專利名稱：用于負(fù)性工作平版印刷板的可成像元件和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有改進(jìn)的白光耐受度的可成像元件例如負(fù)性工作平 版印刷板(版)前體。本發(fā)明還涉及這些可成像元件的使用方法。
背景技術(shù)：
輻射敏感性組合物通常用于制備可成像材料，包括平版印刷板前
體。此類組合物通常包括輻射^:感性組分、引發(fā)劑體系和粘結(jié)劑，它們 中的每一種已經(jīng)是提供物理性能、成像性能和圖像特性方面的各種改進(jìn) 的研究焦點(diǎn)。
印刷一反前體領(lǐng)域的最新發(fā)展涉及使用輻射每丈感性組合物，該組合物 可以借助于激光或激光二極管成像，并且更具體地說，可以在印刷機(jī)上 (在機(jī))(on-press)成像和/或顯影。自從激光可以通過計(jì)算機(jī)直接地 控制，激光曝光不要求常規(guī)的卣化銀圖形技術(shù)膜作為中間信息載體(或 "掩模)。用于商購圖像照排機(jī)的高性能激光器或激光二極管通常發(fā)出 波長至少700 nm的輻射，并因此要求該輻射敏感性組合物在電磁波i普的 近紅外或紅外區(qū)中是壽丈感的。然而，其它有用的輻射壽丈感性組合物經(jīng)i殳 計(jì)采用紫外線或可見輻射成像。
存在兩種可能的使用輻射敏感性組合物制備印刷板的方法。對于負(fù) 性工作印刷板，使輻射敏感性組合物中的曝光區(qū)域硬化并在顯影期間洗 刷掉未曝光的區(qū)域。對于正性工作印刷板，將曝光區(qū)域溶于顯影劑并且 未曝光的區(qū)域變成圖像。
各種輻射組合物和可成像元件在美國專利6,309,792 (Hauck等)、 6,893,797 ( Munnelly等)、6,787,281 ( Tao等)和6,899,994 ( Huang等)、 美國專利申請公開2003/01 18939 (West等)和EPl,079,276Al ( Lifka等) 和EP 1,449,650A1 (Goto)中進(jìn)行了描述。
其它負(fù)性工作可成像元件例如在美國專利6,916，595 (Fujimaki等)、 6,702,437( Fujimaki等)和6,727,044( Fujimaki等)、日本Kokai 2000-187322 (Mitsubishi Chemical Co.)和美國專利申請公開2004/0131972 ( Fujimaki 等)、2005/0031986( Kakino等)、2006/0068328( Aimura等)和2006/0199097(Oda等)中進(jìn)行了描述。
負(fù)性工作可成像元件還經(jīng)設(shè)計(jì)帶有對氧滲透提供較低阻隔的外涂 層，例如EP 1,296,187A2 (Oshima)中所述那樣。此類外涂層f然包括 比聚(乙烯醇)更透氧的聚合物。
待解決的問題
在本領(lǐng)域中描述的各種負(fù)性工作組合物和元件具有許多期望的性 能，包括耐顯影和印刷中使用的化學(xué)溶液性、工作時(shí)間、存儲穩(wěn)定性和 成像敏感性。 一些這樣的元件經(jīng)設(shè)計(jì)帶有布置在負(fù)性工作可成像層上的 保護(hù)性外涂層或隔氧層。
然而，仍需要改進(jìn)當(dāng)暴露于環(huán)境室內(nèi)光("白光")下時(shí)這些元件必 須成霧的抗性。成霧通常觀察到為在元件表面上的油墨接受"污跡"，原 因在于可成像層涂層耐得住顯影并當(dāng)不需要它時(shí)仍保留下來。雖然一些 早期的元件被認(rèn)為在環(huán)境照明下具有足夠的抗成霧性，但是大型生產(chǎn)設(shè) 施中的曝光條件難以控制并且消除這種受關(guān)注的潛在問題將是所希望 的。
發(fā)明概述
本發(fā)明提供包括其上具有可成像層的基材的可成像元件，該可成像 層包含
可自由基聚合的組分，
引發(fā)劑組合物，該引發(fā)劑組合物在暴露于成像輻射下時(shí)能夠產(chǎn)生足 以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基，該引發(fā)劑組合物包含硼酸二 芳基碘鎩，
具有連接雜環(huán)基的次曱基鏈的紅外輻射吸收性花青染料，其中所述 次曱基鏈?zhǔn)侵辽?個(gè)碳原子長，和 主聚合物粘結(jié)劑，和
該可成像元件還包括布置在該可成像層上的外涂層，該外涂層主要 包含水解水平等于或小于85%的聚(乙烯醇)。
在可成像元件的一些實(shí)施方案中，基材是電化學(xué)磨版、硫酸陽極化、 聚(乙烯基膦酸)涂布的平版印刷鋁基材，
可自由基聚合的組分包含可自由基聚合的單體或低聚物，200880017816.8
引發(fā)劑組合物包含基于所述可成像層的總干重按0.5-30wt。/。的量存 在的并由以下結(jié)構(gòu)(IB)表示的硼酸二芳基碘牽翁
(IB)
其中X和Y獨(dú)立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或環(huán)烷基，或兩個(gè)或更 多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可以結(jié)合以形成具有各自的苯基的稠合碳環(huán)或雜 環(huán)，條件是在X和Y取代基中或稠環(huán)中的碳原子之和至少是6, p或q是至少l, Ze是由以下結(jié)構(gòu)(IBZ)表示的有機(jī)陰離子
其中Ri、 R2、 R3和R4獨(dú)立地是烷基、芳基、烯基、炔基、環(huán)烷基或雜環(huán) 基，條件是Ri、 R2、 R3和R4中至少3個(gè)是相同或不同的取代或未取代的 芳基，
紅外輻射吸收性花青染料基于所述可成像層的總干重按l-30wt。/。的 量存在并由以下結(jié)構(gòu)(DYE-I)表示
'"、、 個(gè)1, 2'f3, ',、V
'、、^-c+c-c+o; /' 、"' B n '
Rl0' ZP Rii'
(DYE-I)
其中R 、 R2'和R3'獨(dú)立地是氫或鹵素、氰基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、 氨基甲?；?、?；?、?；０被?、烷基氨基、芳基、烷基、環(huán)烷基、芳 氨基、雜芳基、苯硫基、哌嗪基、嗎啉基或硫代四唑基，或RA R2'和
R3'中任何兩個(gè)可以接合在一起或與相鄰的雜環(huán)接合以完成5-至7-元^ 友環(huán)
10
R R或雜環(huán)，Z和Z'獨(dú)立地表示與所示的氮原子形成5-至14-元雜環(huán)所必要的 碳、氮、氧或硫原子，Ru)'和Rn'獨(dú)立地是烷基、環(huán)烷基或芳基，s是至 少3, Z2e是單價(jià)陰離子，和
主聚合物粘結(jié)劑包含基于所述可成像層的總干重按10-90wt。/o的量 存在的聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物的顆粒，和
并且還包含基于所述可成像層的總干重按1.5-70wt。/。的量存在并包 含一種或多種聚合物的副聚合物粘結(jié)劑，所述一種或多種聚合物包含具 有羧基或衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、N-取代的(曱基)丙烯酰胺、苯乙烯或苯乙烯衍生物、乙烯醇縮醛、N-取 代的環(huán)酰亞胺、馬來酸酐、乙烯基^唑、二乙烯基單體、(曱基)丙烯 腈、聚(亞烷基二醇)或聚(亞烷基二醇)(曱基)丙烯酸酯的重復(fù)單 元5 和
外涂層主要包含一種或多種聚(乙烯醇)，其中每一種具有75%且 至多和等于85%的水解水平。
本發(fā)明還提供包括以下步驟的方法
A) 使用成像紅外輻射將本發(fā)明的可成像元件成像曝光，以產(chǎn)生曝 光和未曝光區(qū)域，和
B) 在有或者沒有曝光后烘烤步驟的情況下，將該成像曝光的元件 顯影以僅除去該未曝光區(qū)域。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中，這種方法提供具有平版印刷親水性基材的平 版印刷板，該親水性基材接受潤版水溶液并排斥油墨。
出人意料地發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的負(fù)性工作可成像元件當(dāng)暴露到環(huán)境照明 條件中保持延長的時(shí)間時(shí)(例如，具有600 nm或更小波長的"白光"，在 600 lux下曝光至少2小時(shí))具有改進(jìn)的抗成霧性。此外，找到了一種為 成霧問題提供這種解決方案的方法，而不會(huì)損失成像速度或敏感度。另 外，可成像元件還具有所需的耐化學(xué)品性、工作時(shí)間和保存限期。
通過在可成像元件中使用輻射敏感性組合物獲得了這些優(yōu)點(diǎn)，所述 可成像元件包括特定的紅外輻射敏感性花青染料，并讓特殊的聚(乙烯 醇)作為外涂層或隔氧層中的主要聚合物粘結(jié)劑。有用的花青染料具有 連接兩個(gè)雜環(huán)基的含至少7個(gè)碳原子的次曱基鏈。外涂層中的主要外涂
層聚合物粘結(jié)劑是具有85%或更低的水解水平的聚(乙烯醇)。在沒有 該獨(dú)特的外涂層聚合物粘結(jié)劑的情況下使用該特殊的IR-敏感性花青染料將提供適合的成像速度，但是成霧仍是問題。然而，如果在沒有該特 殊的IR-敏感性花青染料的情況下使用該特殊的外涂層聚(乙烯醇)，則
成霧降低，但是成像速度也降低。因此，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，該特殊IR-敏感性花
青染料和特殊外涂層聚(乙烯醇)的組合解決了成霧問題，而不會(huì)損失 成像速度。從已知的負(fù)性工作可成像元件的認(rèn)識不能預(yù)期從組分的組合 使用獲得這些結(jié)果。
發(fā)明詳述
定義
除了文中另有說明以外，否則當(dāng)在本文中使用時(shí)，術(shù)語"可成l象元 件"、"平版印刷板前體"和"印刷板前體"意味著參考本發(fā)明的實(shí)施方案。
此外，除了文中另有說明以外，本文描述的各種組分例如"主聚合 物粘結(jié)劑"、"引發(fā)劑"、"助引發(fā)劑"、"可自由基聚合的組分"、"紅外輻射 吸收性花青染料"、"副聚合物粘結(jié)劑"、"非離子磷酸酯丙烯酸酯"、"聚(乙 烯醇)"和類似的術(shù)語還涉及這些組分的混合物。因此，冠詞"一個(gè)"、
"一種"和"該"的使用不一定意味著僅涉及單一組分。
此外，除非另有說明，否則百分率是指干重量百分率，例如，wt%
基于總固體或干的層組合物。
對于任何關(guān)于聚合物的術(shù)語的定義說明，請參考International Union of Pure and Applied Chemistry ( "IUPAC")出片反的"Glossary of Basic Terms in Polymer Science", Pure Appl. Chem. 68, 2287 - 2311 ( 1996 )。
然而，任何在本文中明確給出的定義都應(yīng)該祐j人為是決定性的。
"接枝"聚合物或共聚物是指具有分子量至少200的側(cè)鏈的聚合物。 術(shù)語"聚合物"是指包括低聚物的高和低分子量聚合物并且均聚物和
共聚物。
術(shù)語"共聚物"是指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物。 術(shù)語"主鏈"是指聚合物中與許多側(cè)基連接的原子鏈(碳或雜原子)。 此種主鏈的一個(gè)實(shí)例是由一種或多種烯屬不飽和可聚合單體的聚合獲 得的"全碳"主鏈。然而，其它主鏈可以包括雜原子，其中聚合物是通過 縮合反應(yīng)或 一些其它手段形成的。
可成像層可成像元件包括布置在適合的基材上以形成可成像層的紅外(IR)
輻射敏感性組合物?？沙上裨梢杂糜谛枰墒褂眠m合的輻射聚合的 施涂涂層的任何場合，并且尤其是希望除去涂層的未曝光區(qū)域而不是曝
光區(qū)域的場合。IR輻射敏感性組合物可以用于制備可成像元件例如集成 電路的印刷電路板、微光學(xué)器件、濾色器、光掩膜和印刷表格例如下面 將更詳細(xì)定義的平版印刷板前體中的可成像層。
IR輻射敏感性組合物(和可成像層)包括一種或多種可自由基聚合 的組分，其中每一種含有一個(gè)或多個(gè)可以使用自由基引發(fā)聚合的可自由 基聚合基團(tuán)。例如，此類可自由基聚合的組分可以含有一種或多種可自 由基聚合單體或低聚物，它們具有一個(gè)或多個(gè)可加成聚合的烯屬不飽和 基團(tuán)、可交聯(lián)烯屬不飽和基團(tuán)、可開環(huán)聚合基團(tuán)、疊氮基、芳基重氮fl鹽 基、芳基重氮磺酸根或它們的組合。類似地，也可以使用具有此類可自 由基聚合基團(tuán)的可交聯(lián)聚合物。
可以聚合或交聯(lián)的適合的烯屬不飽和組分包括具有一個(gè)或多個(gè)可 聚合基團(tuán)的烯屬不飽和可聚合單體，包括醇的不飽和酯，例如多元醇的 丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯。還可以使用低聚物和/或預(yù)聚物，例如氨基曱 酸酯丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、環(huán)氧化物丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、聚 酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯和不飽和聚 酯樹脂。在一些實(shí)施方案中，可自由基聚合的組分包含羧基。
