專利名稱：改良的硅片收集裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種收集裝置，特別涉及一種硅片的收集裝置，屬于硅片加工設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
硅片加工過程中，通過線切割將硅棒加工成硅片。切割后的硅片通過收集裝置收集?，F(xiàn)有技術(shù)中的收集裝置包括收集槽，收集過程中，硅片下落時會相互擠壓重疊，拾取時容易使娃片表面受:損，從而影響娃片加工質(zhì)量。近來出現(xiàn)了一種收集裝置，包括收集槽，其中收集槽上設(shè)有出風裝置，當硅片落下來時可以吹出氣體，對硅片進行緩沖。但是其出風裝置的出風口端頭位于收集裝置內(nèi)，也會對下落中的娃片造成損壞。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對以上弊端提供一種新型的硅片收集裝置。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是一種改良的硅片收集裝置，包括收集槽，其中，所述收集槽兩壁中各設(shè)有一空腔，所述空腔外壁上設(shè)有出風裝置，內(nèi)壁均勻設(shè)有若干縱向通孔。上述一種改良的硅片收集裝置，其中，所述的出風裝置內(nèi)置一定時控制閥。本發(fā)明的有益效果為當硅片落下來時，可通過出風裝置噴出氣體，從各縱向通孔中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質(zhì)量，節(jié)省了人工。兩臂的出風裝置通過設(shè)定定時控制閥分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，節(jié)省了人工。


圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。如圖所示，本發(fā)明包括收集槽1，其中，所述收集槽I兩壁中各設(shè)有一空腔3，所述空腔3外壁上設(shè)有出風裝置41、42，內(nèi)壁均勻設(shè)有若干縱向通孔2。當硅片落下來時，可通過出風裝置41、42噴出氣體，從各縱向通孔2中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質(zhì)量，節(jié)省了人工。同時，出風裝置41、42內(nèi)置一定時控制閥51、52，通過設(shè)定定時控制閥51、52實現(xiàn)分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，節(jié)省了人工。
權(quán)利要求
1.一種改良的硅片收集裝置，包括收集槽，其特征為，所述收集槽兩壁中各設(shè)有一空腔，所述空腔外壁上設(shè)有出風裝置，內(nèi)壁均勻設(shè)有若干縱向通孔。
2.如權(quán)利要求1所述的一種改良的硅片收集裝置，其特征為，所述的出風裝置內(nèi)置一定時控制閥。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種新型的硅片收集裝置，包括收集槽，其中，所述收集槽兩壁中各設(shè)有一空腔，所述空腔外壁上設(shè)有出風裝置，內(nèi)壁均勻設(shè)有若干縱向通孔，且所述的出風裝置內(nèi)置一定時控制閥。兩壁的出風裝置通過設(shè)定定時控制閥分時段分別出風，可以使硅片較為均勻的落在收集槽中，避免了空間浪費，當硅片落下來時，可通過出風裝置噴出氣體，從各縱向通孔中均勻吹出，對硅片進行緩沖，使硅片可緩慢下降，又不會對硅片造成損壞，從而保證了硅片的質(zhì)量，節(jié)省了人工。
文檔編號B28D5/04GK103042615SQ20121057248
公開日2013年4月17日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司