本實(shí)用新型涉及膠囊充填機(jī)，具體涉及膠囊充填機(jī)的模塊清理機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

膠囊充填機(jī)的模塊（其上模塊和下模塊均?？祝┰诔涮钸^程中進(jìn)行循環(huán)移動(dòng)，充填藥物的過程中，在模塊的模孔中會(huì)殘留藥物，特別是具有黏性的藥粉，藥粉吸附、粘結(jié)在模塊的?？變?nèi)，影響膠囊進(jìn)入模塊的?？字?，影響充填。因此，在完成膠囊充填和膠囊卸料后，需進(jìn)行模塊清理。查中國專利文獻(xiàn)CN201492689U，其中模塊清理在一個(gè)工位上進(jìn)行一次清理，清理效果不好，特別是黏性較大的藥粉，藥粉仍然殘留在模塊、?？字?，其中采用升降氣針，從模塊的下方插入?？字羞M(jìn)行。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于背景技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題旨在提供一種增加一道模塊清理工序的膠囊充填機(jī)的模塊清理機(jī)構(gòu)。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下的技術(shù)方案：膠囊充填機(jī)的模塊清理機(jī)構(gòu)，包括有第一清理裝置和第二清理裝置，第一清理裝置包括有升降氣針，其特征在于：所述第二清理裝置包括有下側(cè)面與上模塊的上側(cè)面配合的吹氣塊，吹氣塊的下側(cè)面上設(shè)有與?？紫鄬?duì)應(yīng)的氣孔，吹氣塊上具有供與氣源連通的氣通道，氣孔與氣通道連通，第二清理裝置設(shè)置在第一清理裝置之后。

所述吹氣塊包括有上塊和下塊，上塊和/或下塊的側(cè)面上開設(shè)有氣槽，上塊和下塊組合使氣槽形成與氣源連通的氣通道，氣通道位于上塊和下塊之間，氣孔設(shè)置在下塊的下側(cè)面上。

吹氣塊通過支架連接在立柱上，支架在立柱上的位置上下調(diào)節(jié)位置。

本實(shí)用新型的有益效果為，膠囊充填機(jī)的模塊清理機(jī)構(gòu)在原有第一清理裝置之后再設(shè)置第二清理裝置進(jìn)行兩次模塊清理，從下向上以及從上往下正反兩個(gè)方向?qū)δK的?？走M(jìn)行正反向清理，清理效果好，能夠?qū)︷ば暂^大的藥粉進(jìn)行清理，因此本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步。

附圖說明

下面結(jié)合附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施方式及實(shí)施例的有關(guān)細(xì)節(jié)及工作原理。

圖1為本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

參見附圖，本實(shí)施方式中膠囊充填機(jī)的模塊清理機(jī)構(gòu)包括有第一清理裝置1和第二清理裝置2。第一清理裝置1包括有升降氣針和罩殼，升降氣針具有出氣孔，能夠升降動(dòng)作，升降氣針從上、下模塊的下方伸入?？字羞M(jìn)行從下向上的吹氣清理，罩殼設(shè)置升降氣針的上方，上、下模塊移動(dòng)至罩殼下方，罩殼用于回收升降氣針吹氣清理出來的藥粉。

本實(shí)施方式中，在第一清理裝置1之后設(shè)置第二清理裝置2，在第一清理裝置之后設(shè)置第二清理裝置，進(jìn)行兩次模塊清理。第二清理裝置2包括有吹氣塊3，吹氣塊3的下側(cè)面與上模塊的上側(cè)面相配合，即上模塊、下模塊的?？讓?duì)齊后移動(dòng)至第二清理裝置的過程中，上模塊的上側(cè)面將移動(dòng)至吹氣塊3的下側(cè)面，吹氣塊3的下側(cè)面與上模塊的上側(cè)面之間間隙配合。吹氣塊3的下側(cè)面上設(shè)有氣孔，氣孔與?？紫鄬?duì)應(yīng)（分布位置和個(gè)數(shù)），吹氣塊上具有氣通道，氣通道用于與氣源進(jìn)行接通，氣孔與氣通道連通，接通氣源，氣孔出氣的時(shí)候能夠?qū)⑼鶑纳舷蛳峦？字写禋狻?/p>

本實(shí)施例中吹氣塊3包括有上塊4和下塊5，上塊的側(cè)面或下塊的側(cè)面或者上、下塊的側(cè)面上開設(shè)有氣槽，即氣槽可以設(shè)置在上塊或下塊的表面上，氣槽在表面通過開槽的方式進(jìn)行加工，因此加工方便。上塊和下塊組合使氣槽形成氣通道8，氣通道與氣源連通，還在上塊或下塊上設(shè)置接口用于與氣源的管路進(jìn)行連接，氣孔設(shè)置在下塊的下側(cè)面上，氣孔與氣槽形成的氣通道進(jìn)行連通。

吹氣塊3通過支架6連接在立柱7上，支架6在立柱7上的位置上下調(diào)節(jié)位置，以便吹氣塊3進(jìn)行上下位置的微調(diào)。支架6一端設(shè)有安裝孔、鎖緊槽和鎖緊裝置，鎖緊槽與安裝孔連通，立柱7設(shè)置在安裝孔內(nèi)，并由鎖緊裝置進(jìn)行鎖緊。

工作原理，上模塊和下模塊的?？咨舷聦?duì)齊后依次移動(dòng)至第一清理裝置和第二清理裝置，在第一清理裝置中，升降氣針從下方伸入?？字羞M(jìn)行從下向上的吹氣清理；完成之后，上模塊與下模塊將移動(dòng)至在第二清理裝置中，移動(dòng)過程中上模塊的上表面將貼著吹氣塊的下表面，到位后，吹氣塊的氣孔從上往下朝模塊進(jìn)行吹氣清理。在第一清理裝置之后再設(shè)置第二清理裝置進(jìn)行兩次模塊清理，從下向上以及從上往下正反兩個(gè)方向?qū)δK的?？走M(jìn)行正反向清理，清理效果好，能夠?qū)︷ば暂^大的藥粉進(jìn)行清理。