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一種金屬支架及其制備方法

文檔序號(hào):1185497閱讀:305來源:國知局
專利名稱:一種金屬支架及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種用于藥物洗脫支架的金屬支架及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來,在臨床上藥物洗脫支架(drug-eluting stent,DES)被廣泛應(yīng)用。藥物洗脫支架也稱之為藥物釋放支架,通過包被于金屬支架表面的聚合物或者通過金屬支架表面的孔洞攜帶藥物。和金屬裸支架相比,在植入人體后,藥物洗脫支架能夠不斷地向與其相接觸病變組織釋放藥物,從而能夠有效抑制血管內(nèi)壁平滑肌的增生,降低血管支架內(nèi)再狹窄的發(fā)生。然而通過對(duì)現(xiàn)有技術(shù)研究,申請(qǐng)人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有的金屬支架用于藥物洗脫支架時(shí)存在以下問題1、利用聚合物攜帶藥物,在長期植入人體后,由于其表面的聚合物的長期存在或聚合物的降解過程,會(huì)導(dǎo)致持續(xù)的炎癥反應(yīng),進(jìn)而可能導(dǎo)致血管內(nèi)皮化延遲和發(fā)生晚期血管再狹窄追趕。2、利用金屬支架表面孔洞攜帶藥物,由于其金屬支架的表面都設(shè)置有微孔, 制成藥物洗脫支架的內(nèi)外表面、甚至側(cè)面也都會(huì)涂敷有藥物,所以在植入人體后,會(huì)使得血管內(nèi)藥物的濃度較大,釋放方向也得不到有效控制,從而使得一部分藥物不能被血管壁吸收,藥物的有效利用率低。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種金屬支架及其制備方法,使用該金屬支架制成藥物洗脫支架后,不僅可以避免聚合物帶來的問題,而且還可以增加藥物的控釋能力和有效利用率。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案一種金屬支架,包括支架本體,所述支架本體的外周表面均勻分布有若干個(gè)孔洞, 且所述支架本體的內(nèi)表面為光滑表面。優(yōu)選地,所述支架本體呈管形網(wǎng)狀。優(yōu)選地,所述孔洞的孔徑和孔深在0. 5 μ m 10 μ m。優(yōu)選地,所述金屬支架為人體管腔內(nèi)支架。優(yōu)選地,所述支架本體的材料為具有良好生物相容性及力學(xué)特性的不銹鋼、鈷基合金、鎳基合金、鈦合金或可降解鎂合金優(yōu)選地,所述人體管腔內(nèi)支架包括冠狀動(dòng)脈血管支架、顱內(nèi)血管支架、外周血管支架、脾動(dòng)脈血管支架、術(shù)中支架、心臟瓣膜支架、膽道支架、食道支架、腸道支架、胰管支架、尿道支架或氣管支架。一種金屬支架的制備方法,包括對(duì)支架本體表面進(jìn)行預(yù)處理,去除所述支架本體表面的雜質(zhì);向電解槽中加入電解液,所述電解液包括0. 02% 10%的硝酸;
以所述預(yù)處理后的支架本體為陽極,在所述電解液中進(jìn)行電化學(xué)腐蝕反應(yīng),得到外周表面均勻分布有若干個(gè)孔洞的金屬支架。優(yōu)選地,所述預(yù)處理包括拋光、清洗和/或干燥。優(yōu)選地,所述電解液還包括0. 01% 100%乙二醇溶液和/或0.01% 100%丙
三醇溶液。優(yōu)選地,電化學(xué)腐蝕反應(yīng)的反應(yīng)電壓為2 40V,反應(yīng)時(shí)間為5 300s。由以上本申請(qǐng)實(shí)施例提供的技術(shù)方案可見,本中請(qǐng)實(shí)施例提供的該金屬支架制備方法,以支架本體做為陽極在含有0. 02% 10%硝酸的電解液內(nèi)進(jìn)行電化學(xué)腐蝕,可以在只在支架本體的外周表面腐蝕成不同孔徑和孔深的孔洞,而支架本體的內(nèi)表面為光滑表面,沒有微孔。并且通過調(diào)整電解液中各配方的濃度、反應(yīng)電壓和反應(yīng)時(shí)間,還可以自由控制孔洞的孔徑和孔深。利用該方法制備得到的金屬支架,只在其外周表面分布有孔洞,而在金屬支架的內(nèi)表面均無腐蝕。因此該金屬支架用于藥物洗脫支架時(shí),金屬支架的孔洞裝載藥物,而不用使用聚合物涂層進(jìn)行載藥,進(jìn)而可以避免使用聚合物所帶來的問題,同時(shí)該金屬支架只有外周表面設(shè)置有孔洞,所以可以控制藥物的釋放方向,并且可以提高藥物的利用率。


為了更清楚地說明本申請(qǐng)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)中記載的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下, 還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的金屬支架的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的金屬支架的局部結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的金屬支架的制備方法的工藝流程圖。