有用的可自由基聚合的組分包括含可加成聚合烯屬不飽和基團(tuán)(包 括多重丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯基和它們的組合)的可自由基聚合單體 或低聚物，或可自由基交聯(lián)聚合物。可自由基聚合化合物包括衍生自含 多個(gè)可聚合基團(tuán)的脲氨基曱酸酯(曱基)丙烯酸酯或氨基甲酸酯(甲基) 丙烯酸酯的那些。例如，可自由基聚合的組分可以通過使基于六亞曱基 二異氰酸酯的DESMODUR⑧N100脂族多異氰酸酯樹脂(Bayer Corp.， Milford Conn.)與丙烯酸羥乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯反應(yīng)來制備。有 用的可自由基聚合化合物包括可以從Kowa American獲得的NK Ester A國DPH ( 二季戊四醇六丙烯酸酯)，和可以從Sartomer Company, Inc.獲 得的Sartomer399 (二季戊四醇五丙烯酸酯)、Sartomer 355 (二 (三羥 甲基丙烷)四丙烯酸酯)、Sartomer 295(季戊四醇四丙烯酸酯)和Sartomer 415[乙氧基化(20)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯]。
許多其它可自由基聚合化合物是本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的并在相當(dāng)多文獻(xiàn)中進(jìn)4亍了描述，包4舌Photoreactive Polymers:The Science and Technology of Resists. A. Reiser, Wiley， New York, 1989, 102 - 177頁， B. M. Monroe, Radiation Curing:Sdence and Technology, S.P. Pappas, Ed., Plenum, New York, 1992, 399 -440頁；和"Polymer Imaging", A.B. Cohen和P. Walker, Imaging Processes and Material, J.M. Sturge等 (Eds.) , Van Nostrand Reinhold, New York, 1989, 226 —262頁。例 如，有用的可自由基聚合組分還在EP 1，182,033Al(上面指出)中從
段起，和在美國專利6,309,792 (Hauck等)、6,569,603 (Furukawa)和 6,893,797 ( Munnelly等)中進(jìn)行了描述。
除了上述可自由基聚合的組分之外，或代替所述組分，IR輻射敏感 性組合物還可以包括聚合物材料，它們包括與主鏈連接的側(cè)鏈，該側(cè)鏈 包括一個(gè)或多個(gè)可以響應(yīng)于由引發(fā)劑組合物(如下所述)產(chǎn)生的自由基 而聚合(交聯(lián))的可自由基聚合基團(tuán)(例如烯屬不飽和基團(tuán))。每分子 中可以存在至少兩個(gè)這樣的側(cè)鏈。可自由基聚合基團(tuán)(或烯屬不飽和基 團(tuán))可以是與聚合物主鏈連接的脂族或芳族丙烯酸酯側(cè)鏈的一部分。通 常，每分子存在至少2個(gè)且至多20個(gè)這樣的基團(tuán)，或通常每分子2-10個(gè)這 樣的基團(tuán)。
此類可自由基聚合的聚合物還可以包含親水基，包括但不限于，羧 基、磺基或二氧磷基，它們與主鏈直接地連接或作為除可自由基聚合的 側(cè)鏈以外的側(cè)鏈的 一部分連接。
包含可以如此使用的聚合物的有用的市售產(chǎn)品包括Bayhydro1⑧UV WLS2280、 Bayhydrol UVVPLS 2282、 Bayhydrol UV VP LS 2317、 Bayhydrol UV VP LS 2348和Bayhydro1⑧UV XP 2420,它們都可以從 Bayer MatermlScience獲得，以及Laromei"TM LR 8949、 LaromerTM LR 8983 和LaromerTM LR 9005,它們都可以從BASF獲得。
一種或多種可自由基聚合的組分(單體、低聚物或聚合物)可以按 至少10wt。/。且至多70wty。，通常20-50wto/。的量存在于可成像層中，基于 可成像層的總干重?？勺杂苫酆系慕M分與總聚合物粘結(jié)劑(如下所述) 的重量比通常是5:95-95:5，特別是10:卯-90:10,或甚至30:70-70:30。
IR輻射敏感性組合物還包括引發(fā)劑組合物，該引發(fā)劑組合物在該組 合物暴露于成像輻射下時(shí)能夠產(chǎn)生足以引發(fā)所有各種可自由基聚合的 組分的聚合的自由基。引發(fā)劑組合物通常響應(yīng)于紅外成像輻射，這種輻射對應(yīng)于至少700 nm且至多并包括1400nm (通常700-1200 nm )的光譜 范圍。使用適合于所需成像波長的引發(fā)劑組合物。
有用的引發(fā)劑包括由以下結(jié)構(gòu)(IB)表示的那些
(IB)
其中X和Y獨(dú)立地表示卣素基團(tuán)(例如，氟、氯或溴)，取代或未取代 的含l-20個(gè)碳原子的烷基(例如，甲基、氯甲基、乙基、2-曱氧基乙基、 正丙基、異丙基、異丁基、正丁基、叔丁基、所有支鏈和直鏈的戊基、 l-乙基戊基、4-曱基戊基、所有己基異構(gòu)體、所有辛基異構(gòu)體、芐基、 4-甲氧基芐基、對甲基芐基、所有十二烷基異構(gòu)體、所有二十烷基異構(gòu) 體和取代的或未取代的單和多支鏈的和直鏈的卣代烷基)，取代的或未 取代的含l-20個(gè)碳原子的烷氧基(例如，取代或未取代的甲氧基、乙氧 基、異丙氧基、叔丁氧基、(2-羥基十四烷基)氧基和各種其它直鏈和 支鏈的亞烷氧基烷氧基)，取代的或未取代的在碳芳環(huán)上含6-10個(gè)碳原 子的芳基(例如，取代的或未取代的苯基和萘基，包括單和多面代苯基 和萘基)，或取代的或未取代的在環(huán)結(jié)構(gòu)中含3-8個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例 如，取代的或未取代的環(huán)丙基、環(huán)戊基、環(huán)己基、4-曱基環(huán)己基和環(huán)辛 基)。通常，X和Y獨(dú)立地是取代的或未取代的含l-8個(gè)碳原子的烷基、 含l-8個(gè)碳原子的烷氧基或在環(huán)上含5或6個(gè)碳原子的環(huán)烷基，更優(yōu)選地，
碳原子的支鏈烷基)/因此，X和Y可以是相同的或不t同的基團(tuán)，各X基 團(tuán)可以是相同或不同的基團(tuán)，各Y基團(tuán)可以是相同或不同的基團(tuán)。本發(fā) 明同時(shí)考慮"對稱的"和"非對稱的"硼酸二芳基碘鎩，但"對稱的"化合物是 優(yōu)選的(即，它們在兩個(gè)苯環(huán)上具有相同的基團(tuán))。
另外，兩個(gè)或更多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可以結(jié)合以形成具有各自的 苯基的稠合碳環(huán)或雜環(huán)。
X和Y可以在苯環(huán)的任何位置，^旦通常地，它們在4壬一或兩個(gè)苯環(huán) 上的2-或4-位。不論何種類型的X和Y基團(tuán)存在于碘鋪陽離子上，在X和Y取代基中 碳原子之和一般是至少6，并通常是至少8，并至多40個(gè)碳原子。因此， 在一些化合物中， 一個(gè)或多個(gè)X基團(tuán)可以包含至少6個(gè)碳原子，且Y不存 在(q是0)。或者， 一個(gè)或多個(gè)Y基團(tuán)可以包含至少6個(gè)碳原子，且X不 存在(p是0)。此外， 一個(gè)或多個(gè)X基團(tuán)可以包含少于6個(gè)的碳原子，且 一個(gè)或多個(gè)Y基團(tuán)可以包含少于6個(gè)的碳原子，只要X和Y兩者中的碳原 子之和是至少6。同樣，在兩個(gè)苯環(huán)上可以有總共至少6個(gè)碳原子。
在結(jié)構(gòu)IB中，p和q獨(dú)立地是0或l-5的整數(shù)，條件是p或q是至少l。通 常，p和q都是至少l，或p和q中的每一個(gè)是l。因此，應(yīng)該理解的是在苯 環(huán)中不被X或Y基團(tuán)取代的碳原子在那些環(huán)位置上具有氫原子。
Ze是由以下結(jié)構(gòu)(IBz)表示的有機(jī)陰離子
0 、/ 、r4
其中R!、R2、R3和R4獨(dú)立地是除氟代烷基以外的取代的或未取代的含1-12 個(gè)碳原子的烷基(例如，甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁 基、叔丁基、所有戊基異構(gòu)體、2-曱基戊基、所有己基異構(gòu)體、2-乙基 己基、所有辛基異構(gòu)體、2,4,4-三甲基戊基、所有壬基異構(gòu)體、所有癸基 異構(gòu)體、所有十一烷基異構(gòu)體、所有十二烷基異構(gòu)體、甲氧基曱基和千 基)、取代的或未取代的在芳環(huán)中含6-10個(gè)碳原子的碳環(huán)芳基(例如， 苯基、對曱基苯基、2,4-甲氧基苯基、萘基和五氟苯基)，取代的或未 取代的含2-12個(gè)碳原子的烯基(例如，乙烯基、2-甲基乙烯基、烯丙基、 乙烯基千基、丙烯?；投∠；?、取代的或未取代的含2-12個(gè)碳原 子的炔基(例如，乙炔基、2-曱基乙炔基和2,3-丙炔基)、取代的或未 取代的在環(huán)結(jié)構(gòu)中含3-8個(gè)碳原子的環(huán)烷基(例如，環(huán)丙基、環(huán)戊基、環(huán) 己基、4-曱基環(huán)己基和環(huán)辛基)或取代的或未取代的含5-10個(gè)碳、氧、 疏和氮原子的雜環(huán)基(包括芳香族和非芳香族，例如，取代的或未取代 的吡"定基、嘧。定基、p夫喃基、p比p各基、咪唑基、三唑基、四唑基、吲p呆
基、喹啉基、嗝二唑基和苯并^唑基)?；蛘撸琑" R2、 Rg和R4中兩個(gè)
或更多個(gè)可以連在一起形成含硼原子的雜環(huán)，此種環(huán)含至多7個(gè)碳、氮、氧或氮原子。R4至R4基團(tuán)中無一包含鹵素原子尤其是氟原子。
通常地，R^、 R2、 Rs和R4獨(dú)立地是如上限定的取代的或未取代的烷 基或芳基，更通常地，R2、 R3和R4中至少3個(gè)是相同或不同的取代 的或未取代的芳基(例如，取代的或未取代的苯基)。例如，R!、 R2、 Rg和R4全部可以是相同或不同的取代的或未取代的芳基，或全部基團(tuán)是 相同的取代的或未取代的苯基。Z—可以是四苯基硼酸根，其中苯基是取 代的或未取代的(例如，全部是未取代的)。
代表性的硼酸碘鋪化合物包括但不限于，四苯基硼酸4-辛氧基苯基 苯基碘銻、四苯基硼酸[4-[ (2-羥基十四烷基)-氧基]苯基]苯基碘鎩、四 苯基硼酸雙(4-叔丁基苯基)碘f翁、四苯基硼酸4-甲基苯基-4'-己基苯基 碘鋪、四苯基硼酸4-曱基苯基-4'-環(huán)己基苯基碘鎩、四(五氟苯基)硼酸 雙(叔丁基苯基)碘銻、四苯基硼酸4-己基苯基-苯基碘鋪、正丁基三苯 基硼酸4-甲基苯基-4'-環(huán)己基苯基碘f翁、四苯基硼酸4-環(huán)己基苯基-苯基碘 鎩、四苯基硼酸2-甲基-4-叔丁基苯基-4'-曱基苯基碘f翁、四[3, 5-雙(三 氟曱基)苯基]-硼酸4-曱基苯基-4'-戊基苯基碘鎩、四(五氟苯基)硼酸 4-甲氧基苯基-4'-環(huán)己基苯基碘f翁、四(4-氟苯基)硼酸4-曱基苯基-4'-十二烷基苯基碘鎩、四(五氟苯基)硼酸雙(十二烷基苯基)碘鎩和四 (1-咪唑基)硼酸雙(4-叔丁基苯基)碘鋪。在硼酸碘镩引發(fā)劑組合物中 還可以使用兩種或更多種這些化合物的混合物。
通常，可以通過使芳基碘與取代的或未取代的芳烴反應(yīng)，然后用硼 酸根陰離子進(jìn)行離子交換來制備硼酸二芳基碘鋪化合物。各種制備方法 的詳細(xì)內(nèi)容在美國專利6,306,555 (Schulz等)和其中引用的參考文獻(xiàn)， 及Crivello, J.Polymer Sd， Part A: Polymer Chemistry, 37, 4241-4254 (1999)中進(jìn)行了描述。
引發(fā)劑組合物中的產(chǎn)生自由基的化合物通常按至少0.5%且至多并 包括30%,通常至少2且至多并包括20%的量存在于可成像層中，基于可 成像層的總干重。各種引發(fā)劑組分的最佳量可以對各種化合物和希望的見的。
產(chǎn)生自由基的化合物(引發(fā)劑)可以按至少0.5wt。/。且至多并包括 10wt。/。的量(基于輻射敏感性組合物的總固體)單獨(dú)使用或與各種助引 發(fā)劑例如雜環(huán)形巰基化合物結(jié)合使用，所述雜環(huán)巰基化合物包括巰基三唑、巰基苯并咪唑、巰基苯并-惡唑、巰基苯并噻唑、巰基苯并喁二唑、
巰基四唑，例如在美國專利6,884,568 (Timpe等)中描述的那些。有用 的巰基三唑包括3-巰基-l,2,4-三唑、4-曱基-3-巰基-l,2,4-三唑、5-巰基-1-苯基-l,2,4-三唑、4-氨基-3-巰基-l,2,4-三唑、3-巰基-l,5-二苯基-l,2,4-三 唑和5-(對氨基苯基)-3-巰基-1,2,4-三唑。 例如，引發(fā)劑組合物可以包括以下組合
