本發(fā)明涉及表面處理粉體及含有該表面處理粉體的化妝料。

背景技術(shù)：

由于化妝產(chǎn)品、防曬產(chǎn)品等的化妝料1整天被涂布于肌膚，所以尋求化妝保持性的良好度。因此，為了不發(fā)生汗、淚等水分引起的脫妝，通過高級脂肪酸、氟化合物、有機硅等疏水性的表面處理劑對化妝料中所包含的粉體進行疏水(water-repelling)化處理。

然而，雖然實施了疏水化處理的粉體的化妝保持性提高，但由于清洗時變得難以用水洗掉，所以必須使用專用的潔膚劑、反復(fù)清洗數(shù)次才能洗掉。

若將粉體進行親水化處理，則沖洗性提高，但是由于親水性粉體的化妝保持性變差，故而必須頻繁地進行補妝。即，難于使需要疏水性的化妝保持性與需要親水性的沖洗性并存。

專利文獻1記載了由有機硅構(gòu)成的表面處理劑，專利文獻2記載了由丙烯酸類及/或其酯的共聚物構(gòu)成的表面處理劑，專利文獻3記載了由烷基氟改性有機硅油構(gòu)成的表面處理劑。此外，專利文獻4記載了由甲基丙烯酰胺十一酸與丙烯酰胺甲磺酸鈉構(gòu)成的耐水性與易沖洗性并存的表面處理劑。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1日本特開昭60-163973號公報

專利文獻2日本特開平8-337514號公報

專利文獻3日本特開平8-143423號公報

專利文獻4日本專利第4681406號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明在于提供下述表面處理粉體，即通過干燥時為疏水性，與水接觸時變?yōu)橛H水性，從而化妝保持性與沖洗性并存。

用于解決上述課題的方法如下所示。

1.一種表面處理粉體，其特征在于，粉體表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆蓋，

(式(1)中，R₁、R₂各自獨立地表示烷基、聚氧化亞烷基、?；?、苯基、芳烷基，X表示不鄰接的碳原子可被氧原子取代從而形成醚的碳原子數(shù)1～18的烷基鏈，Y表示單鍵或2價的連接基團，Z₁表示氫原子或甲基，n、m表示聚合度。)

2.根據(jù)1.所述的表面處理粉體，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R₁、R₂為碳原子數(shù)1～4的烷基或苯基。

3.根據(jù)2.所述的表面處理粉體，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的R₁、R₂同為甲基。

4.根據(jù)1.～3.中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，粉體表面被所述第1嵌段共聚物和下述通式(2)表示的第2嵌段共聚物的混合物所覆蓋，

式(2)中，R₃、R₄各自獨立地表示氫原子、烷基、苯基、烷氧基，W表示氫原子或甲基，Z₂表示氫原子或甲基，p、q表示聚合度。

5.根據(jù)4.所述的表面處理粉體，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R₃、R₄為氫原子、碳原子數(shù)1～4的烷基或碳原子數(shù)1～4的醚基。

6.根據(jù)5.所述的表面處理粉體，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R₃、R₄同為氫原子。

7.根據(jù)4.～6.中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述第1嵌段共聚物與所述第2嵌段共聚物的重量比為1：0.5～1：10的范圍。

8.根據(jù)1.～7.中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述粉體為氧化鈦、二氧化硅、云母、滑石、碳酸鈣、氧化鐵、氧化鋁、氧化鋅、氧化鐵紅、氮化硼、氮化硅、硼硅酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦覆蓋合成云母、合成氟代金云母、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚乙二烯、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯中的任一個。

9.一種化妝料，其特征在于，含有1.～8.中任一項所述的表面處理粉體。

由于本發(fā)明的表面處理粉體在干燥環(huán)境下顯示疏水性、在濕潤環(huán)境下顯示親水性，所以當用作化妝料中的粉體時，可得到使用時化妝保持性優(yōu)異，且清洗時易于沖洗的化妝料。