具體實(shí)施例方式為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本申請(qǐng)中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都應(yīng)當(dāng)屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的金屬支架的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的金屬支架的局部結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1和圖2所示,該金屬支架主體部分為支架本體1,在支架本體1的外周表面上均勻分布有若干個(gè)孔洞。上述若干個(gè)孔洞只是位于支架本體1的外周表面,而在支架本體1的內(nèi)表面,則是光滑的表面,不存在孔洞。本申請(qǐng)實(shí)施例中,孔洞的形狀是任意的,孔洞孔徑的大小可以選擇在0. ιμπι ομπι,本申請(qǐng)實(shí)施例中的孔徑是指孔洞的有效直徑,即按照一定的集合規(guī)律,將各種形狀的孔洞折算成等效直徑的圓孔后,其圓孔孔洞的直徑;孔洞的孔深同樣也可以選擇在0. 1 μ m 10 μ m,這里孔深是指孔洞的底部距離支架本體1外表面的距離,孔深的選擇不僅當(dāng)該金屬支架用于藥物洗脫支架時(shí),可以在支架本體1上孔洞內(nèi)裝載藥物,而且還不會(huì)影響支架本體1的包括支撐強(qiáng)度在內(nèi)的物理機(jī)械性能。本申請(qǐng)實(shí)施例中,支架本體1的結(jié)構(gòu)為管形網(wǎng)狀,并且為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的人體管腔內(nèi)支架,包括但不局限于冠狀動(dòng)脈血管支架、顱內(nèi)血管支架、外周血管支架、脾動(dòng)脈血管支架、術(shù)中支架、心臟瓣膜支架、膽道支架、食道支架、腸道支架、胰管支架、尿道支架或氣管支架。另外,支架本體1材料選擇為具有良好生物相容性及力學(xué)特性的材料,例如不銹鋼、鈷基合金、鎳基合金、鈦合金或可降解鎂合金。本申請(qǐng)實(shí)施例還提供上述金屬支架的制備方法,圖3所示為該方法的工藝流程圖,如圖3所示,該制備方法包括對(duì)支架本體表面進(jìn)行預(yù)處理,去除所述支架本體表面的雜質(zhì)。對(duì)支架本體表面進(jìn)行預(yù)處理包括但不局限于拋光、清洗和/或干燥,還可以為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的其他方式。預(yù)處理是將支架本體表面的氧化層、油脂或其他雜質(zhì)去除,避免影響支架本體的電化學(xué)腐蝕效果,進(jìn)而導(dǎo)致支架本體1表面孔洞分布不均勻或無法控制孔洞的孔徑及孔深。向電解槽中加入電解液,所述電解液的配方為0. 02% 10%的硝酸。本申請(qǐng)實(shí)施例中,電解液的配方為0. 02% 10%的硝酸,優(yōu)選地電解液中還可以包括0.01% 100%乙二醇溶液和/或0.01% 100%丙三醇溶液。以所述預(yù)處理后的支架本體為陽極,在所述電解液中進(jìn)行電化學(xué)腐蝕反應(yīng),得到外周表面均勻分布有若干個(gè)孔洞的支架本體。本申請(qǐng)實(shí)施例中,電化學(xué)腐蝕反應(yīng)的反應(yīng)電壓為2V 40V,反應(yīng)時(shí)間為k 300s。由于支架本體的結(jié)構(gòu)為管形,在進(jìn)行電化學(xué)腐蝕時(shí),支架本體的內(nèi)外表面的電流密度會(huì)不同,其中支架本體外表面的電流密度會(huì)大于內(nèi)表面的電流密度,因此可以在支架外表面形成多個(gè)、均勻的孔洞,而內(nèi)表面無微孔。另外通過控制電解液中各配方的濃度、反應(yīng)電壓和反應(yīng)時(shí)間,還可以自由控制支架本體外周表面孔洞的孔徑和孔深,所述孔徑的范圍在0. 1 μ m 10 μ m,所述孔深的范圍在0. Iym 10 μ m。例如當(dāng)電解液中硝酸的濃度為0. 02% 0. 2%時(shí),反應(yīng)得到的支架本體表面孔洞的孔徑和孔深均在0. 1 μ m 2 μ m ;當(dāng)電解液中硝酸的濃度為0. 2% 2%時(shí), 反應(yīng)得到的支架本體表面孔洞的孔徑范圍在2 μ m 5 μ m,孔深的范圍在1 μ m 5 μ m ;當(dāng)電解液中硝酸的濃度為2% 10%時(shí),反應(yīng)得到的支架本體表面孔洞的孔徑范圍在5 μ m IOum,孔深的范圍在2 μ m 10 μ m。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)實(shí)施例提供的該金屬支架制備方法,以支架本體做為陽極在含有0. 02% 10%的電解液內(nèi)進(jìn)行電化學(xué)腐蝕,可以在只在支架本體的外周表面腐蝕成不同孔徑和孔深的孔洞,并且可以通過調(diào)整電解液中硝酸的濃度,控制孔洞的孔徑和孔深。利用該金屬支架制備方法制備得到的金屬支架,只在其外周表面分布有孔洞,而在金屬支架的內(nèi)表面和側(cè)面均無腐蝕。因此該金屬支架用于藥物洗脫支架時(shí),金屬支架的孔洞裝載藥物,而不用使用聚合物涂層進(jìn)行載藥,進(jìn)而可以避免使用聚合物所帶來的問題,同時(shí)該金屬支架只有外周表面設(shè)置有孔洞,所以裝載藥物后,可以控制藥物的釋放方向,并且可以提高藥物的利用率。
