"的濃度。8.權(quán)利要求1的方法，其中，在所述處理步驟期間分別測(cè)量所述目標(biāo)鋁和聚合物濃度[Ai":h和[聚合物h，并通過(guò)按預(yù)定速率將以下補(bǔ)充溶液中的一種或多種添加到所述后處理溶液中維持所述目標(biāo)濃度a)具有[聚合物h而且具有0或顯著低于所述[AlWh的鋁離子濃度的溶液，以將所述后處理溶液鋁離子濃度降低到所述[A^h，b)具有[聚合物h而且具有顯著高于所述[Al"h的鋁離子濃度的溶液，以將所述后處理溶液鋁離子濃度提高到所述[Al+"i,c)具有所述[Al+^而且具有顯著高于所述[聚合物h的聚合物濃度的溶液，以將所述后處理溶液聚合物濃度提高到所述[聚合物]i。9.權(quán)利要求1的方法，其中所述支撐體已預(yù)先用硫酸陽(yáng)極化。10.權(quán)利要求1的方法，其中所述處理步驟在20-80。C的溫度下進(jìn)行l(wèi)-60秒。11.權(quán)利要求l的方法，其中所述支撐體以至少0.3g/n^的覆蓋度具有陽(yáng)極氧化物層。12.根據(jù)權(quán)利要求1制備的含鋁基材。13.可成像元件，其包括根據(jù)權(quán)利要求l制備的基材并具有布置在所述基材上的一個(gè)或多個(gè)可成像層。14.權(quán)利要求13的元件，其中所述可成像層對(duì)熱能敏感。15.權(quán)利要求13的元件，其中所述可成像層對(duì)紅外輻射敏感。16.權(quán)利要求13的元件，其中所述可成像層是正性工作可成像層。17.權(quán)利要求13的元件，它是包括布置在所述基材上的單個(gè)可成像層的正性工作可成<象元<牛。18.權(quán)利要求13的元件，它是包括布置在所述基材上的內(nèi)和外可成像層的正性工作可成像元件。19.權(quán)利要求18的元件，其中所述外層包含聚合物粘結(jié)劑，該聚合物粘結(jié)劑是包含衍生自苯乙烯或苯乙烯衍生物的重復(fù)單元和衍生自馬來(lái)酸酐的重復(fù)單元的共聚物、包含衍生自(甲基)丙烯酸酯的重復(fù)單元和衍生自(甲基)丙烯酸的重復(fù)單元的共聚物，或這兩種類型的共聚物的混合物。20.權(quán)利要求13的元件，它是平版印刷板前體，其中所述可成像層是油墨接受性的并且在成像之前不是堿性顯影劑可溶或可分散的。全文摘要通過(guò)謹(jǐn)慎地控制中間層聚合物中的膦酸基濃度和后處理溶液中的鋁(+3)濃度用中間層涂覆具有陽(yáng)極氧化物層的含鋁基材。這些基材當(dāng)用作平版印刷板的部件時(shí)具有改進(jìn)的親水性、平版印刷油墨排斥性和總體改進(jìn)的可印刷性。文檔編號(hào)B41N3/03GK101680096SQ200880018812公開(kāi)日2010年3月24日申請(qǐng)日期2008年5月30日優(yōu)先權(quán)日2007年6月5日發(fā)明者Y·米亞莫托申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司