上述硼酸二芳基碘鎩與是例如美國專利6，936,384 (上面指出)中描 述的金屬茂(例如二茂鈦或二茂鐵)的助引發(fā)劑的組合，或上述硼酸二 芳基碘鎩與是上述巰基三唑的助引發(fā)劑的組合。
輻射敏感性組合物通常包括一種或多種紅外輻射吸收性花青染料， 它們吸收成像輻射，或使所述組合物對A^x在上面指出的電磁波譜的IR 區(qū)域中的成像輻射敏感。
這些花青染料具有長度為至少7個(gè)碳原子(至少庚二烯)的次甲基 鏈，該次曱基鏈連接兩個(gè)相同或不同的雜環(huán)基，并通常是含氮雜環(huán)基。 例如，相同或不同的雜環(huán)可以包括兩個(gè)稠環(huán)，其中在至少一個(gè)雜環(huán)基中 的氮原子中至少之一是季氮原子。
例如，這種類型的具有代表性的有用IR-敏感性花青染料可以由以下 結(jié)構(gòu)(DYE-I)限定<formula>formula see original document page 18</formula>其中RA R2'和R3'各自獨(dú)立地表示氬或卣素、氰基、取代或未取代的烷 氧基(含l-8個(gè)碳原子的、直鏈和支鏈的烷氧基)、取代或未取代的芳氧 基(碳環(huán)中含6-10個(gè)碳原子)、取代或未取代的酰氧基(含2-6個(gè)碳原子)、 氨基甲?；⑷〈蛭慈〈孽；⑷〈蛭慈〈孽；０被⑷〈?或未取代的烷基氨基(含至少一個(gè)碳原子)、取代或未取代的碳環(huán)芳基 (芳族環(huán)中含6-10個(gè)碳原子，例如苯基和萘基)、取代或未取代的烷基 (含l-8個(gè)碳原子的、直鏈和支鏈異構(gòu)體)、單環(huán)或稠環(huán)基中含5-10個(gè)碳 原子的取代或未取代的環(huán)烷基、取代或未取代的芳氨基、或取代或未取代的雜芳基(環(huán)中含至少5個(gè)碳和雜原子)?；蛘?，R 、 R2'和R3'基團(tuán)中 任何兩個(gè)可以接合在 一起或與相鄰的雜環(huán)接合以完成相同或不同的5-至 7-元取代或未取代的碳環(huán)或雜環(huán)。另外，RY、 R2'和R3'中一個(gè)或多個(gè)也可 以是取代或未取代的苯硫基、哌嗪基、嗎啉基或硫代四唑基。具體來說， 次甲基鏈的中部碳可以具有這些取代基中之一。
例如，R卩、R2'和R3'獨(dú)立地是氫、取代或未取代的-灰環(huán)芳基和取4戈 或未取代的雜芳基。
Ru)'和Ru'獨(dú)立地是取代或未取代的烷基、環(huán)烷基或芳基。此類基團(tuán) 的可能的取代基包括含至多12個(gè)碳原子的烷氧基，和歡基或磺基。相同 或不同的、取代或未取代的甲基可用于Ru)'和Rn'。
Z和Z'獨(dú)立地表示與所示的碳和氮原子形成相同或不同的取代或未 取代的5-14-元含N雜環(huán)所需要的碳、氮、氧、硫或硒原子，該環(huán)可以包 括兩個(gè)或更多個(gè)稠環(huán)，其中之一是碳環(huán)芳族環(huán)。這些含N雜環(huán)可以進(jìn)一
步被相同或不同的一個(gè)或多個(gè)取代基取代，包括上面對R!'-R3'所限定的那些。
在DYEI結(jié)構(gòu)中，s是至少3， Z2—是單價(jià)陰離子例如卣離子、羧基或 石黃基(包括芳基石黃基)、C1CV、 BF4-、 CF3S(V、 PF6-、 AsF" SbFs—和全 氟乙基環(huán)己基磺酸根。其它陰離子包括含硼平衡離子、曱基苯磺酸、苯 磺酸、曱烷磺酸、對羥基苯磺酸、對氯苯磺酸和離離子。 一些有用的IR-敏感性花青染料包括硼酸根陰離子，例如四-取代的硼酸根陰離子，該取 代基可以是相同或不同的烷基(含1 -20個(gè)碳原子)或芳基(苯基或萘基)， 該基團(tuán)如果需要可以進(jìn)一步被取代。這種類型的尤其有用的含硼平衡離 子包括烷基三芳基硼酸根、二烷基二芳基硼酸根和四芳基硼酸根。這些 含硼平#f離子的實(shí)例例如在EP 438,123A2 ( Murofushi等)中進(jìn)行了描述。
有用的IR-敏感性花青染料也可以使用以下結(jié)構(gòu)(DYE-II)描述
Ar1
(DYE-H)
Rlc
> 一一
RIc
L
II
c，
<D2
c
19其中乂1是氫或鹵素、-忖？112或-乂2丄1基，或由以下結(jié)構(gòu)(XA)表示的基
團(tuán)
(Xa)
其中Ph表示取代或未取代的苯基，X"表示氧基或硫基，！^表示取代或未 取代的含1-12個(gè)碳原子的烴基、取代或未取代的環(huán)中含至多12個(gè)原子的 雜芳基或取代或未取代的環(huán)中含至多12個(gè)原子的非芳族雜環(huán)基，Ra表示 相同或不同的烷基、芳基、氨基或鹵素取代基中的一個(gè)或多個(gè)，Z^如 上面所限定。
y^口yz表示相同或不同的硫原子或取代或未取代的亞曱基(例如二 烷基亞甲基)。
另夕卜，A一和A—是相同或不同的取代或未取代的苯基、萘基或蒽基。 可能的取代基包括含至多12個(gè)碳原子的烷基、環(huán)烷基或芳基，卣基和含 至多12個(gè)碳原子的烷氧基或芳氧基。
在結(jié)構(gòu)(DYE-n)中，R6'和R7'獨(dú)立地表示取代或未取代的含至多12 個(gè)碳原子的烷基、環(huán)烷基或芳基，或它們可以結(jié)合形成取代或未取代的 5-或6-元碳環(huán)。
R4'、 R5'、 Rs'和r9'獨(dú)立地是氫或取代或未取代的含至多12個(gè)碳原子 的烷基、環(huán)烷基或芳基，并且在許多實(shí)施方案中，各自是氫。
Rn)'和Rn'獨(dú)立地是取代或未取代的烷基、環(huán)烷基或芳基。此類基團(tuán) 的可能的取代基包括含至多12個(gè)碳原子的烷氧基，和羧基或磺基。相同 或不同的、取代或未取代的甲基可用于Ru)'和Ru'。
有用的IR-敏感性花青染料(包括代表性的IR染料)的更多細(xì)節(jié)在美 國專利7,135,271 (Kawauchi等)和第12欄(第45-51行)中引用的參考 文獻(xiàn)中進(jìn)行了描述，本文中對這種IR花青染料描述和第12-14欄中的代表 性化合物引用了該欄。另外，有用的IR染料包括但不限于以下化合物， 以及下面實(shí)施例中所示和4吏用的稱為"66e "、 S0391、 S0507、 S0726、 S0929和S0930的IR染料<formula>formula see original document page 21</formula><formula>formula see original document page 22</formula><formula>formula see original document page 23</formula>
紅外輻射敏感性花青染料可以按一般至少1%且至多并包括30%,通 常至少2%且至多并包括15%的量存在于輻射敏感性組合物中，基于可成 像層的總干重。為此需要的具體量對本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的，這取 決于所使用的具體化合物。
可成像層包括一種或多種性質(zhì)上是顆粒的主聚合物粘結(jié)劑。 有用的主聚合物粘結(jié)劑是分布(通常均勻地)在整個(gè)可成像層中的 顆粒狀聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物。這些雜化物中的每一種具有 50,000-500,000的分子量并且顆粒具有10-10,000 nm (優(yōu)選30-500 nm,更 優(yōu)選30-150 nm)的平均顆粒尺寸。這些雜化物性質(zhì)上可以是"芳族"或" 脂族"的，這取決于它們的制造中使用的具體反應(yīng)物。也可以使用兩種 或更多種聚(氨基曱酸酯-丙烯酸系)雜化物的顆粒的共混物。例如，可 以使用Hybridu, 570聚合物分散體與Hybridur⑧870聚合物分散體的共混 物。
還希望聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物顆粒在以下試驗(yàn)中保持不
溶
將0.1g顆粒在2-丁氧基乙醇或4-羥基-4-甲基-2-戊酮的10g( 1%) 80% 的水溶液(20%水)中在20。C下振動(dòng)24小時(shí)。
一般而言，可以通過使過量的二異氰酸酯與多元醇反應(yīng)，并將所得 的聚氨酯預(yù)聚物分散在水中制備聚(氨基甲酸S旨-丙烯酸系)雜化物。在 一些實(shí)施方案中，所述預(yù)聚物含有羧基。然后將所述預(yù)聚物與一種或多 種乙烯基單體例如丙烯酸酯或苯乙烯或取代的苯乙烯單體混合。將叔胺 添加到該混合物中并將它們分散在水中，并添加油溶性引發(fā)劑以開始聚 合。將所得的聚合物雜化物分散為膠體顆粒。這種分散體不只是聚氨酯 分散體和丙烯酸系乳液的混合物或共混物。氨基曱酸酯和丙烯酸系聚合 并行地完成。這種丙烯酸系-氨基甲酸酯雜化物分散體可以陰離子穩(wěn)定 化。它還可以不含N-甲基-p比咯烷酮。這些分散體的合成制造方法例如，提供在美國專利3,684,758 ( Homg 等)、4,644,030 ( Loewrigkeit等)和5,173，526 ( Vijayendran等)中和由 Galgoci等提供在JCT CoatingsTech. 2 ( 13 ) , 28-36 ( 2005年2月)中。
一些聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物可從Air Products and Chemicals, Inc. (Allentown, PA)以分散體形式商購，例如，作為聚(氨 基曱酸酯-丙烯酸系)雜化物顆粒的聚合物分散體Hybridu^ 540、 560、 570、 580、 870、 878、 880商購。這些分散體一4殳包括在適合的水介質(zhì) 中的至少30%固體分的聚(氨基曱酸酯-丙烯酸系)雜化物顆粒，所述水 介質(zhì)還可以包括市售的表面活性劑、消泡劑、分散劑、防腐劑和任選的 顏料和水混溶性有機(jī)溶劑。關(guān)于每種市售Hybridu^聚合物分散體的更 多細(xì)節(jié)可以通過訪問Air Products and Chemicals, Inc.網(wǎng)址獲4f 。
主聚合物粘結(jié)劑一般按至少10%且至多90 %,通常10-70%的量存在 于輻射敏感性組合物中，基于總可成像層干重。這些粘結(jié)劑可以占所有 聚合物粘結(jié)劑(主聚合物粘結(jié)劑加上任何副聚合物粘結(jié)劑)的干重的至 多100%。
除了主聚合物粘結(jié)劑之外還可以在可成像層中使用附加的聚合物 粘結(jié)劑("副"聚合物粘結(jié)劑)。此類聚合物粘結(jié)劑可以是在本領(lǐng)域中已
合物粘結(jié)劑可以按1.5-70wt。/。，通常1.5-40%的量存在，基于可成像層的 干涂重量，并且它可以占所有聚合物粘結(jié)劑干重的30-60wt%。
副聚合物粘結(jié)劑可以是勻質(zhì)的，即溶解中涂料溶劑中，或可以作為 離散顆粒存在。此類副聚合物粘結(jié)劑包括但不限于，(甲基)丙烯酸和 酸酯樹脂[例如(曱基)丙烯酸酯]、聚乙烯醇縮醛、酚醛樹脂、衍生自 苯乙烯、N-取4戈的環(huán)酰亞胺或馬來酸肝的聚合物，例如EP 1,182,033 (Fujimaki等)和美國專利6,309,792 ( Hauck等)、6,352,812 ( Shimazu 等)、6,569,603 (Furukawa等)和6,893J97 ( Munnelly等)中描述的那 些。還有用的是美國專利7,175,949 (Tao等)中描述的乙烯基咔唑聚合 物，和美國專利7,279,255 (Tao等)中描述的具有側(cè)乙烯基的聚合物。 聚乙二醇甲基丙烯酸酯/丙烯腈/苯乙烯的呈顆粒形式的共聚物，衍生自
羧基苯基曱基丙烯酰胺/丙烯腈/曱基丙烯酰胺/N-苯基馬來酰亞胺的溶解 共聚物，衍生自聚乙二醇曱基丙烯酸酯/丙烯腈/乙烯基。卡唑/苯乙烯/曱基 丙烯酸的共聚物，衍生自N-苯基馬來酰亞胺/曱基丙烯酰胺/甲基丙烯酸
24的共聚物，衍生自氨基曱酸酯-丙烯酸系中間體A (對甲苯磺?；惽杷?酯和曱基丙烯酸羥乙酯的反應(yīng)產(chǎn)物)/丙烯腈/N-苯基馬來酰亞胺的共聚 物和衍生自N-甲氧基甲基甲基丙烯酰胺/曱基丙烯酸/丙烯腈/正苯基馬來 酰亞胺的共聚物是有用的。
可成像層可以進(jìn)一步包含一種或多種^^壽酸酯丙烯酸酯，它們中的每
一種具有一般大于200,通常至少300且至多并包括1000的分子量。所謂 的"磷酸酯(曱基)丙烯酸酯"還指"磷酸酯甲基丙烯酸酯"及其它在丙烯 酸酯結(jié)構(gòu)部分中的乙烯基上具有取代基的衍生物。
每個(gè)磷酸酯結(jié)構(gòu)部分通過脂族鏈[即-(脂族-0 )-鏈]例如由至少一個(gè) 亞烷氧基單元組成的亞烷氧基鏈[即-(亞烷基-O ) m-鏈]與丙烯酸酯結(jié)構(gòu)
并且m是l-10。例如，亞烷氧基鏈包含亞乙氧基單元，m為2-8，或m為 3-6。特定化合物中的亞烷氧基鏈長度上可以是相同或不同并且具有相同 或不同的亞烷基基團(tuán)。
有用的磷酸酯(甲基)丙烯酸酯可以由以下結(jié)構(gòu)(I)表示
P (=0) (OM) n (OR) 3—n (I) 其中n是l或2， M是氫或一價(jià)陽離子(例如堿金屬離子、銨陽離子，包括 含l-4個(gè)氫原子的陽離子)。例如，有用的M陽離子包括但不限于鈉、鉀、 -NH4、 -NH (CH2CH2OH) 3—-NH3 ( CH2CH2OH)。當(dāng)n是2時(shí)，M基團(tuán) 是相同或不同的。其中M是氫的化合物是尤其有用的。
R基團(tuán)獨(dú)立地是由以下結(jié)構(gòu)(II)表示的相同或不同的基團(tuán)