附圖說明

圖1為由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型。

圖2為由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型。

圖3為由第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型。

圖4為第1嵌段共聚物的¹H-NMR圖譜。

圖5為表示作為沉淀回收的表面處理粉體的比例的圖。

圖6為表示分散液的透過率的圖。

圖7為表示分散液的透過率的圖。

圖8為表示耐水性評價時與沖洗性評價時的明度變化的圖。

符號說明

1.Q片段

2.PTMC片段

3.PEG片段

4.D-PTMC片段

具體實施方式

本發(fā)明的表面處理粉體的特征在于粉體表面被特定的嵌段共聚物所覆蓋。

作為本發(fā)明中使用的粉體沒有特別限定，例如，可列舉氧化鈦、二氧化硅、云母、滑石、碳酸鈣、氧化鐵、氧化鋁、氧化鋅、氧化鐵紅、氮化硼、氮化硅、硼硅酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦覆蓋合成云母、合成氟代金云母、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰胺、聚乙二烯、聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯等。

通常而言，由于不同種類的高分子不相溶，所以混合時會分離，然而由于嵌段共聚物的不同種類的高分子鏈通過共價鍵而連接，所以在宏觀尺度(macro scale)上無法分離。因此，嵌段共聚物的具有不同重復(fù)單元的片段彼此要盡可能分離，則發(fā)生以分子鏈的大小程度進行分離的微相分離。

在高分子鏈具有流動性的玻璃化溫度以上，根據(jù)外部環(huán)境嵌段共聚物一側(cè)的片段向表面移動，以便表面能變得更低。即，根據(jù)周圍的環(huán)境發(fā)生片段的再取向，從而引起一側(cè)的片段在表面偏在的表面偏析。嵌段共聚物的表面偏析可通過X射線光電子分光法、能量分散型X射線分析法、傅立葉變換紅外分光計-衰減全反射法、透射電子顯微鏡等進行觀察。

由于本發(fā)明的表面處理粉體的表面被嵌段共聚物所覆蓋，所以在形成嵌段共聚物的具有不同重復(fù)單元的片段中，干燥下更為疏水的片段在表面發(fā)生偏析，濕潤下更為親水的片段在表面發(fā)生偏析。其次，通過該表面偏 析，本發(fā)明的表面處理粉體在干燥時為疏水性而與水接觸等時慢慢變?yōu)橛H水性。因此，當將本發(fā)明的表面處理粉體應(yīng)用于化妝料時，可使化妝保持性與沖洗性并存。

在此，形成本發(fā)明粉體的表面處理所使用的嵌段共聚物的片段沒有必要為親水性和疏水性的片段，只要相對地與親水性的程度有差別即可。即，也可為由疏水性片段與疏水性片段構(gòu)成的嵌段共聚物。

“第1嵌段共聚物”

本發(fā)明中使用的第1嵌段共聚物如下述通式(1)所示。

式(1)中，R₁、R₂各自獨立地表示烷基、聚氧化亞烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不鄰接的碳原子可被氧原子取代從而形成醚的碳原子數(shù)1～18的烷基鏈，Y表示單鍵或2價的連接基團，Z₁表示氫原子或甲基，n、m表示聚合度。

當R₁、R₂的分子結(jié)構(gòu)的體積大時，由于運動性降低從而相對于環(huán)境變化的響應(yīng)性降低，所以優(yōu)選碳原子數(shù)1～4的烷基、苯基，最優(yōu)選甲基。

X表示不鄰接的碳原子可被氧原子取代從而形成醚的碳原子數(shù)1～18的烷基鏈。由于烷基鏈長時結(jié)晶性增高，分子鏈的運動性降低，所以更優(yōu)選碳原子數(shù)為1～12，進一步優(yōu)選1～8。具體而言，可列舉甲基、乙基、丙基、2-丙基、丁基、叔丁基、辛基等。

