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連續(xù)彎曲清潔元件以及制備方法與流程

文檔序號:11884084閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種制備彎曲清潔元件的方法,包括:

提供具有背部表面和工作表面的清潔材料;

移除樞轉(zhuǎn)區(qū)域處的所述清潔材料的一部分,其中所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域?qū)⑺銮鍧嵅牧戏指舫傻谝徊糠趾偷诙糠郑?/p>

將所述清潔材料的所述第一部分的所述背部表面固定到支撐件;

在所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域處樞轉(zhuǎn)所述清潔材料的所述第二部分;

將所述清潔材料的所述第二部分固定到所述清潔材料的所述第一部分或所述支撐件;

形成所述清潔材料的連續(xù)彎曲工作表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述清潔材料的所述背部表面包含泡沫或擦洗幅材。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述清潔材料包括由織造織物、針織織物或非織造織物、擦洗材料、擦洗幅材構(gòu)成的工作表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述清潔材料包含多于一層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述移除包括:

熔融樞轉(zhuǎn)區(qū)域處的所述清潔材料的一部分。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述移除包括:

切割所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域處的所述清潔材料的一部分。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述移除包括:

壓縮樞轉(zhuǎn)區(qū)域處的所述清潔材料的一部分。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述移除包括:

從所述清潔材料內(nèi)移除所述清潔材料的大致線性部分。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述移除包括:

從所述清潔材料內(nèi)移除凹入所述清潔材料的周邊內(nèi)的大致線性部分。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域包括樞轉(zhuǎn)軸線,所述樞轉(zhuǎn)軸線延伸穿過所述清潔材料。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述固定通過機(jī)械固定、以粘接方式固定、熱熔融固定中的一者來進(jìn)行。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中在所述第二部分處將所述工作表面樞轉(zhuǎn)小于180度,如通過穿過所述工作表面的所述相對位置之間的所述清潔材料形成的內(nèi)角所測量的。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:

將所述清潔材料的所述第二部分的所述背部表面固定到所述支撐件的第二部分。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括:

將柄部固定到所述支撐件。

15.一種彎曲清潔元件,包括:

清潔材料,所述清潔材料具有限定周邊和體積的背部表面和工作表面;

樞轉(zhuǎn)區(qū)域,所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域包括清潔材料的厚度減小的和體積減小的一部分;

其中所述清潔材料圍繞所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域樞轉(zhuǎn);

其中所述工作表面為連續(xù)彎曲的。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲清潔元件,其中厚度減小的和體積減小的所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域部分位于所述清潔材料的所述周邊內(nèi)。

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲元件,還包括固定到所述清潔材料的所述背部表面的支撐件。

18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲元件,其中:

所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域?qū)⑶鍧嵅牧系牡谝徊糠峙c清潔材料的第二部分分開;

所述第一部分的所述背部表面被固定到支撐件;

所述第二部分被固定到所述清潔材料的所述第一部分或所述支撐件。

19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲清潔元件,其中所述背部表面處的所述清潔材料為可適形的熱塑性材料。

20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的彎曲清潔元件,其中厚度減小的和體積減小的所述一部分為所述可適形的熱塑性材料的熔融節(jié)段,并且其中所述熔融節(jié)段由向內(nèi)傾斜的表面圍繞。

21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲清潔元件,其中所述清潔材料包括所述工作表面處的泡沫和擦洗材料的兩層結(jié)構(gòu)。

22.根據(jù)權(quán)利要求17所述的彎曲清潔元件,還包括:

被連接至所述支撐件的柄部。

23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的彎曲清潔元件,其中在所述樞轉(zhuǎn)區(qū)域處,所述背部表面處的所述清潔材料處于壓縮下并且所述工作表面處的所述清潔材料處于張力下。

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