專利名稱：流體的、尤其是用于釉料的流體分配裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種流體分配裝置，尤其是通稱為"吸管"的釉料分 配裝置，所述分配裝置將會與通稱為"圓盤組"用于分布的裝置結合 使用，并涂敷一層涂料或釉料或其它裝飾性成分。
背景技術：
釉料涂敷裝置為人所共知，這種裝置包括整個圓柱形分布器主體， 其預先設置成圍繞上釉室內(nèi)部的旋轉軸線旋轉。
分布器主體或裝置包括圓柱形中心導管，在所述圓柱形中心導管 上同軸地用鍵固定一系列的圓盤，所述一系列圓盤彼此相互堆疊，以 限定上述圓柱體。
分配器主體或吸管可以插入中心導管的內(nèi)部，所述分配器主體具 有第一開口端部，且流體或釉料從所述第一開口端部供應，且到達中 心導管的內(nèi)部。
分配器主體的第二端部與笫一端部軸向相對，該第二端部封閉， 并位于圓盤組的底部附近。
分配器主體側面的一部分，尤其是位于分布器裝置內(nèi)部的部分具 有多個徑向開口或孔，所有開口或孔都具有相同的孔徑，而與其軸向 位置無關。釉料從這些開口中排出。
導管與旋轉軸線同軸，所述導管沿著其軸向長度具有多個軸向開 口，這些軸向開口使流體釉料能通過。
當圓柱形主體以預定的速度圍繞旋轉軸線和分配器主體旋轉時， 流體被引入到分配器主體中，并朝向圓盤組的外部徑向分布，而且從 孔中排出并射向將要上釉的制品。
現(xiàn)有技術中的這些裝置具有某些缺點或不利情況。首先，分配器主體相對于中心導管要求精確角定位，以便使釉料 能良好分布。
實際上，各開口通常以恒定間隔布置在分配器主體的一個或多個 基體上。在最關鍵的情況下，如果布置在單一基體上，分配器主體則 必須成角度地取向，這樣以便面對中心導管的下部。因為由分配器主 體和分布器裝置構成的系統(tǒng)位于上釉室的上部中，所以該角位置使釉 料的分布能優(yōu)選地朝向該室的下部取向，這里設有用于磚瓦的通路。 所述取向是實施困難的操作，而且在所需精度方面難以做到，因為其 實施是將分配器主體插入圓盤組的中心導管中，而且不能目視控制具 有多個開口的基體所具有的實際位置。
在各基體本身之間，不同基體的孔間隔可以同相或可以交錯。
在兩種情況下，都存在分配器主體沒有開口的一些部分橫過軸線。 因此，釉料沿著分配器主體軸線的分布不連續(xù)而且不均勻，并因此最 終上釉具有低標準的質量。
另外，由于阻礙從分配器主體開口朝徑向流出的釉料的流體流， 所以由圓盤組在旋轉時放入的空氣的流體流中觀察到有相當大的紊 流。這種紊流也會造成釉料的分布的不均勻性。
分配器主體中孔的孔徑經(jīng)常與將要涂敷的釉料的量不是正確地成 比例，結果在調(diào)節(jié)和微調(diào)將要供應到分配器主體的釉料流方面造成困 難。
尤其是在裝置暫停不用期間，釉料的沉積可能引起導管的孔和分 配器主體的開口逐漸堵塞，因此改變了被分布的實際釉料的量。
最后，開口在分配器主體上延續(xù)它的一定軸向長度，該軸向長度 總是相同且與圓盤組的軸向尺寸無關。在大多數(shù)情況下，分配器主體 上的開孔延續(xù)的長度比圓盤組的長度短，因而不充分和不足以保證釉 料的均勻分布。
另外，沒有基準使分配器主體能沿著圓盤組的軸線正確地定位 在圓盤組內(nèi)部分配器主體的有孔部分經(jīng)常正確地縱向定心僅代表安裝 操作人員的精度。不太正確的聯(lián)接可能在圓盤組內(nèi)部引起釉料的分布不完全和不均勻，其結果是使裝置的功能不良。
不同類型的上釉室具有分配器主體的不同尺寸的連接系統(tǒng)。尤其 是，這些系統(tǒng)是在分配器主體的圓柱體上具有密封連接的不同額定直 徑的螺紋。已知的分配器主體采用具體結構的解決方案，對于每個連 接系統(tǒng)具有圓柱體的不同直徑。因此，迫使設備操作人員對設備中存 在的每種類型的上釉室都具有可用的分配器主體。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術任務是提供一種流體分配裝置，尤其是用于釉料流 體分配裝置，這種分配裝置不具有現(xiàn)有技術的裝置中存在的上述缺點。
在技術任務的范圍內(nèi)，本發(fā)明的目的是可利用一種流體分配裝置， 尤其是釉料分配裝置，這種分配裝置使釉料能沿著圓盤組的整個的軸 向的長度并在將要加工的制品上均勻而連續(xù)地分布。
本發(fā)明的另一個目的是可利用一種流體分配裝置，尤其是釉料分 配裝置，這種分配裝置可容易地設置在分布裝置的內(nèi)部，尤其是圓盤 組的內(nèi)部，該分布裝置可適合于任何軸向尺寸的圓盤組和不同類型的 上釉室的連接系統(tǒng)。
最后，本發(fā)明的目的是實現(xiàn)一種流體分配裝置，尤其是釉料分配 裝置，這種分配裝置經(jīng)濟實用，且不要求很高的維護水平。
這些目的和此外另 一些目的將從下面的說明中更好地具有出來， 而基本上是通過一種流體分配裝置，.尤其是釉料分配裝置達到，這種 分配裝置具有在權利要求l中和/或與其有關的一個或多個從屬權利要 求中所述的特征。


流體分配裝置的另一些特點和優(yōu)點將從本文下面參照附圖所作的 詳細說明中更好地具有出來，所述附圖僅僅作為非限制性示例提出， 其中-.