作為Y表示的2價的連接基團，優(yōu)選碳原子數(shù)15以下的連接基團，更優(yōu)選碳原子數(shù)10以下的連接基團。具體而言，例如，可列舉亞烷基、亞芳基、羰基、磺?；?、羰氧基、羰氨基、磺酰胺基、醚基、硫醚基、二硫基、?；?、烷基磺酰基、-CH＝CH-、-C≡C-、氨基羰氨基、氨基磺酰氨基及它們多個連接而成的連接基團。在它們之中，從分子結(jié)構(gòu)柔軟的觀點出發(fā)，優(yōu)選亞烷基、醚基的組合。具體而言，可列舉-O-、-C₂H₄ O-、-C₂H₄OC₂H₄O-、-C₃H₆(OC₂H₄)_nO-(n＝0～5)等。

Z₁表示氫原子或者甲基。

此外，只要第1嵌段共聚物的數(shù)均分子量在1,000～100,000的范圍，則可沒有特別限制地進行使用。當數(shù)均分子量小于1,000時，難以附著于粉體表面，從而作為表面處理劑不良。當數(shù)均分子量大于100,000時，粘度變得過高從而操作性不良。優(yōu)選數(shù)均分子量為2,000～50,000，更優(yōu)選6,000～30,000。

由于作為代表性有機硅的聚二甲基硅氧烷的玻璃化溫度為-120℃左右，Tg非常低，所以第1嵌段共聚物中的有機硅片段(以下，稱為Q片段。)的分子鏈運動性非常高。在第1嵌段共聚物中，優(yōu)選Q片段的數(shù)均分子量為500～50,000，更優(yōu)選1,000～30,000，進一步優(yōu)選3,000～20,000。

由于聚三亞甲基碳酸酯的玻璃化溫度為-14℃較低，所以第1嵌段共聚物中的聚三亞甲基碳酸酯片段(以下，稱為PTMC片段。)的分子鏈運動性高。優(yōu)選PTMC片段的數(shù)均分子量為500～50,000，更優(yōu)選為5,000～30,000。

第1嵌段共聚物的合成方法沒有限制，可使用可得到目標嵌段共聚物的任意方法。作為一個例子，可通過將末端具有羥基的有機硅在堿性催化劑的存在下與三亞甲基碳酸酯(以下，稱為TMC。)進行開環(huán)聚合來合成。

在干燥環(huán)境下、濕潤環(huán)境下的由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型如圖1所示。

聚三亞甲基碳酸酯薄膜的純水接觸角為約68度，從而PTMC片段2為疏水性。然而，由于聚二甲基硅氧烷薄膜的純水接觸角為100～110度，所以與Q片段1進行對比時，PTMC片段2更為親水。由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在干燥環(huán)境下，更為疏水的Q片段1在表面偏在。該薄膜與水接觸等而處于濕潤環(huán)境下時，由于與水的界面的表面能降低，故而Q片段1潛入薄膜內(nèi)部，由于薄膜表面的PTMC片段2的比率增高，從而親 水性增高。即，由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜顯示環(huán)境響應(yīng)性，并在干燥環(huán)境下為疏水性，在濕潤環(huán)境下疏水性變?nèi)醵蔀橛H水性。且，該響應(yīng)為可逆性，可使其重復(fù)響應(yīng)。

來自嵌段共聚物表面偏析的環(huán)境響應(yīng)性可通過測定水接觸角的經(jīng)時變化來確認。具體而言，使由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜進行真空干燥，在25℃、55％RH下滴加7μL純水時根據(jù)θ/2法的接觸角在Q片段發(fā)生表面偏析的剛剛滴加之后為90～100度，但由于PTMC片段慢慢發(fā)生表面偏析，故而滴加20秒后降低至65～85度。且，在本說明書中，接觸角均為在25℃、55％RH下滴加7μL純水時根據(jù)θ/2法的測定值。

干燥環(huán)境下及濕潤環(huán)境下的接觸角以及接觸角變化速度可通過第1嵌段共聚物的Q片段與PTMC片段的分子量、分子結(jié)構(gòu)的體積大小等進行調(diào)整。且，由于聚三亞甲基碳酸酯薄膜的接觸角為約68度，故而理論上由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在濕潤環(huán)境下的接觸角不能成為68度以下。

