專利名稱：一種亞光熔塊及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種陶瓷用熔塊釉及其制造方法，特別涉及一種亞光熔塊及其制造方法。
背景技術：
隨著社會的發(fā)展，環(huán)保、質高、成本低的建筑裝飾材料成為當今建筑業(yè)研發(fā)的新領域?，F(xiàn)有技術中，陶瓷制品以其致密度高、收縮變形小、耐磨性好、較好的裝飾效果，而成為客戶選擇的對象，具有廣闊的市場，但由于現(xiàn)有技術中瓷片及地磚在施釉程序中對熔塊的要求不同，釉料的要求高，施釉量須有一定厚度，燒制溫度要求嚴格，產品不可混燒，生產排產存在一定限制，傳統(tǒng)的生料釉在應用于產品時，熱穩(wěn)定性差、容易產生色差、產品易變形、適用范圍小；產品易吸污，釉面厚度要求高，釉面粗糙，且其選料要求嚴格，會產生一定的廢釉、刮邊釉，故成本偏高。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術的缺陷，提供一種陶瓷用亞光熔塊及其制造方法，該亞光熔塊適用范圍廣、釉漿性能好、燒成范圍寬、燒成性能好、成本低廉；其制造方法工藝合理、簡單。
本發(fā)明的目的是通過以下技術方案實現(xiàn)的一種亞光熔塊，所述亞光熔塊各組分的重量百分比為SiO230～40％，ALO313～16％，CaO 6～8％，MgO 3～5％，K2O 0.7～1.5％，NaO23～4％，ZnO 2～5％，PbO 1～3％，BaO 6～8％，ZnO23～6％，B2O32～4％，Li2O 0.2～0.6％，廢釉、刮邊釉10～30％。
所述球磨釉漿細度為325目0.2～0.5％。
一種亞光熔塊的制造方法，所述制造方法工藝流程如下原料進廠→檢驗→按原料組分重量配比配料→熔制→水淬→檢驗→包裝。
所述熔制溫度為1500～1600℃。
所述球磨釉漿比重為1.85～1.95g/cm3。
所述球磨釉漿流速為65S以下。
所述底釉比重為1.82g/cm3，所述底釉重量為180～200g。
所述面釉比重為1.90g/cm3，所述面釉重量為180～200g。
本發(fā)明采用上述技術方案后可達到如下有益效果1、適用范圍廣。本發(fā)明可同時適用于瓷片、地磚及其他陶瓷制品。
2、施釉厚度要求低。本發(fā)明在具體應用于產品時，不易吸污，且釉面細膩，施釉量較薄也能達到較好釉面效果。
3、燒成溫度寬。本發(fā)明使用燒成溫度寬，熔制溫度為1500～1600℃，故不易產生色差，成品率高。
4、產品性能好。本發(fā)明使釉漿性能好，燒成范圍寬，使瓷片和地磚產品優(yōu)級率與生料釉相比，提高了近10％左右。在生產瓷片或地磚時因與水晶釉燒成溫度一致，可以實現(xiàn)混燒，更方便于生產排產，產品轉換更加容易，燒成溫度不必做大的調整。
5、工藝流程合理。采用本發(fā)明生產瓷片，三度燒制產品不變色，不上翹，熱穩(wěn)定性優(yōu)于生料釉，居國內先進水平。
6、轉產容易。本發(fā)明燒成溫度略高于水晶釉，但轉換品種時，窯爐調節(jié)不大，轉產更容易。
7、降低了成本。本發(fā)明將生產過程中廢釉、刮邊釉可按10～30％摻入亞光釉面調配而不影響釉面效果，使成本大輻度降低，可降低成本30％左右。
8、環(huán)保。本發(fā)明可將廢釉二次利用，且不影響釉面效果；在用于瓷片、地磚時，釉面不吸污，釉面細膩，質感好。
具體實施例方式
下面結合具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明(熔塊單位為重量百分比)
熔塊制造方法工藝流程如下原料進廠→檢驗→按前述實施例配比配料→熔制(按實施例溫度)→水淬→檢驗→包裝。
權利要求
1.一種亞光熔塊，其特征在于所述亞光熔塊各組分的重量百分比為SiO230～40％，ALO313～16％，CaO 6～8％，MgO 3～5％，K2O 0.7～1.5％，NaO23～4％，ZnO 2～5％，PbO 1～3％，BaO 6～8％，ZnO23～6％，B2O32～4％，Li2O 0.2～0.6％，廢釉、刮邊釉10～30％。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種亞光熔塊，其特征在于所述球磨釉漿細度為325目0.2～0.5％。
3.一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述制造方法工藝流程如下原料進廠→檢驗→按原料組分配比配料→熔制→水淬→檢驗→包裝。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述熔制溫度為1500～1600℃。
5.根據(jù)權利要求3所述的一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述球磨釉漿比重為1.85～1.95g/cm3。
6.根據(jù)權利要求3所述的一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述球磨釉漿流速為65S以下。
7.根據(jù)權利要求3所述的一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述底釉比重為1.82g/cm3，所述底釉重量為180～200g。
8.根據(jù)權利要求3所述的一種亞光熔塊的制造方法，其特征在于所述面釉比重為1.90g/cm3，所述面釉重量為180～200g。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種亞光熔塊，所述亞光熔塊的化學組分為SiO
文檔編號C03C8/00GK101062870SQ20061007454
公開日2007年10月31日 申請日期2006年4月27日 優(yōu)先權日2006年4月27日
發(fā)明者張平華 申請人:霍鐮泉