圖l是本發(fā)明的釉料分配裝置的側視6圖2是圖1中裝置的側面剖視圖3是圖1中流體分配裝置的分解圖4表示裝配在釉料分配裝置內(nèi)部的本發(fā)明物體的剖視圖。
具體實施例方式
參見附圖，編號l表示流體分配裝置，尤其是用于釉料的分配裝置。
在本發(fā)明中，裝置1由分配器主體2限定，所述分配器主體2優(yōu) 選地是圓柱形，并具有縱軸線X。
所述分配器主體2包括第一端部2a，所述第一端部2a優(yōu)選地制 有螺紋，可連接到將要分配的流體，優(yōu)選地是釉料的供應源(未示出) 上。
所述分配器主體2可設置在流體分布器裝置3的內(nèi)部，如圖4中 所示，可圍繞縱軸線X旋轉，并且是一種可用于磚瓦上釉的類型。流 體分布器裝置3包括圓盤組，其稱為圓盤組的原因是由于它包括多個 同軸的圓盤，這些同軸圓盤彼此相互疊置，并軸向地隔開。圓盤組同 心地具有圓柱形導管4 (圖4),所述圓柱形導管4設有多個徑向開口 4a，預先設置這些徑向開口 4a，以使將要分布的流體能通過。
分配器主體2同軸地可插入分布器裝置3的內(nèi)部，而且尤其是可 插入圓柱形導管4的內(nèi)部。
分布器裝置3和分配器主體2位于上釉室(未示出)的內(nèi)部。連 接到上釉室的分配器主體2伸出地安裝并處于固定位置，而圍繞分配 器主體2的分布器裝置3則繞軸線X旋轉。
如圖1、 2和3可以看到，圓柱形分配器主體2示出分配區(qū)5，所 述分配區(qū)5包括多個用于流體流出的開口 6，所述開口 6^f吏主體2的 內(nèi)部2c與外部連通。
這些開口 6在離開主體2的第二端部2b的方向上遍布側面2d延 續(xù)預定的長度，所述預定的長度優(yōu)選地在主體2總長度的1/5到1/2 之間可變化。長度d根據(jù)分布器裝置3的軸向尺寸確定。尤其是分配器裝置被設置具有分配區(qū)5的兩個不同長度，專門用于與分布器裝置 3的兩個不同標準相對應的兩個軸向尺寸。
主體2沿著與軸線X平行的方向接收來自供應源的流體，并沿著 相對于軸線X的徑向方向分布該流體。
從開口 6流出的釉料以流體流的形式排出。在橫過圓盤組時，所 述流分成小尺寸的顆?；虻危⒁虼擞粤媳换旧暇鶆虻胤植荚诖u瓦 上，該磚瓦同樣未示出。
開口6的尺寸不是一致的；尤其是，它們沿著至少部分螺旋形的 軌跡分布在主體2的側面上，如圖l中可清楚地看到。
仍是參見圖1，開口 6具有不同和等級的尺寸，優(yōu)選地在靠近分 配器主體2的第二端部2b的方向上沿著螺旋形軌跡逐漸減小。開口 6 限定的連續(xù)而改變尺寸。確定上述開口尺寸變化的關系(regime),以 便根據(jù)在分配器主體2的本體上同軸旋轉時分布器裝置3的入口內(nèi)的 流體動力學，來優(yōu)化釉料沿著整個分配區(qū)5的流出。換句話說，目的 在于使釉料沿著主體的整個分配區(qū)5的流出速度均勻。因此沿著整個 分配區(qū)5而得到釉料連續(xù)而均勻的分布。
每個開口6都是徑向朝向，并在外部方向上擴張。
開口 6的擴張相對于分配器主體2的本體在周方向和軸向方向上。
因此，每個開口 6都具有基本上截棱錐構造(trunco-pyramidal conformation),其具有朝向主體2的外部增加的橫剖面。換句話說， 開口 6的較小基底位于主體2的內(nèi)部側面2d'上，而開口 6的較大基 底則位于外部側面2d"上。
在開口 6周邊方向上的擴張使由氣流與釉料的流體流之間的相互 作用而產(chǎn)生的紊流能減少，所述氣流是通過牽引分布器裝置3在旋轉 上建立的，而所述釉料的流體流則從主體2徑向地排出。
在離開主體2的圓柱面的方向上，存在一定的空氣速度的梯度， 所述空氣梯度具有與圓盤組的旋轉軸X同心的周邊方向。
開口 6的擴張使釉料在橫過開口 6自身之時就已能與空氣速度的 方向協(xié)調(diào)地定向。因此，主體2的流出釉料沿周邊方向被擴張偏離，以便與空氣的 方向發(fā)生關系，并因此改善了釉料分布過程的控制。