通過將第1嵌段共聚物溶解于有機溶劑，并將粉體浸漬于該溶液中并干燥，從而能夠?qū)⒎垠w表面通過嵌段共聚物進行覆蓋。此外，通過將嵌段共聚物與粉體混合、攪拌，即使不使用有機溶劑也可進行覆蓋。

相對于粉體的第1嵌段共聚物的量可根據(jù)粉體的表面積進行調(diào)整，通常，相對于粉體100重量份，第1嵌段共聚物為0.5～20重量份。

通過將粉體用第1嵌段共聚物進行覆蓋，由于使用中在粉體表面Q片段發(fā)生表面偏析，故而成為疏水性，化妝保持性提高。沖洗時由于長時間與水接觸，作為親水性的PTMC片段發(fā)生表面偏析，粉體表面慢慢變?yōu)橛H水性，沖洗性得到發(fā)揮。

在本發(fā)明的表面處理粉體中，同時使用第1嵌段共聚物和第2嵌段共聚物來覆蓋粉體表面，從而可同時提高化妝保持性與沖洗性。

“第2嵌段共聚物”

本發(fā)明中使用的第2嵌段共聚物如下述通式(2)所示。

式(2)中，R₃、R₄各自獨立地表示氫原子、烷基、苯基、烷氧基，W表示氫原子或甲基，Z₂表示氫原子或甲基，p、q表示聚合度。

當R₃、R₄的分子結(jié)構(gòu)的體積大時，由于運動性降低從而相對于環(huán)境變化的響應(yīng)性降低，所以優(yōu)選氫原子、碳原子數(shù)1～4的烷基、碳原子數(shù)1～4的烷氧基，更優(yōu)選氫原子、甲基、乙基、甲氧基，進一步優(yōu)選氫原子、甲基，最優(yōu)選氫原子。

只要第2嵌段共聚物的數(shù)均分子量在1,000～100,000的范圍，則可沒有特別限制地進行使用。當數(shù)均分子量小于1,000時，難以附著于粉體表面，從而作為表面處理劑不良。當數(shù)均分子量大于100,000時，粘度變得過高從而操作性不良。優(yōu)選數(shù)均分子量為2,000～50,000，更優(yōu)選6,000～30,000。

由于第2嵌段共聚物中的聚乙二醇片段(以下，稱為PEG片段。)具有多個醚基，故而為親水性。此外，由于處于非晶狀態(tài)的聚環(huán)氧乙烷的玻璃化溫度為約-65度較低，故而運動性優(yōu)異。優(yōu)選PEG片段的數(shù)均分子量為200～20,000、更優(yōu)選500～10,000、進一步優(yōu)選2,000～5,000。當數(shù)均分子量小于200時，難以發(fā)生表面偏析，當大于20,000時，表面偏析發(fā)生得過快。

第2嵌段共聚物中的聚三亞甲基碳酸酯衍生物片段(以下，稱為D-PTMC片段。)為疏水性。由于D-PTMC片段與上述的第1嵌段共聚物的PTMC片段具有同等的Tg(約-14℃)，故而分子鏈的運動性高。優(yōu)選D-PTMC片段的數(shù)均分子量為500～50,000，更優(yōu)選5,000～30,000。

第2嵌段共聚物的合成方法沒有限制，可使用可得到目標嵌段共聚物的任意方法。作為一個例子，與第1嵌段共聚物同樣，可通過將末端具有羥基的聚環(huán)氧乙烷在堿性催化劑的存在下與三亞甲基碳酸酯衍生物進行開環(huán)聚合來制造。通過使用三亞甲基碳酸酯衍生物作為單體，可導(dǎo)入取代 基作為D-PTMC片段的R₃、R₄。例如，通過使5，5-二甲基-1，3-二惡烷-2-酮進行開環(huán)聚合，可導(dǎo)入甲基作為R₃、R₄。

干燥環(huán)境下、濕潤環(huán)境下的由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型如圖2所示。