為了進(jìn)一步理解本發(fā)明,下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的用于藥物洗脫支架的金屬支架的制備方法進(jìn)行詳細(xì)描述。實(shí)施例1 將支架本體進(jìn)行拋光,然后再清洗,最后進(jìn)行干燥處理。實(shí)施例2 按照以下步驟配制電解液在IOOml純化水中加入0. Iml的硝酸,IOOml的乙二醇溶液和300ml的丙三醇溶液,混合均勻后,備用。實(shí)施例3 ;按照以下步驟配制電解液在200ml純化水中加入Iml的硝酸,150ml的乙二醇溶液和150ml的丙三醇溶液, 混合均勻后,備用。實(shí)施例4 按照以下步驟配制電解液 在400ml純化水中加入IOml的硝酸,50ml的乙二醇溶液和40ml的丙三醇溶液,混合均勻后,備用。實(shí)施例5 提供電解槽,將實(shí)施例2配制的溶液為電解液加入電解槽內(nèi),并將實(shí)施例1預(yù)處理后的支架本體做為陽極放入電解槽內(nèi),在電壓為30 40V,反應(yīng)120s后,得到表面微孔孔徑和孔深均為0. 1 μ m 2 μ m的金屬支架。實(shí)施例6 提供電解槽,將實(shí)施例3配制的溶液為電解液加入電解槽內(nèi),并將實(shí)施例1預(yù)處理后的支架本體做為陽極放入電解槽內(nèi),在電壓為10 30V,反應(yīng)60s后,得到表面微孔孔徑為2 μ m 5 μ m、孔深為1 μ m 5 μ m的金屬支架。實(shí)施例7 提供電解槽,將實(shí)施例4配制的溶液為電解液加入電解槽內(nèi),并將實(shí)施例1預(yù)處理后的支架本體做為陽極放入電解槽內(nèi),在電壓為2 10V,反應(yīng)^后,得到表面微孔孔徑為 5 μ m 10 μ m、孔深為2 μ m 10 μ m的金屬支架。以上所述僅是本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施方式,使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解或?qū)崿F(xiàn)本申請(qǐng)。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本申請(qǐng)的精神或范圍的情況下,在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此,本申請(qǐng)將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種金屬支架,包括支架本體,其特征在于,所述支架本體的外周表面均勻分布有若干個(gè)孔洞,且所述支架本體的內(nèi)表面為光滑表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬支架,其特征在于,所述支架本體呈管形網(wǎng)狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬支架,其特征在于,所述孔洞的孔徑和孔深在0.1 μ m 10 μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬支架,其特征在于,所述金屬支架為人體管腔內(nèi)支架。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的金屬支架,其特征在于,所述支架本體的材料為具有良好生物相容性及力學(xué)特性的不銹鋼、鈷基合金、鎳基合金、鈦合金或可降解鎂合金。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金屬支架,其特征在于,所述人體管腔內(nèi)支架包括冠狀動(dòng)脈血管支架、顱內(nèi)血管支架、外周血管支架、脾動(dòng)脈血管支架、術(shù)中支架、心臟瓣膜支架、膽道支架、食道支架、腸道支架、胰管支架、尿道支架或氣管支架。
7.一種金屬支架的制備方法,其特征在于,包括對(duì)支架本體表面進(jìn)行預(yù)處理,去除所述支架本體表面的雜質(zhì);向電解槽中加入電解液,所述電解液包括0. 02% 10%的硝酸;以所述預(yù)處理后的支架本體為陽極,在所述電解液中進(jìn)行電化學(xué)腐蝕反應(yīng),得到外周表面均勻分布有若干個(gè)孔洞的金屬支架。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述預(yù)處理包括拋光、清洗和/或干燥。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述電解液還包括0.01% 100%乙二醇溶液和/或0.01% 100%丙三醇溶液。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,電化學(xué)腐蝕反應(yīng)的反應(yīng)電壓為2 40V, 反應(yīng)時(shí)間為5 300s。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種金屬支架及其制備方法,該金屬支架包括支架本體,所述支架本體的外周表面分布有若干個(gè)孔洞,且所述支架本體的內(nèi)表面為光滑表面。該金屬支架用于藥物洗脫支架時(shí),金屬支架的孔洞裝載藥物,而不用使用聚合物涂層進(jìn)行載藥,進(jìn)而可以避免使用聚合物所帶來的問題,同時(shí)該金屬支架只有外周表面設(shè)置有孔洞,所以可以控制藥物的釋放方向,并且可以提高藥物的利用率。
文檔編號(hào)A61F2/90GK102309369SQ20101022297
公開日2012年1月11日 申請(qǐng)日期2010年7月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月9日
發(fā)明者唐智榮, 姚瑤, 李俊菲, 羅七一, 胡燕 申請(qǐng)人:微創(chuàng)醫(yī)療器械(上海)有限公司
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