開口 6的特殊幾何形狀還減少了由于釉料的沉積而引起的孔的通 路剖面的縮小的影響。換句話說，擴張防止開口 6由于釉料的沉積而 易于變堵塞。
兩個螺旋形軌跡之間的間隔是這樣，以使主體2橫過縱軸X的任 何剖面都截斷開口 6中的至少一個。
這樣，保證釉料沿著整個分配區(qū)5連續(xù)又均勻的軸向分布。
分配器主體2的第二端部2b封閉，并具有內(nèi)底部ll，所述內(nèi)底 部11具有錐形表面，其頂點朝向第一端部2a。錐體的斜面將引導釉 料的流體流朝向開口 6的外部。這樣甚至從最近開口 6到分配器主體 2的第二端部2b使能控制和調(diào)節(jié)釉料流出。
在分配器主體2的上釉室內(nèi)部的連接系統(tǒng)根據(jù)該室的類型能具有 不同的直徑。如果連接系統(tǒng)具有比主體2的直徑大的直徑，則會有過 大的游隙，結果造成其聯(lián)軸節(jié)中密封損失。
有利地，具有連接器元件7、比如套筒裝備的裝置1使分配器主 體2能與上釉室內(nèi)部的不同連接系統(tǒng)相關聯(lián)，并使裝置1可適合于不 同類型的上釉室。
連接器元件7或套筒能用鍵固定在分配器主體2上，并優(yōu)選地利 用螺紋12擰到分配器主體上。
連接器元件7具有多個槽溝8，所述槽溝8構成定位基準。裝置1 還包括基準元件9，所述基準元件9可與連接器元件7的槽溝8相關 聯(lián)。
當主體2被插入圓盤組3的圓柱形導管中時，分配區(qū)5優(yōu)選地必 須在圓盤組3的內(nèi)部定中心。
基準元件9，例如附圖中所示的簧片與連接器元件7的槽溝8聯(lián) 接，以便正確地調(diào)節(jié)分配器主體2在流體分布器裝置3內(nèi)部的軸向位 置。
基準元件9與連接器元件7的外部相關聯(lián)而具有表面9a，所述表
9面9a碰分布器裝置或圓盤組3的支撐上。
這樣，安裝該裝置的操作人員具有一定基準，用于分配器裝置的 有孔軸向部分相對于圓盤組3的正確縱向定心。
基準元件9的位置也可調(diào)節(jié)，其目的同樣為非標準的圓盤組3的 尺寸提供正確的定位。
分配裝置1優(yōu)選地用聚合物材料制成。
本發(fā)明提供重要的優(yōu)點和達到設定的目的。
首先，沿著主體的軸向延伸部分的開口的尺寸的變化使沿著分配 區(qū)的整個軸線長度釉料排出的量連續(xù)，而且使從圓盤組流出的分布均 勻。
另外優(yōu)選地，量的變化性的三個階段，即所請求的釉的流率已被 決定，且對于每個階段來說，確定了最佳初始孔徑和具體的孔的尺寸 的變化的關系。根據(jù)將要沉積在制品上的釉的量，可以使用具體的分 配器主體2。
沿著螺旋形軌跡各開口的分布防止必須成角度地調(diào)整在分布器裝 置的中心導管內(nèi)部的主體。實際上，分配區(qū)的任何基體都具有同等的 開口分布和數(shù)量。面對釉料分布器朝向將要上釉的平元件的下部的開 口的部分是相同的而與分配器主體所采取的角位置無關。因此，有相 同的流出釉料的量投射到將要上釉的制品上。
周邊方向上的擴張使能減少圓盤組在旋轉時所建立的氣流中的紊 流；開口以所述周邊方向與主體的外側面連接，這樣以便得到釉料在 制品上的均勻分布。
另外，孔的擴張構造減少了開口的閉塞現(xiàn)象，并因此使能減少對 分配器主體的維修介入。
聚合物材料確保生產(chǎn)成本保持可以接受。
供應三種專用分配器主體使上釉工藝的質量最佳，所述三種專用 分配器主體的開口具有多種尺寸和變化關系，這些開口為三種將要沉 積在磚瓦上的相應的釉的量而專門研究的。最后，管連接器的存在，分配區(qū)和基準元件的兩種不同長度，使 在任何分布器裝置和任何類型的上釉室情況下靈活利用主體。
權利要求