由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在干燥環(huán)境下，作為疏水性的D-PTMC片段4發(fā)生表面偏析，剛剛滴加后的接觸角為65～68度，而該薄膜與水接觸等從而處于濕潤環(huán)境下時，由于作為親水性的PEG片段3發(fā)生表面偏析，故而滴加20秒后的接觸角降低至30～40度。且，與第1嵌段共聚物同樣該響應(yīng)為可逆性，可使其重復(fù)響應(yīng)。

PEG片段3的數(shù)均分子量越大，由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的接觸角在與水接觸后越迅速降低。干燥環(huán)境下及濕潤環(huán)境下的接觸角以及接觸角變化速度可通過第2嵌段共聚物的PEG片段與D-PTMC片段分子量、分子結(jié)構(gòu)的體積大小等進行調(diào)整。即，通過使不相溶的由不同高分子構(gòu)成的片段產(chǎn)生相分離的驅(qū)動力發(fā)生變化，從而可使響應(yīng)速度發(fā)生變化。且，由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在干燥環(huán)境下的接觸角理論上不能大于作為聚三亞甲基碳酸酯薄膜接觸角的68度。

如上所述，由于聚三亞甲基碳酸酯的接觸角為68度，所以理論上由第1嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在濕潤環(huán)境下的接觸角不能小于68度，由第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在干燥環(huán)境下的接觸角不能大于68度。

通過將第1嵌段共聚物和第2嵌段共聚物混合，可在干燥環(huán)境下更加疏水、濕潤環(huán)境下更加親水，從而可進行最適的表面處理。

由于第1嵌段共聚物的PTMC片段與第2嵌段共聚物的D-PTMC片段類似或具有相同的重復(fù)單元，故而相溶性優(yōu)異，可按照任意的比率進行混合。具有PEG片段的第2嵌段共聚物越多，可使與水接觸時的親水性越高。第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比沒有特別限制，優(yōu)選1：0.5～1：10，更優(yōu)選1：1～1：5。

由第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜的表面偏析模型如圖3所示。在干燥狀態(tài)下，最為疏水的Q片段1發(fā)生表面偏析。在膜表面滴 加水滴等的濕潤環(huán)境下，發(fā)生Q片段1慢慢潛入膜內(nèi)部的第1親水化，接著，發(fā)生最為親水的PEG片段3產(chǎn)生表面偏析的第2親水化。即，由于由第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物構(gòu)成的薄膜在干燥環(huán)境下，Q片段1發(fā)生表面偏析，故而接觸角為90～100度從而成為疏水性，由于在濕潤環(huán)境下，PEG片段發(fā)生表面偏析，故而接觸角降低至30～40度從而成為親水性。

通過將本發(fā)明的表面處理粉體作為化妝料中的粉體使用，可使使用時的化妝保持性與清洗時的沖洗性并存。作為化妝料的劑型，只要配合粉體就沒有特別限定，例如，可列舉粉底、蜜粉(Lucent Powder)、粉底霜、粉底液、化妝水、防曬霜、遮瑕膏、面容調(diào)色粉(face color)、腮紅、眼影、口紅、妝前乳(makeup base)、香體粉(body powder)等。

實施例

“第1嵌段共聚物的合成”

“合成例1”

使以下兩種物質(zhì)溶解于二氯甲烷，以便相對于其中一個末端具有丁基、其他末端具有-C₃H₆OC₂H₄OH基的數(shù)均分子量5,000的聚二甲基硅氧烷(JNC株式會社制，商品名：SilaplaneFM0421，以下，稱為PDMS。)的羥基1當量，TMC成為300當量(摩爾比)，從而得到10wt/v％的溶液。相對于PDMS，加入作為堿性催化劑的1，8-二氮雜雙環(huán)十一碳烯(DBU)以便成為2當量(摩爾比)，在氮氣氣氛下于室溫反應(yīng)72小時后，添加苯甲酸使反應(yīng)停止。反應(yīng)停止后，用由甲醇、2-丙醇、己烷(10：1：10(體積比))構(gòu)成的混合溶劑使其再沉淀從而回收，并在50℃下進行減壓干燥，從而得到第1嵌段共聚物。

“第2嵌段共聚物的合成”

“合成例2”