仰
其中I^和R"獨(dú)立地是氫或卣素(例如氯或溴)或取代或未取代的含l-6 個(gè)碳原子的烷基(例如曱基、氯代甲基、甲氧基甲基、乙基、異丙基和 叔丁基)。在許多實(shí)施方案中，W和W之一或兩者是氫或曱基，在一些 實(shí)施方案中，Ri是氬和F^是甲基)。
W是在鏈中含至少2個(gè)碳或氧原子，或碳和氧原子的組合的脂族基， q是l-10。因此，W可以包括一個(gè)或多個(gè)含l-8個(gè)碳原子的亞烷基，它們
o=c
Rlc被一個(gè)或多個(gè)氧原子(氧基)、羰基、氧羰基或羰氧基插入。例如，一 個(gè)這樣的脂族基是亞烷基羰氧基亞烷基。包括在脂族基中的有用的亞烷 基含2-5個(gè)碳原子并且形式上可以是支鏈或直鏈的。
R基團(tuán)還可以獨(dú)立地是由以下結(jié)構(gòu)(IIa)表示的相同或不同的基團(tuán)
其中R1、 R"和q如上面所限定，尺3至116獨(dú)立地是氬或取代或未取代的含 l-6個(gè)碳原子的烷基(例如甲基、曱氧基甲基)、乙基、氯代曱基、羥甲 基、乙基、異丙基、正丁基、叔丁基和正戊基)。通常，rS至R^蟲立地 是氬或甲基，在大多數(shù)實(shí)施方案中，都是氫。
在結(jié)構(gòu)II和IIa中，q是l誦10,或2-8,例如3-6。
可用于本發(fā)明的代表性磷酸酯(曱基)丙烯酸酯包括但不限于，乙 二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(可以從Aldrich Chemical Co.獲得)，下面所 示的曱基丙烯酸2-羥乙酯的磷酸酯(可從Nippon Kayaku (Japan)作為 Kayamer PM-2獲得)，也在下面所示的二 (己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸2-羥 乙酯)的石壽酸酯(可作為Kayamer PM-21 ( Nippon Kayaku, Japan)獲得) 和也在下面所示的含4-5個(gè)乙氧基的聚乙二醇曱基丙烯酸酯磷酸酯(可從
Uni-Chemical Co., Ltd. (Japan)作為Phosmer PE獲得)。其它有用的非 離子^ 壽酸酯丙烯酸酯也顯示如下。
Phosmer PE ( n=4或5 )<formula>formula see original document page 27</formula><formula>formula see original document page 28</formula>氧基化(30)雙酚A二丙烯酸酯)和SR494 (乙氧基化(5)季戊四醇四 丙烯酸酯)和類似的化合物，它們都可以從Sartomer Company, Inc.獲得。 在一些實(shí)施方案中，主添加劑可以是"非反應(yīng)性的"，這是指它不含可聚 合乙烯基基團(tuán)。
可成像層還可以按至多并包括20wt。/o的量包括是聚(乙烯醇)、聚 (乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯基咪唑)或聚酯的"副添加劑"，基于可 成像層的總干重。
可成像層還可以按常規(guī)量包括各種任選的化合物，包括但不限于， 分散劑、保濕劑、殺生物劑、增塑劑、用于可涂覆性或其它性能的表面 活性劑、增粘劑、允許編寫的圖像可見的染料或著色劑(例如結(jié)晶紫、 曱基紫、乙基紫、維多利亞藍(lán)、孔雀綠和亮綠)、pH值調(diào)節(jié)劑、干燥劑、 消泡劑、防腐劑、抗氧化劑、顯影助劑、流變性改進(jìn)劑或它們的組合， 或常用于平版印刷技術(shù)的任何其它附加物。有用的稠化劑包括羥基丙基 纖維素、羥乙基纖維素、羧曱基纖維素和聚(乙烯基吡咯烷酮)。
可成像元件
可以通過將上述輻射敏感性組合物適當(dāng)?shù)赝扛驳竭m合的基材上形 成可成像層來形成可成4象元件?？梢栽谕扛草椛鋲壅筛行越M合物之前4姿下 述各種方法處理或涂覆這種基材以改進(jìn)親水性。通常，僅存在含輻射敏 感性組合物的單個(gè)可成像層。如果基材已經(jīng)被處理而提供用于改進(jìn)粘附 性或親水性的"中間層"，則將所涂的可成像層布置在其上，但是這些中 間層不認(rèn)為是"可成像層"。
元件還包括布置在可成像層上的所謂的外涂層(亦稱"氧不透性面 涂層"或"隔氧層")。此類外涂層主要包含一種或多種聚(乙烯醇)作為 主要的聚合物粘結(jié)劑，它們中每一種具有至多85%,通常60且至多并包 括85%,更通常75且至多并包括85%的水解水平。所謂的"水解水平"是 指聚合物中已經(jīng)轉(zhuǎn)變成羥基的乙酸酯結(jié)構(gòu)部分的具體百分率。因此，使 乙酸乙烯酯聚合而形成聚(乙酸乙烯酯)并使用氬氧化物(通常氫氧化 鈉或鉀)將乙酸酯基轉(zhuǎn)化成羥基。
雖然上述聚(乙烯醇)可以占總外涂層干重的至多100%,但是通常 它們占總外涂層干重的至少60%且至多95%。外涂層因此可以包括至多 40wt。/。其它組分，它們包括但不限于，其它聚合物粘結(jié)劑例如聚(乙烯基吡咯烷酮)，聚(乙烯亞胺)，聚(乙烯基咪唑)，乙烯基吡咯烷酮、 乙烯亞胺和乙烯基咪唑中兩種或更多種的共聚物和此類聚合物的混合 物，以及陽離子、陰離子和非離子潤濕劑或表面活性劑，流動(dòng)改進(jìn)劑或 增稠劑，消泡劑，著色劑，顆粒例如氧化鋁和二氧化硅，和殺生物劑。
關(guān)于這些附加物的細(xì)節(jié)提供在WO 99/06890 ( Pappas等)中。
干外涂層重量一般是至少0.1g/n^且至多并包括4g/m2,通常 l-2.5g/m2。
可以如下將外涂層布置在可成像層上將含在適合的溶劑或溶劑混 合物(例如異丙醇、水或兩者)中的所需聚(乙烯醇)和任何其它組分 的涂料制劑施涂到干可成像層上，并進(jìn)行適合的干燥程序。代表性的涂 料制劑和它們的施涂方法在下面實(shí)施例中進(jìn)行了描述。
基材通常具有親水性表面，或至少具有比成^f象側(cè)上所施加的可成傳_ 層更加親水性的表面?；陌ㄖС煮w，其可以由常用于制備可成像元 件例如平版印刷板的任何材料組成。它通常呈片材、膜或箔片(或網(wǎng)幅) 形式，并且在使用條件下是強(qiáng)，穩(wěn)定和撓性的并且抗尺寸變化以致顏色 記錄將登記全色圖象。通常，支持體可以是任何自支撐材料，包括聚合 物膜(例如聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、纖維素酯聚合物和聚苯乙烯膜)， 玻璃，陶瓷，金屬片或箔或剛性紙(包括樹脂涂覆和敷金屬的紙)或任 何這些材料的疊片(例如鋁箔疊到聚酯薄膜上的疊片)。金屬支持體包 括鋁、銅、鋅、鈦和它們的合金的片材或箔片。
聚合物薄膜支持體可以在一個(gè)或兩個(gè)平整表面上用"次(subbing)" 層改進(jìn)以提高親水性，或者紙支持體可以類似地被涂覆以提高平面性。 替代性層材料的實(shí)例包括但不限于，烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅 烷、縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和環(huán)氧基官能化聚合物，以及鹵化 銀感光薄膜中使用的常規(guī)親水性替代性材料(例如明膠及其它天然產(chǎn)生 和合成的親水膠體和乙烯基聚合物，包括偏二氯乙烯共聚物)。
一種有用的基材由鋁支持體組成，其可以使用本領(lǐng)域中已知的技 術(shù)，包括通過物理(機(jī)械)磨版、電化學(xué)磨版、化學(xué)磨版的某種類型的 打磨，通常接著酸陽極化加以處理?？梢酝ㄟ^物理或電化學(xué)磨版打磨鋁 支持體，然后使用磷酸或硫酸和常規(guī)程序加以陽極化。有用的親水性平 版印刷基材是以電化學(xué)方式磨版并磷酸或辟u酸陽極化的鋁支持體，該支 持體提供用于平版印刷的親水性表面。鋁支持體的硫酸陽極化 一 般在表面上提供1.5 - 5 g/m2 ，更通常 3-4.3g/n^的氧化物重量(覆蓋度)。磷酸陽極化一般在表面上提供 1.5-5g/m2,更通常l-3g/n^的氧化物重量。當(dāng)用于石危酸陽極4b時(shí)，更高的 氧化物重量(至少3g/m2)可以提供更長的印刷機(jī)壽命。
中間層可以通過用例如硅酸鹽、糊精、氟化鉀鋯、六氟硅酸、聚(乙 烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物、聚[(甲基)(丙烯酸)] 或丙烯酸共聚物處理鋁支持體而形成以提高親水性。此外，可以用^l酸 鹽溶液處理鋁支持體，該磷酸鹽溶液可以進(jìn)一步含有無機(jī)氟化物(PF)。 可以將鋁支持體電化學(xué)磨版、磷酸陽極化并用PVPA或PF使用改進(jìn)表面 親水性的已知程序處理。
基材的厚度可以改變但是應(yīng)該足以承受印岸'J的磨損和足夠薄以巻 繞印版。有用的實(shí)施方案包括厚度為至少100(im且至多并包括700nm的 經(jīng)處理的鋁箔。
基材的背面(非成像側(cè))可以涂有抗靜電劑和/或滑動(dòng)層或消光層以 改進(jìn)可成像元件的操作和"觸感"。
基材也可以是其上具有可成像層的圓柱形表面，因此是印刷機(jī)的組 成部分。此種成像筒體的使用例如在美國專利5,713,287 (Gelbart)中進(jìn) 行了描述。
可以4吏用任^f可適當(dāng)?shù)膇殳備和程序，例如旋涂、刀涂、凹版涂布、才莫 涂、槽涂、棒涂、線桿涂、輥涂或擠出料斗涂將含上述組分著輻射敏感 性組合物作為在涂料液體中的溶液或分散體涂覆到基材上。也可以通過 噴涂到適合的支持體(例如印刷機(jī)上印刷筒)上來涂覆組合物。
此類制造方法的示例是在包括水、有機(jī)溶劑[例如包括1 -甲氧基丙-2-醇的二醇醚、曱基乙基酮(2-丁酮)、曱醇、乙醇、l-曱氧基-2-丙醇、 異丙醇、丙酮、"丁內(nèi)酯、正丙醇、四氫吹喃及本領(lǐng)域中容易知道的其 它，以及它們的混合物]、或其混合物的適合的涂料溶劑中將可自由基聚 合的組分、主聚合物粘結(jié)劑、引發(fā)劑組合物、IR-敏感性花青染料和輻射 敏感性組合物的任何其它組分混合，將所得的溶液施涂到基材上，并通 過在適合的干燥條件下蒸發(fā)除去溶劑。 一些代表性的涂料溶劑和可成4象 層配方在下面實(shí)施例中進(jìn)行了描述。在適當(dāng)干燥之后，可成像層的涂層 重量一般是至少0.1 g/n^且至多并包括5g/n^或至少0.5g/n^且至多并包括或在干燥操作期間變形。
也可以在可成像層之下存在層以提高可顯影性或充當(dāng)隔熱層。該底 層應(yīng)該可溶或至少可分散在顯影劑中并且通常具有較低的熱導(dǎo)系數(shù)。
可以通過常規(guī)擠出涂覆方法由各自的層組合物的熔融混合物施加 各種層。通常，這些熔融混合物不包含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
各種層配方的施加之間可以采用中間干燥步驟，以在涂;f隻其它配方 之前除去溶劑。在常^L時(shí)間和溫度下的干燥步驟還可以幫助防止各種層 的混合。
一旦已經(jīng)在基材上施加并干燥了各種層，就可以將可成像元件封裝 在顯著抑制濕氣往返于可成像元件轉(zhuǎn)移的不透水材料中。
所謂的"封裝"是指以上表面和下表面和所有邊緣都在不透水片材內(nèi) 的方式包裹、包覆、包封或包含可成像元件。因此， 一旦被封裝，則可 成像元件均不暴露于環(huán)境中。
有用的不透水片材包括但不限于，塑料膜、金屬箔和防水紙，它們 通常呈片材形式并且是足夠撓性的以緊密地順應(yīng)可成像元件(或下面所 指出的它們的堆疊體)的形狀，包括表面中的凹凸。通常，不透水片材 與可成像元件(或其堆疊體)緊密接觸。另外，這種材料可以是足夠緊 密或密封的，或同時(shí)那樣，以致對濕氣往返于可成像元件的移動(dòng)或轉(zhuǎn)移 提供足夠的阻隔。有用的不透水材料包括塑料膜例如由低密度聚乙烯、 聚丙烯和聚(對苯二甲酸乙二醇酯)組成的膜，金屬箔例如鋁箔，和防 水紙例如涂有聚合物樹脂或?qū)訅河薪饘俨募?例如紙襯的鋁箔)。另 外，可以將不透水片材的邊緣沿著可成像元件的邊緣折疊并用適合的密 封裝置例如密封帶和粘合劑密封。
"顯著抑制"濕氣往返于可成像元件的轉(zhuǎn)移，是指在24小時(shí)期間內(nèi)可
成像元件既不損失又不增益至多0.01g水/m2?？梢酝瑫r(shí)在真空下封裝或 包裹可成像元件(或堆疊體)以除去大部分空氣和濕氣。除了真空或代 替真空，可以控制可成像元件的環(huán)境(例如，濕度)(例如到小于20% 的相對濕度)，和可以讓干燥劑與可成像元件(或堆疊體)連接。
例如，可以用作為可成像元件的堆疊體的 一 部分的不透水片材封裝 可成像元件，該堆疊體含有封裝在一起的至少5個(gè)可成像元件，更通常 至少100或至少500個(gè)可成i"象元件。可能希望在堆疊體的頂部和底部4吏用 "虛設(shè)"、"報(bào)廢"或非光敏性元件以改進(jìn)包裹?；蛘?，可以將可成像元件 32以巻材的形式封裝，該巻材隨后可以切成單個(gè)元件。
一般地，此種巻材
具有至少10001112的可成像表面，通常至少30001112的可成{象表面。
可以通過隔離材料，例如隔離紙或織物("襯紙")將巻材的堆疊體 或相鄰螺旋形物中的相鄰可成像元件分開，該隔離材料可以上膠或涂覆 蠟或樹脂(例如聚乙烯)或無機(jī)顆粒。許多有用的隔離材料是可商購的。 它們 一般具有小于8%或通常小于6%的水分含量。
成像條件