1.一種流體分配裝置，尤其是用于釉料的流體分配裝置，該流體分配裝置包括圓柱形分配器主體(2)，所述分配器主體(2)可在其第一端部(2a)處連接到要分配的流體的供應導管上，并且該分配器主體(2)可設置在流體分布器裝置(3)的內(nèi)部，所述流體分布器裝置(3)圍繞縱軸線(X)能旋轉；分配器主體(2)具有分配區(qū)(5)，所述分配區(qū)(5)包括多個用于排出流體的開口(6)，所述開口(6)使主體(2)的內(nèi)部(2c)與外部連通，并在離開主體(2)的第二端部(2b)的方向上在側面(2d)上延伸預定的長度(d)；所述流體分配裝置(1)的特征在于，開口(6)具有不一致的尺寸，并沿著至少部分螺旋形軌跡分布在主體(2)的側面(2d)上。
2. 如權利要求1所述的流體分配裝置，其特征在于，開口 (6) 在靠近分配器主體(2)的第二端部(2b)的方向上減小。
3. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 每個開口 (6)都是徑向朝向，并具有朝向主體(2)的外部增加的橫 斷面。
4. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 每個開口 (6)都朝向分配器主體(2)的側面(2d)的外部擴張，從 而相對于分配器主體(2)面向周邊方向和軸向方向。
5. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 開口 (6)以這種間隔設置在螺旋形軌跡上，使得橫向于縱軸線(X) 的主體(2)的每個剖面截斷至少一開口 (6)。
6. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 開口 (6)以這種間隔設置在螺旋形軌跡上，使得穿過縱軸線(X)的 主體(2)的縱向剖面截斷至少一開口 (6)和一部分流體通路。
7. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 第二端部(2b)被封閉，并具有錐形凸起形式的內(nèi)底部部(11)，其面 向第一端部(2a)。
8. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在于， 該流體分配裝置包括連接器元件(7)，所述連接器元件(7)能用鍵固 定在分配器主體(2)上，以便使分配器主體(2)適配上釉室的內(nèi)部 的具有不同尺寸的連接裝置。
9. 如權利要求8所述的流體分配裝置，其特征在于，連接器元件 (7)具有多個槽溝(8)，所述槽溝(8)限定位置基準。
10. 如權利要求8或9所述的流體分配裝置，其特征在于，該流 體分配裝置包括基準元件(9 )，所述基準元件(9 )可與連接器元件(7 ) 的槽溝(8)相關聯(lián)，用于正確地調(diào)節(jié)分配器主體(2)在流體分布器 裝置(3)內(nèi)部的軸向位置。
11. 如上述權利要求中的任一項所述的流體分配裝置，其特征在 于，該流體分配裝置用聚合物材料制成。
全文摘要
一種流體分配裝置，尤其是用于釉料的分配裝置，該裝置包括圓柱形分配器主體(2)，所述分配器主體(2)在其第一端部(2a)可連接到將要分配的流體的供應導管上，并且可設置在流體分布器裝置(3)的內(nèi)部，該流體分布器裝置(3)可圍繞縱軸(X)旋轉。分配器主體(2)具有分配區(qū)(5)，所述分配區(qū)(5)包括多個用于排出流體的開口(6)，而且具有不一致的尺寸。設在主體(2)的內(nèi)部(2c)的開口(6)與外部連通，并在側面(2d)上朝離開主體(2)的第二端部(2b)的方向延伸預定的長度(d)。
文檔編號C04B41/86GK101638326SQ200910202838
公開日2010年2月3日 申請日期2009年5月26日 優(yōu)先權日2008年7月31日
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