使以下兩種物質(zhì)溶解于二氯甲烷，以便相對于一側(cè)末端被甲氧基保護的數(shù)均分子量5000的聚乙二醇單甲基醚(Sigma-Aldrich Japan株式會社 制，商品名：Poly(ethylene glycol)methyl ether，以下，稱為mPEG。)的末端羥基1當量，TMC成為400當量(摩爾比)，從而得到10wt/v％的溶液。相對于mPEG1當量，加入作為堿性催化劑的DBU以便成為3當量(摩爾比)，在氮氣氣氛下于室溫反應(yīng)72小時后，添加苯甲酸使反應(yīng)停止。反應(yīng)停止后，用由己烷與2-丙醇(7：3(體積比))構(gòu)成的混合溶劑使其再沉淀從而回收，并在50℃下進行減壓干燥，從而得到第2嵌段共聚物。

“嵌段共聚物的分析”

1.¹H-NMR測定

所得到的嵌段共聚物的聚合度通過¹H-NMR進行解析。第1嵌段共聚物1的¹H-NMR圖譜如圖4所示。

從歸屬于聚二甲基硅氧烷的信號(0.3ppm附近)與歸屬于聚三亞甲基碳酸酯的信號(2.1ppm、4.2ppm附近)的積分強度比來計算第1嵌段共聚物的三亞甲基碳酸酯的聚合度。

同樣地，從歸屬于聚乙二醇單甲基醚的信號(3.6ppm附近)與歸屬于聚三亞甲基碳酸酯的信號的積分強度比來計算第2嵌段共聚物的三亞甲基碳酸酯的聚合度。

2.GPC測定

使嵌段共聚物溶解于四氫呋喃進行凝膠滲透色譜(GPC)測定。GPC使用高效液相色譜(GPC色譜柱KF-804(昭和電工株式會社制)，洗脫液：四氫呋喃)進行，從其色譜結(jié)果，通過將聚苯乙烯作為標準品進行計算，從而作為聚苯乙烯換算來求得。

嵌段共聚物的分析結(jié)果如表1所示。

表1

“實施例1”

將50mg第1嵌段共聚物溶解于15ml丙酮。在該溶液中，作為粉體，混合·攪拌1g未處理的氧化鈦(石原產(chǎn)業(yè)株式會社制、商品名：CR－50、平均粒徑0.25μm)后，將溶劑用蒸發(fā)器餾去。將溶劑餾去,并將所得到的固形物通過乳缽進行粉碎，從而得到表面處理粉體。相對于氧化鈦的第1嵌段共聚物的覆蓋量為5wt％。

[實施例2]

使用25mg第1嵌段共聚物與25mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：1，除此以外，其它與實施例1同樣地得到表面處理粉體。

[實施例3]

使用12.5mg第1嵌段共聚物和37.5mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：3，除此以外，其它與實施例1同樣地得到表面處理粉體。

[實施例4]

使用8.3mg第1嵌段共聚物和41.7mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：5，除此以外，其它與實施例1同樣地得到表面處理粉體。

[實施例5]

使用100mg第1嵌段共聚物，使相對于氧化鈦的第1嵌段共聚物的覆蓋量成為10wt％，除此以外，其它與實施例1同樣地得到表面處理粉 體。

[實施例6]

使用50mg第1嵌段共聚物和50mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：1，除此以外，其它與實施例5同樣地得到表面處理粉體。

[實施例7]

使用25mg第1嵌段共聚物和75mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：3，除此以外，其它與實施例5同樣地得到表面處理粉體。

[實施例8]

使用16.7mg第1嵌段共聚物和83.3mg第2嵌段共聚物，使第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比成為1：5，除此以外，其它與實施例5同樣地得到表面處理粉體。

[對比例1]

使用50mg第2嵌段共聚物，除此以外，其它與實施例1同樣地得到表面處理粉體。

[對比例2]

使用100mg第2嵌段共聚物，除此以外，其它與對比例1同樣地得到表面處理粉體。

[參考例]