在使用過程中，將可成像元件暴露于在700-1500 nm波長下的適合的 成像或曝光輻射源例如近紅外線或紅外輻射中，這取決于輻射敏感性組 合物中存在的紅外輻射吸收性花青染料。例如，可以使用成像或曝光輻 射，例如在至少750 nm且至多并包括1400 nm,通常至少700 nm且至多 并包括1200 nm的波長下的紅外激光進(jìn)行成像。如果需要的話可以使用 處于多波長下的成像輻射同時(shí)進(jìn)行成像。
用來將可成像元件曝光的激光通常是二極管激光，原因在于二極管 激光系統(tǒng)的可靠性和低的維護(hù)，但是也可以使用其它激光例如氣體或固 體激光。激光成像的功率、強(qiáng)度和曝光時(shí)間的組合對本領(lǐng)域技術(shù)人員將 是顯而易見的。當(dāng)前，可商購的圖像照排機(jī)中使用的高性能激光器或激 光二極管發(fā)射波長至少800 nm且至多并包括850 nm或至少1060且至多 并包括1120 nm的紅外輻射。
成傳_設(shè)備可以4又發(fā)揮版照排才幾作用或它可以直接地？I入到平版印 刷機(jī)中。在后一種情況下，可以在成^象和顯影之后立即開始印刷，從而 顯著地減少印刷機(jī)安裝時(shí)間。成像設(shè)備可以配置為平板式記錄器或鼓式 記錄器，其中可成像構(gòu)件安裝到鼓的內(nèi)或外圓柱表面。有用的成像設(shè)備 的實(shí)例可作為Creo Trendsetter 圖像照排才幾從Eastman Kodak Company (Burnaby, British Columbia, Canada )獲得，其包括發(fā)射波長830nm的近 紅外線輻射的激光二極管。其它適合的成像源包括在1064 nm的波長下
和Screen PlateRite 4300系列或8600系列版照排機(jī)(可以從Screen, Chicago, IL獲得)。其它有用的輻射源包括可以用來使元件成像的直接 成像印刷機(jī)，同時(shí)它與印刷板筒體附接。適合的直接成像印刷機(jī)的實(shí)例 包括Heidelberg SM74-DI印刷機(jī)(可以從Heidelberg, Dayton, OH獲得)。用紅外輻射成〗象一^:可以在至少30 mJ/cn^且至多并包括500 mJ/cm2,通常至少50mJ/cn^且至多并包括300 mJ/cm2的成像能量下進(jìn)行， 這取決于可成像層的敏感性。
雖然激光成像在本發(fā)明實(shí)踐中是期望的，但是可以通過以成像方式 提供熱能的任何其它手段提供成像。例如，可以使用耐熱頭(熱敏打印 頭)以所謂的"熱敏打印"完成成像，例如美國專利5,488,025 (Martin等) 所述。熱打印頭可商購(例如,Fujitsu Thermal Head FTP-040 MCSOOl 和TDK Thermal Head F415HH7-1089)。
顯影和印刷
在成像之后且在顯影之前有或者沒有曝光后烘烤步驟的情況下，可 以使用常規(guī)加工和含水堿性或含有機(jī)溶劑的顯影劑將成像元件"脫印刷 機(jī)(脫機(jī))"顯影?；蛘?，可以如以下更詳細(xì)描述的那樣"在機(jī)"顯影，或 成像和顯影成像元件。
對于脫印刷機(jī)顯影，含水堿性顯影劑組合物通常包括一種或多種選 自表面活性劑、螯合劑(例如，亞乙基二胺四乙酸的鹽)、有機(jī)溶劑(例 如，千醇)和堿性組份(例如，無機(jī)偏硅酸鹽、有機(jī)偏硅酸鹽、氬氧化 物、碳酸氬鹽、有機(jī)胺和三磷酸鈉)的成分。堿性顯影劑的pH值通常是 至少8且至多并包括14。通常使用常規(guī)沖洗條件將成像元件顯影。
也可以使用常用于常規(guī)負(fù)性工作元件的顯影劑。此類顯影劑通常是 含可混溶或可分散在水、表面活性劑、堿性劑、及其它添加劑例如螯合 劑、消泡劑和殺藻劑中的有機(jī)溶劑的單相溶液。此類含水堿性顯影劑的 pH值通常小于12,通常在7-12的范圍內(nèi)。有用的有機(jī)溶劑包括苯酚與環(huán) 氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物[例如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)],千 醇，單、二或三乙二醇和單、二或三丙二醇與含6或更少》友原子的酸的 酯，和單、二或三乙二醇，二乙二醇和單、二或三丙二醇與含6或更少 碳原子的烷基的醚，例如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。有機(jī)溶劑通常以 0.5-15%的量存在，基于總顯影劑重量。
Developer 980、 SP 200 Developer、 "二^^一"Developer、 ProNeg D-501 Developer、 955 Developer和956 Developer (都可以從Eas加an Kodak Company獲得)。也可以使用常用于顯影常規(guī)正性工作元件的顯影劑。這些顯影劑通常含有堿性試劑(例如堿金屬硅酸鹽或偏珪酸鹽、堿金屬氫氧化物、堿金屬三磷酸鹽和堿金屬碳酸鹽)和任選的添加劑例如表面活性劑、防腐劑、螯合劑、消泡劑和涂層防護(hù)劑。這些顯影劑一般具有至少ll,通常
至少13的pH值。這類有用的顯影劑包括3000 Developer、 9000 Developer、GOLDSTAR Developer、 GREENSTAR Developer、 ThermalPro Developer、PROTHERM Developer 、 MX1813 Developer 、 TCD-300 Developer和MX1710 Developer (都可以從Eastman Kodak Company獲得)。
通常，通過用含顯影劑的涂覆器摩擦或擦拭外層將堿性顯影劑涂覆到成像元件上。或者，可以用顯影劑刷成像元件或可以通過用足夠除去曝光區(qū)域的力通過噴涂外層來施加顯影劑。同樣，可以將成4象元件浸于顯影劑中。在一切情況下，在平版印刷板中產(chǎn)生顯影的圖像，該印刷板具有優(yōu)異的耐印刷間化學(xué)品'l"生。
在脫印刷才幾顯影之后，可以用水漂洗成像元件并纟姿適合的方式干燥。還可以用常規(guī)的樹膠溶液(例如阿拉伯膠退敏溶液)處理干燥的元件。此外，可以進(jìn)行后烘烤操作，進(jìn)行或不進(jìn)行覆蓋或泛射暴露到UV
或可見光輻射中?；蛘撸梢赃M(jìn)行覆蓋uv或可見光輻射曝光，而沒有后烘烤操作。
可以通過將平版印刷油墨和潤版溶液涂覆到成像并顯影的元件的
印刷面上進(jìn)行印刷。該潤版溶液被未成像區(qū)域，即親水性基材的由成像
和顯影步驟揭露的表面吸收，并且油墨被成像層的成像(未除去)區(qū)域
吸收。然后將該油墨轉(zhuǎn)移至適合的接收材料(例如布、紙、金屬、玻璃
或塑料)而在其上提供圖像的所需壓印。如果需要的話，可以使用中間"轉(zhuǎn)印布"輥來將油墨從成像構(gòu)件轉(zhuǎn)移到接收材料。如果需要的話，在壓
印之間使用常規(guī)的清潔工具清潔成像構(gòu)件。
本發(fā)明的一些可成像元件經(jīng)設(shè)計(jì)用于"在機(jī)"顯影。這類顯影避免使用上述顯影液。將成像元件直接安裝到印刷機(jī)上，其中在初始壓印時(shí)通過適合的潤版溶液、平版印刷油墨或這兩種的組合除去可成像層中的未
曝光區(qū)域。含水潤版溶液的典型成分包括pH值緩沖物、減敏感劑、表面活性劑和濕潤劑、保濕劑、低沸點(diǎn)溶劑、殺生物劑、消泡劑和多價(jià)螯合劑。潤版溶液的代表性實(shí)例是Varn Litho Etch 142 W + Vara PAR( alcoholsub)(可以,人Vara International, Addison, IL獲4尋)。提供以下實(shí)施例來說明本發(fā)明的實(shí)施，但是在任何情況下都沒有以任何方式限制本發(fā)明的意圖。
實(shí)施例
除非下面另作說明，實(shí)施例中使用的化學(xué)組分可以從一種或多種商
業(yè)渠道例如Aldrich Chemical Company ( Milwaukee, WI)獲得。實(shí)施例和用于評價(jià)的分一斤方法中4吏用的組分和材沖十如下圖 <象清洗劑/防腐劑水溶液可以/人Eastman Kodak Company(Rochester, NY )獲得。
Bayhydrol UV VP LS 2280是可以從Bayer MaterialScience獲得的
3 9 wt。/。氨基甲酸酯丙烯酸酯水性分散體。BLO表示Y-丁內(nèi)酯。
Elvanol 5105是從Dupont ( Wilmington, DE )獲得的聚(乙烯醇)。FluorNTM 2卯0是從Cytonix Corporation ( Beltsville, MD )獲得的氟表面活性劑。
Hybridur 580是從Air Products and Chemicals, Inc. ( Allentown, PA )獲得的氨基曱酸酯-丙烯酸系雜化聚合物分散體(40%)。
IB05表示四苯基硼酸雙(4-叔丁基苯基)碘鋪。
IBPF是從Sanwa Chemical Co., Ltd. (Japan)獲得的六氟磷酸雙(4-叔丁基苯基)碘鋪。
IPA表示異丙醇。
IRT是從Showa Denko (Japan)獲得的IR染料。Masur產(chǎn)FS畫1520是/人Mason Chemical Company (Arlington Heights,IL)獲得的氟代脂族甜菜堿氟表面活性劑。MEK表示甲基乙基酮。
Mowiol 488是,人Kuraray American Inc. ( New York, NY )獲4尋的7JC解程度大約88%的聚(乙烯醇)。
Mowiol 385是從Kuraray American Inc.獲得的水解程度大約85。/o的聚(乙烯醇)。
Mowiol 383是從Clarmnt Corp. (Charlotte, NC )獲得的水解程度大約83%的聚(乙烯醇)。
Mowiol 480是從Clanant Corp.獲得的水解程度大約80Q/。的聚(乙烯醇)。
N-BAMAAm表示苯曱酸甲基丙烯酰胺或羧基苯基曱基丙烯酰胺。NK Ester A-DPH是從Kowa American (New York, NY)獲得的二季戊四醇六丙烯酸酯。
低聚物1是通過使2份六亞甲基二異氰酸酯、2份曱基丙烯酸羥乙酯和1份2- ( 2-羥乙基)哌啶反應(yīng)制備的氨基曱酸酯丙烯酸酯在乙酸乙酯中的30wt。/。溶液。
低聚物2氨基甲酸酯丙烯酸酯是通過使l-曱基-2,4-雙-異氰酸酯苯與丙烯酸羥乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯反應(yīng)制備的。
PGME表示1 -曱氧基-2-丙醇并亦稱Dowanol PM。
Phosmer PE是從Um-Chemical Co., Ltd. ( Japan )獲得的含4-5個(gè)乙氧基的乙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯。
顏料A是7.7份衍生自用乙醛、丁醛和4-曱?；郊姿嵋铱s醛化的聚乙烯醇的聚乙烯醇乙縮醛，76.9份IrgalithBlue GLVO ( Cu-酞菁C.I.顏料藍(lán)15:4)和15.4份Disperbyk⑧167分散助劑(Byk Chemie )在1-曱氧基-2-丙醇中的27%固體分的分散體。
聚合物A是N-苯甲酸曱基丙烯酰胺/丙烯腈/曱基丙烯酰胺/N-苯基馬來酰亞胺的37/48/10/5 (重量百分比)共聚物。
Pnsco LPC是從Prmter's Service (Newark, NJ )獲得的液體版清洗劑。
S0391是從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲得的IR染料<formula>formula see original document page 37</formula>S0507是從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲得的IR染料:<formula>formula see original document page 38</formula>
S0726是從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲得的IR染料:
S0929是從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲得的IR染料:
S0930是從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲得的IR染料:
66e表示從FEW Chemicals GmbH (Germany)獲4尋的如下所示的IR染料Sartomer 399是從Sartomer Company, Inc.獲得的二季戊四醇五丙烯酸酯。
三溱A是從Panchim S.A. ( Lisses, France )獲得的2- (4-曱氧基苯基)-4,6-雙(三氯曱基)-2-三嗪。
UV版清洗劑是從Allied Pressroom Chemistry, Inc. ( Hollywood, FL)
獲得的。
Varn Litho Etch 142W潤片反溶液是從Varn International ( Addison, IL )
獲得的。
Varn誦120版清洗劑是從Varn International獲得的。
Varn PAR醇替換物(replacement)是從Varn International獲得的。
Zonyl FSN-100是從Dupont ( Mississauga, Ontario, CA)獲得的非離
子氟表面活性劑。
以下實(shí)施例中使用的"DH試驗(yàn)"是在48。C下進(jìn)行5天的干-熱加速老
化試驗(yàn)。
以下實(shí)施例中使用的"RH試驗(yàn)"是在38°C和85%的相對濕度下進(jìn)行5天的高濕度加速老化試^r。
發(fā)明實(shí)施例l:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中,酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、0.5gNK酯A畫DPH、 O,lgPhosmerPE、 0.18gIB-05、 0.05g S0507、 0.3g顏料A和0.4g FluorN 2900 (5%,在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、1.2gBLO、 5.7gMEK、 lg甲醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基磷酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面涂配方，每種配方包含4g水解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.(^g
39Masur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。這些配方中使用的三 種不同的聚(乙烯醇)樹脂是Mowiol 385、 Mowiol 383和Mowio1 480。 使用繞線桿施涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送 機(jī)烘箱中干燥大約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行以下試驗(yàn)
a) 暴露于600 1ux的白光中，
b) 暴露于500 1ux的黃光中，
c) 在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)上暴露于830 nm IR激光
中，
d) 經(jīng)歷上面給出的"DH"試^r，和
e) 經(jīng)歷上面給出的"RH"試驗(yàn)。
然后在裝有956 Developer ( Eastman Kodak Company)的NE34沖洗 機(jī)中以5 ft/min. (1.5 m/min)的速度在23。C下顯影所有曝光的元件。所 得的印刷板在8小時(shí)白光曝光和40小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧 (背景上無污跡)。它們都要求大約20-25mJ/n^的最低曝光能量來獲得 實(shí)體圖像。所有印刷板也通過了"DH"和"RH"試驗(yàn)，而板可顯影性和速度 沒有顯著變化。
在Miehle單張紙(sheet-fed)印刷機(jī)上使用含1.5%碳酸4丐的磨損油墨 和以3 oz./gal. ( 23.4毫升/升)含Varn Litho Etch 142W和以3 oz./gal. ( 23.4 毫升/升)含PAR醇替換物的潤版溶液試驗(yàn)面漆中含Mowiol 480的已顯影 印刷板。以5,000個(gè)印數(shù)如下進(jìn)行耐化學(xué)品性試-瞼將UV版清洗劑和 Varn-120版清洗劑在不同區(qū)域施涂到印刷板的圖像上并在10-15分鐘之 后在沒有任何清潔的情況下重新開始印刷。使用65 mJ/cn^的曝光能量， 回收了具有10個(gè)印數(shù)的圖像并且實(shí)體圖像上不顯示任何由版清洗劑引 起的退化。在工作日結(jié)束時(shí)，用圖像清洗劑/保存劑水溶液清洗印刷板并 保持安裝在印刷機(jī)上直到次日早晨。在啟動(dòng)時(shí)，與前一個(gè)傍晚同樣地執(zhí) 行印刷板。在完全磨損狀況下，印刷板在55，000個(gè)印數(shù)下不顯示任何固 體磨損和顯著褪色(AM200)。
雖然按實(shí)驗(yàn)室規(guī)模制備了上述可成像元件，但是還將它比例增大以 便制造并按以下方式再試驗(yàn)
制備上述可成像層配方(28 kg)以獲得在MEK/PGME/BLO/水(重 量比為5:2:1:1)的溶劑混合物中的5.85w/w溶液。使用狹槽涂覆機(jī)按2.1cm3/ft2 (22.7cmVm2)涂覆速度施涂這種配方而在通過強(qiáng)制空氣干燥 之后(熱空氣烘箱，在157。C下10秒，和在104。C下10秒)獲得1.2g/m2 的干膜覆蓋度。然后制備上述面涂配方(28 kg)以獲得在水/異丙醇(96:4 重量比)中的1.77w/w溶液，并使用狹槽涂覆機(jī)以22.7cmVn^涂覆速度施 涂于干燥可成像層上，以在熱空氣烘箱中在110。C下20秒的干燥之后獲 得0.4g/n^的干膜覆蓋度。
將所得的可成像元件在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)和830 nm IR激光器上成像。然后如上所述顯影成像元件。獲得實(shí)體圖像所需 要的最低曝光能量為大約25 mJ/cm2。
所得的印刷板通過了上述5-天DH和RH試驗(yàn)，而可顯影性和成像速 度沒有任何降低。當(dāng)印刷板經(jīng)歷上述試驗(yàn)a)時(shí)，它在600 lux的白光曝 光下8小時(shí)之后不顯示成霧(背景上的污跡)。
對比實(shí)施例l:
在發(fā)明實(shí)施例l中描述的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02gMasur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。所使用 的兩種聚(乙烯醇)樹脂是Elvano產(chǎn)5105和Mowio1 488。使用繞線桿施 涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥 大約60秒。所得的可成像元件在40小時(shí)黃光曝光之后不顯示任何成霧， 但是當(dāng)暴露于發(fā)明實(shí)施例1中所述的白光下時(shí)在小于1小時(shí)內(nèi)顯示灰霧。
發(fā)明實(shí)施例2:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、 0.5gNK酯A-DPH、 O.lgPhosmerPE、 0.18glB國05、 0.05gS0726、 0.3g顏 料A和0.4g FluorNTM 2900 ( 5%,在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBLO、 5.7gMEK、 lg甲醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成 像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約 1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面涂配方，每種配方包含4g水 解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g
41Masur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。這些配方中使用的這 三種不同的聚(乙烯醇)樹脂是Mowio1 385、 Mowiol 383和Mowio1480。 使用繞線桿施涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送 機(jī)烘箱中干燥大約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行發(fā)明實(shí)施例1中描述的五個(gè)試驗(yàn)。然后如 上面發(fā)明實(shí)施例1中所述顯影所有已曝光的元件。印刷板在8小時(shí)白光曝 光和40小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧(背景上無污跡)。它們都要 求大約20-30mJ/n^的最低曝光能量來獲得實(shí)體圖像。所有印刷板也通過 了 "DH"和"RH"試驗(yàn)，而板可顯影性和速度沒有顯著變化。
對比實(shí)施例2:
在發(fā)明實(shí)施例2中公開的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02gMasur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。這些配 方中使用的這兩種聚(乙烯醇)樹脂是Elvano1⑧5105和Mowio1 488。使 用繞線桿施涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在12(TC的Ranar輸送機(jī) 烘箱中干燥大約60秒。
所得的可成像元件在40小時(shí)黃光試驗(yàn)之后不顯示任何成霧，但是在 如本發(fā)明實(shí)施例2所述的白光曝光中小于1小時(shí)即成霧。
發(fā)明實(shí)施例3:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、 0.5gNK酉旨A陽DPH、 O.lgPhosmerPE、 0.18gIB-05、 0.05g 66e、 0.3g彥頁津牛 A和0.4g FluorN 2900 ( 5%,在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBLO、 5.7gMEK、 lg甲醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成 像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約 1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面涂配方，每種配方包含4g水 解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g Masurf FS-1520以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。所使用的這三種不同 的聚(乙烯醇)樹脂是Mowiol 385、 Mowiol 383和Mowio1 480。 4吏用繞線桿施涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在12(TC的Ranar輸送機(jī)烘箱 中干燥大約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行發(fā)明實(shí)施例1中描述的五個(gè)試^r。然后如 發(fā)明實(shí)施例1所述顯影所有已曝光的元件。印刷板在8小時(shí)白光曝光和40 小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧(背景上無污跡)。它們都要求大約 20-30mJ/n^的最低曝光能量來獲得實(shí)體圖像。所有印刷板也通過了 "DH" 和"RH"試驗(yàn)，而板可顯影性和速度沒有顯著變化。
對比實(shí)施例3:
在發(fā)明實(shí)施例3中公開的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02gMasur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。所使用 的兩種聚(乙烯醇)樹脂是Elvano1⑤5105和Mowio1 488。使用繞線桿施 涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120°C的Ranar輸送才幾烘箱中干燥 大約60秒。所得的可成像元件在40小時(shí)黃光試3全之后不顯示任何成霧， 但是在如本發(fā)明實(shí)施例3所述的白光下不到1小時(shí)成霧。
發(fā)明實(shí)施例4:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為 5-.2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、 0.5gNK酯A-DPH、 O.lgPhosmerPE、 0.18glB畫05、 0.05gS0391、 0.3g;f貞 料A和0.4g FluorNTM 2900 ( 5%，在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBLO、 5.7gMEK、 lg甲醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成 像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約 1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基磷酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面涂配方，每種配方包含4g水 解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4glPA、92g水和0.02gMasurf FS-1520以提供大約0.4g/m"的干涂層重量。所使用的這三種不同的聚(乙 烯醇)樹脂是Mowiol 385、 Mowiol 383和Mowio1 480。使用繞線桿施涂 可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120 。C的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥大 約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行發(fā)明實(shí)施例1中描述的五個(gè)試驗(yàn)。然后如發(fā)明實(shí)施例l所述顯影所有已曝光的元件。印刷板在8小時(shí)白光曝光和40 小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧(背景上無污跡)。它們都要求大約 20-30mJ/n^的最低曝光能量來獲得實(shí)體圖像。所有印刷板也通過了 "DH" 和"RH"試驗(yàn)，而平板可顯影性和速度沒有顯著變化。