將作為市售的經(jīng)疏水化處理的粉體的聚二甲基硅氧烷覆蓋處理氧化鈦(三好化成株式會社制，商品名：SA-Titanium CR-50、聚二甲基硅氧烷覆蓋量2wt％)作為表面處理粉體。

＜通過重量進行的在水中的易融合性評價＞

在加入了20mL水的50mL容量的離心管中，加入50mg實施例1的表面處理粉體，用漩渦混勻器攪拌(500/分鐘)3秒或30秒。將攪拌 后也浮于水面的狀態(tài)的表面處理粉體除去后，以2000rpm離心分離2分鐘使表面處理粉體進行沉淀。將上清液通過傾析廢棄，將回收的沉淀在室溫下真空干燥約3小時。

從相對于投入的表面處理粉體量(50mg)的作為沉淀回收的表面處理粉體量的比例，評價在水中的易融合性。顯示出比例越高越易融合于水。

此外，使用實施例2～4、對比例1、參考例的表面處理粉體、未處理的氧化鈦(商品名：CR－50)，同樣地評價在水中的易融合性。作為沉淀回收的比例如圖5所示。

作為本發(fā)明的表面處理粉體的實施例1～3，攪拌3秒時可回收80％以上、攪拌30秒時可回收85％以上，可確認易融合于水中。此外，可確認與未處理的氧化鈦具有同等的親水性。

由于對比例1僅用比第1嵌段共聚物更為親水的第2嵌段共聚物進行表面處理，所以攪拌3秒時回收97％，攪拌30秒時回收99％，非常易融合于水。

由于參考例進行了疏水化處理，所以難融合于水，攪拌3秒時只能回收16％。且，攪拌30秒時可回收48％的粉體，推測這是由于攪拌30秒時不與水融合的粉體附著于壁從而無法去除干凈。

＜通過透過率進行的在水中的易融合性評價＞

在加入了20mL水的50mL容量的離心管中，加入50mg實施例1的表面處理粉體，用漩渦混勻器攪拌(500/分鐘)3秒或30秒。攪拌后以2000rpm進行1分鐘離心分離，并避開浮于表面的粉體和沉降的粉體，用滴液吸管(spuit)抽吸中間層，從而得到分散液。

將分散液的660nm處的透過率通過紫外可見分光光度計(株式會社島津制作所制、裝置名：UV－2450)測定，并進行分散狀態(tài)的評價。透過率越低表示表面處理粉體分散在水中，即，易融合于水。

此外，使用實施例2～8、對比例1、2、參考例的表面處理粉體、未處理的氧化鈦(商品名：CR－50)，同樣地評價在水中的易融合性。分 散液的透過率如圖6、7所示。

由于僅使用了第1嵌段共聚物的實施例1、5在水中的分散性低，許多表面處理粉體在離心分離時沉降，所以分散液的透明性高，透過率在攪拌3秒時分別為87.4％、89.9％，攪拌30秒時分別為93.8％、94.3％。

由于實施例2、6、7攪拌3秒后在水中的分散性差，許多表面處理粉體通過離心分離發(fā)生沉降而被去除，所以透過率分別高達70.7％、77.0％、61.5％。然而，由于攪拌30秒后在水中的分散性提高，從而表面處理粉體變得難以沉降，所以透過率分別降低至40.4％、1.9％、0.1％。由此，可確認覆蓋粉體表面的嵌段共聚物通過與水接觸發(fā)生表面偏析從而慢慢變?yōu)橛H水性。

由于實施例3、4、8及對比例1、2易融合于水，分散性優(yōu)異，所以透過率在攪拌3秒時為5.2％以下，攪拌30秒時低至0.2％以下，與未處理氧化鈦攪拌3秒時的1.1％、攪拌30秒時的0％為同等程度。

使用了市售的疏水化處理粉體的參考例與實施例1、5同樣，分散液的透明性高，攪拌3秒、攪拌30秒的透過率分別為98.7％、99.8％。然而，表面處理粉體的表現(xiàn)不同，在實施例1、5中離心分離后的表面處理粉體發(fā)生沉降，相對于此，在參考例中離心分離后的表面處理粉體為仍然浮于液面的狀態(tài)。