對比實(shí)施例4:
在該實(shí)施例4中公開的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g Masurf FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。所使用 的兩種聚(乙烯醇)樹脂是Elvano產(chǎn)5105和Mowio1 488。使用繞線桿施 涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在12(TC的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥 大約60秒。所得的可成像元件在40小時(shí)黃光試驗(yàn)之后不顯示任何成霧， 但是在如本發(fā)明實(shí)施例4所述的白光曝光中小于1小時(shí)即成霧。
發(fā)明實(shí)施例5:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%，在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、 0.5gNK酯A-DPH、 O.lgPhosmerPE、 0.18glB國05、 0.05g S0929、 0.3gJ貞 料A和0.4g FluorN 2900 ( 5%，在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBL0、 5.7gMEK、 lg曱醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成 像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約 1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面漆配方，每種配方包含4g水 解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g Masur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。所使用的這三種不同 的聚(乙烯醇)樹脂是Mowiol 385、 Mowiol 383和Mowio1 480。使用繞 線桿施涂可成像層和面漆配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送機(jī)烘箱 中干燥大約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行發(fā)明實(shí)施例1中描述的五個(gè)試^^。然后如 發(fā)明實(shí)施例l所述顯影所有已曝光的元件。印刷板在8小時(shí)白光曝光和40 小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧(背景上無污跡)。它們都要求大約 20mJ/n^的最低曝光能量來獲得實(shí)體圖像。所有平板也通過了"DH"和
44"RH"試驗(yàn)，而平板可顯影性和速度沒有顯著變化。 對比實(shí)施例5:
在發(fā)明實(shí)施例5中公開的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g Masur產(chǎn)FS-1520以提供大約0.4g/m2的干涂層重量。所使用 的兩種聚(乙烯醇)樹脂是Elvano產(chǎn)5105和Mowio1 488。使用繞線桿施 涂可成像層和面漆配方，然后在設(shè)置在120°C的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥 大約60秒。所得的可成像元件在40小時(shí)黃光試驗(yàn)之后不顯示任何成霧， 但是在如本發(fā)明實(shí)施例5所述的白光曝光中小于1小時(shí)即成霧。
發(fā)明實(shí)施例6:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g SR399、 0.5gNK酯A國DPH、 O.lgPhosmerPE、 0.18glB陽05、 0.05g S0930、 0.3g顏 料A和0.4g FluorNTM 2900 ( 5%,在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBL0、 5.7gMEK、 lg甲醇和0.6g水中制備可成像層配方。將該可成 像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約 1.2g/i^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。
在所得的可成像層上施涂三種不同的面漆配方，每種配方包含4g水 解水平小于或等于大約85%的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02g Masur嚴(yán)FS-1520以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。所使用的這三種不同 的聚(乙烯醇)樹脂是Mowio1 385、 Mowiol 383和Mowio1 480。使用繞 線桿施涂可成像層和面涂配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送機(jī)烘箱 中干燥大約60秒。
對所得的可成像元件進(jìn)行發(fā)明實(shí)施例1中描述的五個(gè)試驗(yàn)。然后如 發(fā)明實(shí)施例l所述顯影所有已曝光的元件。印刷板在8小時(shí)白光曝光和40 小時(shí)黃光曝光中都不顯示任何成霧(背景上無污跡)。它們都要求大約 20mJ/m"的最低曝光能量來獲得實(shí)體圖像。所有印刷板也通過了 "DH"和 "RH"試驗(yàn)，而板可顯影性和速度沒有顯著變化。
對比實(shí)施例6:
45在發(fā)明實(shí)施例6中公開的相同可成像層上施涂另兩種不同的面涂配 方，每種配方包含4g水解水平大于大約85。/。的聚(乙烯醇)、4g IPA、 92g水和0.02gMasur產(chǎn)FS-1620以提供大約0.4g/i^的干涂層重量。所使用 的兩種聚(乙燁醇)樹脂是Elvano1⑧5105和Mowio1 488。使用繞線桿施 涂可成像層和面漆配方，然后在設(shè)置在120。C的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥 大約60秒。所得的可成像元件在40小時(shí)黃光試驗(yàn)之后不顯示任何成霧， 但是在如本發(fā)明實(shí)施例6所述的白光曝光中小于1小時(shí)即成霧。
對比實(shí)施例7:
通過將UgHybridin^ 580聚合物分散體、3.3g聚合物A ( 10%，在比 例為5:2:1:1的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g ) 、 0.5g Sartomer SR399、 0.5g NK酯A-DPH、 0. lg Phosmer PE、 0.15gIB-05、 0.07g IRT、 0.3g顏料A和0.02g Zonyl FSN-100溶解或分散在1.5g BLO、 8g MEK、 2g曱醇和0.5g水中制備可成像層配方。將這種配方施涂于電化學(xué) 磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供大約1.2g/n^的干涂層重量，該基材 已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。在所得的可成像層上施涂包含4g Elvanol 5105、 96g水和0.02g Masurf FS-1520的面涂配方以提供大約 0.4g/n^的干涂層重量。使用繞線桿施涂這兩種配方，然后在設(shè)置在120。C 的Ranar輸送機(jī)烘箱中干燥大約60秒。
將所得的可成像元件放置在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)上 并使用830 nm IR激光曝光。然后使用裝有956 Developer的NE34沖洗機(jī) 在23。C下以5ft/min( 1.5m/min)的加工速率顯影成^f象元件。獲得實(shí)體圖 像所需要的最低能量為大約20 mJ/cm2。
在Miehle單張紙印刷機(jī)上使用含1.5%石灰酸釣的磨損油墨和以3 oz./gal. ( 23.4毫升/升)含Varn Litho Etch 142W和以3 oz./gal. ( 23.4毫升/ 升)含PAR醇替換物的潤版溶液試驗(yàn)已顯影印刷板。以5,000個(gè)印數(shù)如下 進(jìn)行耐化學(xué)品性試-瞼將UV版清洗劑和Varn-120版清洗劑在不同區(qū)域施 涂到印刷板的圖像上并在10-15分鐘之后在沒有任何清潔的情況下重新 開始印刷。在90mJ/crr^的曝光下，在10個(gè)印數(shù)之后回收圖像并不顯示任 何來自版清洗劑的退化。在工作日結(jié)束時(shí)，用圖像清洗劑/保存劑水溶液 清洗印刷板并保持安裝在印刷機(jī)上直到次日早晨。在啟動(dòng)時(shí)，與前一個(gè) 傍晚同樣地執(zhí)行印刷板。在周末休息之后也獲得相同的結(jié)果。在完全磨損狀況下，印刷板在45,OOO個(gè)印數(shù)之后下不顯示任何固體磨損和顯著褪 色(AM200 )。印刷板通過了上述5-天DH和RH試驗(yàn)，而平板可顯影性 和成像速度沒有任何降低。因此，按實(shí)驗(yàn)室規(guī)模制造的這種印刷板似乎 證實(shí)具有合乎需要的性能，包括抗白光中的成霧性。
然而，將這種可成像元件比例增大以便制造并按以下方式再試驗(yàn)
制備上述可成像層配方(28 kg)以獲得在MEK/PGME/BLO/水(重 量比為5:2:1:1)的溶劑混合物中的5.85w/w溶液。使用狹槽涂覆機(jī)按 2.1cmVft2 (22.7cm3/m2)涂覆速度施涂這種配方而在通過強(qiáng)制空氣干燥 之后(熱空氣烘箱，在157。C下10秒，和在104。C下10秒)獲得1.2g/m2 的干膜覆蓋度。然后制備上述面涂配方(28kg)以獲得在水/異丙醇(96:4 重量比)中的1.77w/w溶液，并使用狹槽涂覆機(jī)以22.7cmVn^涂覆速度施 涂于干燥可成像層上，以在熱空氣烘箱中在110。C下20秒的干燥之后獲 得0.4g/n^的干膜覆蓋度。
將所得的可成像元件在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)和830 nm IR激光器上成像。然后使用含956 Developer的NE34沖洗機(jī)以5 ft/min (1.5m/min)的速度在23。C下顯影成像元件。獲得實(shí)體圖像所需要的最 低曝光能量為大約20 mJ/cm2。
所得的印刷板通過了上述5-天DH和RH試驗(yàn)，而可顯影性和成像速 度沒有任何降低。然而，當(dāng)印刷板經(jīng)歷發(fā)明實(shí)施例l中所述的試驗(yàn)a)時(shí)， 它在600 lux的白光曝光下在小于15分鐘內(nèi)成霧。
對比實(shí)施例8:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%,在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g Sartomer SR399、 0.5gNK酯A-DPH、 0. lg Phosmer PE、 0.18glBPF、 0.05g S0507、 0.3g顏料A和0.4g FluorNTM 2900 ( 5%,在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBLO、 5.7g MEK、 lg曱醇和0.6g水中制備可成像層配方。 將該可成像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供 大約1.2g/i^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。在 所得的可成像層上施涂包含4g Mowiol 480、 4g IPA、 92g水和0.02g Masur產(chǎn)FS-1520的面涂配方以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。
將所得的可成像元件放置在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)上并暴露于830 nm IR激光中。然后在裝有956 Developer ( Eastman Kodak Company)的N34沖洗機(jī)中在23。C下顯影已成像元件。這種可成像元件 顯示緩慢的成像速度并且獲得實(shí)體圖像的最低能量為大約100 mJ/cm2。
對比實(shí)施例9:
通過將l.lg Hybridur 580分散體、3.3g聚合物A (10%，在比例為 5:2:l:l的MEK/PGME/BLO/水中，酸值為98 mg KOH/g) 、 0.5g Sartomer SR399、 0.5gNK酯A-DPH、 O.lg Phosmer PE、 0.1g三。秦A、 0.05g S0507、 0.3g顏料A和0.4g FluorNTM 2900 ( 5%，在PGME中)溶解或分散在3.5g PGME、 1.2gBLO、 5.7g MEK、 lg曱醇和0.6g水中制備可成像層配方。 將該可成像層配方施涂于電化學(xué)磨版且硫酸陽極化的鋁基材上以提供 大約1.2g/n^的干涂層重量，該基材已經(jīng)用聚(乙烯基膦酸)后處理。在 所得的可成^f象層上施涂包含4g Mowiol 480、 4g IPA、 92g水和0.02g Masurf FS-1520的面涂配方以提供大約0.4g/n^的干涂層重量。
將所得的可成像元件放置在CREO Trendsetter 3244x圖像照排機(jī)上 并暴露于830 nm IR激光中。然后在裝有956 Devel叩er ( Eastman Kodak Company)的N34沖洗機(jī)中在23。C下顯影已成像元件。這種可成像元件 顯示非常緩慢的成像速度并且它在10-100 mJ/cn^的曝光下不產(chǎn)生任何 圖像。
48
權(quán)利要求
1.一種包括其上具有可成像層的基材的可成像元件，該可成像層包含可自由基聚合的組分，引發(fā)劑組合物，該引發(fā)劑組合物在暴露于成像輻射下時(shí)能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基，所述引發(fā)劑組合物包含硼酸二芳基碘鎓，具有連接雜環(huán)基的次甲基鏈的紅外輻射吸收性花青染料，其中所述次甲基鏈?zhǔn)侵辽?個(gè)碳原子長，和主聚合物粘結(jié)劑，和所述可成像元件還包括布置在所述可成像層上的外涂層，所述外涂層主要包含水解水平等于或小于85％的聚(乙烯醇)。
2. 權(quán)利要求1的元件，其中所述基材是含鋁基材，該含鋁基材具有其 上布置有所述可成像層的親水性表面。
3. 權(quán)利要求1的元件，其中所述外涂層以0.1-4g/n^的干覆蓋度存在。
4. 權(quán)利要求1的元件，其中所述外涂層主要包含一種或多種具有60% 且至多和等于85%的水解水平的聚(乙烯醇)樹脂。
5. 權(quán)利要求1的元件，其中所述主聚合物粘結(jié)劑包含分布在整個(gè)所述 可成像層中的離散顆粒，所述離散顆粒占所述可成像層總干重的 10-70wt%。
6. 權(quán)利要求1的元件，其中所述硼酸二芳基碘鋪由以下結(jié)構(gòu)(IB)表示(IB)其中X和Y獨(dú)立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或環(huán)烷基，或兩個(gè)或更環(huán)，p和q獨(dú)立地是0或l至5的整數(shù)，和Ze是由以下結(jié)構(gòu)(IBZ)表示的有 機(jī)陰離子<formula>formula see original document page 3</formula> r/ 、 (IBz)其中R4、 R2、 R3和R4獨(dú)立地是烷基、芳基、烯基、炔基、環(huán)烷基或雜環(huán) 基，或Ra、 R2、 R3和R4中兩個(gè)或更多個(gè)可以連在一起與該硼原子形成雜環(huán)。
7. 權(quán)利要求6的元件，其中R!、 R2、 R3和R4中的至少3個(gè)是相同或不 同的取代或未取代的芳基。
8. 權(quán)利要求6的元件，其中p或q是至少1且X和Y取代基中或稠環(huán)中的 碳原子之和是至少6。
9. 權(quán)利要求1的元件，其中所述可自由基聚合的組分包含烯屬不飽和 可自由基聚合單體或低聚物，或可自由基交聯(lián)的聚合物。
10. 權(quán)利要求1的元件，其中所述紅外輻射吸收性花青染料包含連接 兩個(gè)含N雜環(huán)基的所述次甲基鏈，所述雜環(huán)基包含至少兩個(gè)稠環(huán)，其中 所述稠環(huán)之一 中的至少 一個(gè)氮原子是季氮原子。
11. 權(quán)利要求l的元件，還包含1.5-40wtn/。副聚合物粘結(jié)劑，基于所 述可成像層的總干重計(jì)。
12. 權(quán)利要求1的元件，它是為脫印刷機(jī)顯影設(shè)計(jì)的平版印刷前體。
13. 權(quán)利要求1的元件，其中所述基材是電化學(xué)磨版、硫酸陽極化、 聚(乙烯基膦酸)涂布的平版印刷鋁基材，所述可自由基聚合的組分包含可自由基聚合的單體或低聚物， 所述引發(fā)劑組合物包含基于所述可成像層的總干重按0.5-30wt。/o的 量存在的并由以下結(jié)構(gòu)(IB)表示的硼酸二芳基碘鎩(IB)<formula>formula see original document page 3</formula>其中X和Y獨(dú)立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或環(huán)烷基，或兩個(gè)或更多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可以結(jié)合以形成具有各自的苯基的稠合碳環(huán)或雜環(huán)，條件是在X和Y取代基中或稠環(huán)中的碳原子之和至少是6， p或q是至少l, Ze是由以下結(jié)構(gòu)(IBZ)表示的有機(jī)陰離子<formula>formula see original document page 4</formula>其中R^、 R2、 R3和R4獨(dú)立地是烷基、芳基、烯基、炔基、環(huán)烷基或雜環(huán)基，條件是R!、 R2、 R3和R4中至少3個(gè)是相同或不同的取代或未取代的芳基，所述紅外輻射吸收性花青染料基于所述可成像層的總干重按l-30wt。/。的量存在并由以下結(jié)構(gòu)(DYE-I)表示其中R 、 R2'和R3'獨(dú)立地是氫或卣素、氰基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、氨基曱酰基、酰基、酰基酰氨基、烷基氨基、芳基、烷基、環(huán)烷基、芳氨基、雜芳基、苯硫基、哌嗪基、嗎啉基或硫代四唑基，或R卩、R2'和R3'中任何兩個(gè)可以接合在一起或與相鄰的雜環(huán)接合以完成5-至7-元碳環(huán)或雜環(huán)，Z和Z'獨(dú)立地表示與所示的氮和碳原子形成5-至14-元雜環(huán)所必要的碳、氮、氧或硫原子，Rn)'和Ru'獨(dú)立地是烷基、環(huán)烷基或芳基，s是至少3，和Z2S是單價(jià)陰離子，和所述主聚合物粘結(jié)劑包含基于所述可成像層的總干重按10-90wt%的量存在的聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物的顆粒，和并且還包含基于所述可成像層的總干重按1.5-70wt。/。的量存在并包含一種或多種聚合物的副聚合物粘結(jié)劑，所述一種或多種聚合物包含具有羧基或衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、N-取代的(曱基)丙烯酰胺、苯乙烯或苯乙烯衍生物、乙烯醇縮醛、N-取代的環(huán)酰亞胺、馬來酸酐、乙烯基啼唑、二乙烯基單體、(甲基)丙烯腈、聚(亞烷基二醇)或聚(亞烷基二醇)(曱基)丙烯酸酯的重復(fù)單元5 和所述外涂層主要包含一種或多種聚(乙烯醇)，其中每一種具有75%且至多和等于85%的水解水平。
14.權(quán)利要求1的元件，其中所述紅外輻射吸收性花青染料基于所述可成像層的總干重按l-30wt。/。的量存在并由以下結(jié)構(gòu)(DYE-n)表示Ar■c= c~c= c—c= c一c= e財(cái)Ax2(DYE-II)其中乂1是氳或卣素、^ 112或《2丄1基，或由以下結(jié)構(gòu)(XA)表示的基團(tuán)(xA)其中Ph表示苯基，X"表示氧基或硫基，L，表示含l-12個(gè)碳原子的烴基、環(huán)中含至多12個(gè)原子的雜芳基或環(huán)中含至多12個(gè)原子的非芳族雜環(huán)基，Ra表示相同或不同的烷基、芳基、氨基或鹵素取代基中的一個(gè)或多個(gè)，Z2e是單價(jià)陰離子，Y^口YZ表示相同或不同的硫原子或亞曱基，A—和Ar2是相同或不同的苯基、萘基或蒽基，R6'和Ry獨(dú)立地表示含至多12個(gè)碳原子的烷基、環(huán)烷基或芳基，或它們可以結(jié)合形成5-或6-元碳環(huán)，R4'、 R5'、Rs'和R9'獨(dú)立地是氫或含至多12個(gè)碳原子的烷基、環(huán)烷基或芳基，和R10'和Ru'獨(dú)立地是烷基、環(huán)烷基或芳基。
15.包括以下步驟的方法A )使用成像紅外輻射將權(quán)利要求1的可成像元件成像曝光以產(chǎn)生曝光和未曝光區(qū)域，和B)在有或者沒有曝光后烘烤步驟的情況下，將所述成像曝光的元件顯影以僅除去所迷未曝光區(qū)域。
16. 權(quán)利要求15的方法，其中使用pH值小于12的堿性顯影劑水溶液脫印刷機(jī)進(jìn)行步驟B。
17. 權(quán)利要求15的方法，其中所述可成像元件包括電化學(xué)磨版、硫酸陽極化、聚(乙烯基膦酸)涂布的平版印刷鋁基材，該基材在其上具有可成像層，該可成像層包含包含可自由基聚合的單體或低聚物的可自由基聚合的組分，包含基于所述可成像層的總干重按0.5-30wt。/o的量存在并由以下結(jié)構(gòu)(IB)表示的硼酸二芳基碘鋪的引發(fā)劑組合物(IB)其中X和Y獨(dú)立地是卣素、烷基、烷氧基、芳基或環(huán)烷基，或兩個(gè)或更多個(gè)相鄰的X或Y基團(tuán)可以結(jié)合以形成具有各自的苯基的稠合碳環(huán)或雜環(huán)，條件是在X和Y取代基中或稠環(huán)中的碳原子之和至少是6， p或q是至少l， Ze是由以下結(jié)構(gòu)(IBZ)表示的有機(jī)陰離子<formula>formula see original document page 6</formula>其中R!、 R2、 R3和R4獨(dú)立地是烷基、芳基、烯基、炔基、環(huán)烷基或雜環(huán)基，條件是Ri、 R2、 R3和R4中至少3個(gè)是相同或不同的取代或未取代的芳基，基于所述可成像層的總干重按2 -15 wt %的量存在并由以下結(jié)構(gòu)(DYE-I)表示的紅外輻射吸收性花青染料(DYE-I)其中R 、 R2'和R3'獨(dú)立地是氫或卣素、氰基、烷氧基、酰氧基、芳氧基、氨基甲?；Ⅴ；?、?；０被?、烷基氨基、芳基、烷基、環(huán)烷基、芳氨基、雜芳基、苯硫基、哌嗪基、嗎啉基或硫代四唑基，或RA R2'和R3'中任何兩個(gè)可以接合在一起或與相鄰的雜環(huán)接合以完成5-至7-元碳環(huán)或雜環(huán)，Z和Z '獨(dú)立地表示與所示的氮和碳原子形成5-至14-元雜環(huán)所必要的碳、氮、氧或硫原子，R!()'和Rn'獨(dú)立地是烷基、環(huán)烷基或芳基，s是至少3， Z20是單價(jià)陰離子，和主聚合物粘結(jié)劑，它包含基于所述可成像層的總干重按10-70wty。的量存在的聚(氨基甲酸酯-丙烯酸系)雜化物的顆粒，和基于所述可成像層的總干重按1.5-40wt。/。的量存在并包含一種或多種聚合物的副聚合物粘結(jié)劑，所述一種或多種聚合物包含具有羧基或衍生自一種或多種(曱基)丙烯酸酯、(曱基)丙烯酰胺、N-取代的(曱基)丙烯酰胺、苯乙烯或苯乙烯衍生物、乙烯醇縮醛、N-取代的環(huán)酰亞胺、馬來酸酐、乙烯基呼唑、二乙烯基單體、(甲基)丙烯腈、聚(亞烷基二醇)或聚(亞烷基二醇)(曱基)丙烯酸酯的重復(fù)單元，和所述外涂層主要包含一種或多種聚(乙烯醇)，其中每一種具有75%且至多和等于85%的水解水平。
18.權(quán)利要求15的方法，其中所述成像紅外輻射具有750-1200 nm的
全文摘要
可以使用紅外輻射成像的可成像元件包含在親水性基材上的可成像層和保護(hù)性外涂層。所述可成像層包括IR-敏感性花青染料。所述保護(hù)性外涂層主要包含一種或多種聚(乙烯醇)樹脂，其中每一種具有85％或更低的水解水平。與所述IR-敏感性花青染料結(jié)合使用的這種特定外涂組合物的使用對由白光引起的成霧提供改進(jìn)的耐受度，同時(shí)維持所需的成像速度。所述可成像元件用于負(fù)性工作平版印刷板。
文檔編號G03F7/033GK101687407SQ200880017816
公開日2010年3月31日 申請日期2008年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月31日
發(fā)明者J·于, K·B·雷 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司