＜表面處理粉體的耐水性評價＞

將50mg實施例1的表面處理粉體涂布于黑色的人工皮革，以便成為4.2mg/cm²，并測定色差。在該人工皮革上通過噴霧噴射1次水以便成為一定量，并用一定的力輕輕按壓紙巾，除去水后測定色差。

通過明度(L值)的變化評價耐水性。由于明度變化越小，表面處理粉體越不易被除去，故而顯示出耐水性高、化妝保持性優(yōu)異。色差測定使用分光測色計(柯尼卡美能達株式會社制，裝置名：分光測色計CM－2600d)，通過正反射光除去方式進行。

此外，使用實施例2～4、對比例1、參考例的表面處理粉體、未處理的氧化鈦(商品名：CR－50)同樣地評價耐水性。

＜表面處理粉體的沖洗性評價＞

將50mg實施例1的表面處理粉體涂布于黑色的人工皮革上，以便成為4.2mg/cm²，并測定色差。將該人工皮革沉入裝滿水的培養(yǎng)皿中，使用摩擦系數(shù)測定儀(株式會社Trinity Lab,裝置名：handy tribo master TL201Ts)，往返摩擦10次(負荷50g，速度20mm/秒)。從培養(yǎng)皿中取出，在室溫下干燥30分鐘后測定色差。

通過明度(L值)的變化評價沖洗性。由于明度變化越大，表面處理粉體越易被除去，故而顯示出沖洗性優(yōu)異。色差測定使用分光測色計(柯尼卡美能達株式會社制，裝置名：分光測色計CM－2600d)，通過正反射光除去方式進行。

此外，使用實施例2～4、對比例1、參考例的表面處理粉體、未處理的氧化鈦(商品名：CR－50)來同樣地評價沖洗性。

耐水性評價時與沖洗性評價時的明度變化如圖8所示。

從上述“通過透過率進行的在水中的融合性評價”的結(jié)果，可預(yù)想在實施例1～4中，僅實施例2的耐水性與沖洗性并存，但是實施例1～4中的任一個耐水性與沖洗性均優(yōu)異，與使用了市售的聚二甲基硅氧烷覆蓋處理氧化鈦的參考例相比，具有同等以上的耐水性和優(yōu)異的沖洗性。尤其是，實施例4比未處理鈦的沖洗性優(yōu)異。

此外，預(yù)想合用第1嵌段共聚物和第2嵌段共聚物的實施例2～4顯示處于實施例1與對比例1之間的性能，但是并沒有成為那樣的結(jié)果。具體而言，實施例2～4比實施例1的耐水性優(yōu)異，實施例2比實施例1沖洗性差，實施例4比對比例1沖洗性優(yōu)異。

從上述“通過透過率進行的在水中的易融合性評價”的結(jié)果，可預(yù)想實施例3、4的耐水性差，但涂布于人工皮革時，耐水性與沖洗性并存。推測這是基于由于嵌段共聚物提高了對人工皮革的附著性，故而短時間與水接觸時的耐水性提高的原因。表面處理引起的附著性的提高從以下內(nèi)容也可得到證實，即實施例1～4與進行了疏水化處理的參考例顯示出同等以上的耐水性。

以下，示出含有本發(fā)明的表面處理粉體的化妝料的處方例。

(處方例1)粉狀粉底

在各表面處理粉體中，第1嵌段共聚物和第2嵌段共聚物的重量比為1：3，覆蓋量成為5wt％。

(處方例2)蜜粉(Lucent Powder)

在各表面處理粉體中，第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比為1：3，覆蓋量成為10wt％。

(處方例3)粉底霜

在各表面處理粉體中，第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比為1：5，覆蓋量成為5wt％。

(處方例4)2層式防曬霜

在各表面處理粉體中，第1嵌段共聚物與第2嵌段共聚物的重量比為1：5，覆蓋量成為10wt％。

處方例1～4的化妝料使用時的化妝保持性優(yōu)異，同時可用水簡單地沖洗。