專利名稱：電磁波屏蔽透明體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種表面覆蓋材料，該材料用于顯示裝置的表面覆蓋，特別是用于對需要防止電磁波漏泄的等離子體顯示屏(以下簡寫為PDP)或設(shè)有需要透視內(nèi)部的醫(yī)療機(jī)器的房間的窗戶等的表面進(jìn)行覆蓋。
由于近些年來電子學(xué)的迅速的發(fā)展，伴隨著計(jì)算機(jī)等的發(fā)展，使電子機(jī)器發(fā)生誤動作的電磁波干擾已成了一個(gè)大問題。作為對該電磁波防患于未然的手段，有一種主動地屏蔽方法，該方法采用使電子機(jī)器的外殼導(dǎo)電化的辦法，在發(fā)生源處封鎖不需要的電波。作為具體的防止電磁波漏泄的材料，使用的是金屬箔、穿孔金屬箔、金屬網(wǎng)、金屬纖維和經(jīng)過了電鍍處理的有機(jī)·無機(jī)纖維等，但是在以PDP為代表的顯示體或窗戶等中，透明是絕對必要的條件，從光的透過性的觀點(diǎn)來看，上述物質(zhì)的不論哪一種都是不適合使用的。
此外，由于金屬表面隨著時(shí)間的經(jīng)過而發(fā)展氧化，故在上述物質(zhì)中即便是可以期待某種程度的透明性的金屬網(wǎng)，也存在著在網(wǎng)格點(diǎn)處高頻接觸易于斷開，難于長時(shí)間地顯示穩(wěn)定的電磁屏蔽效果的缺點(diǎn)。對此，雖然可以考慮使用作為液晶電極廣為應(yīng)用的不會有氧化惡化的氧化銦和氧化錫的復(fù)合氧化物(以下簡寫為ITO)，但人們指摘該材料的電磁波防漏功能不大，因而只限于那些靜電防止功能用途。雖然作為可能性也嘗試過使導(dǎo)電性提高到與金屬類似的導(dǎo)電性，例如提高到1Ω/□以下，但是現(xiàn)狀是即便是邊對玻璃基板加熱邊成膜，也只能是4Ω/□，而且從技術(shù)上說在塑料薄膜上形成是不可能的。
此外，還有更為重要的問題。特別是在使用現(xiàn)在受人注目的，即PDP目標(biāo)所指的對角線為40～50英寸以上的這種大型尺寸且重量重的玻璃基板的情況下，在PDP裝配時(shí)從裝配性來看也是有問題的。另一方面，若為了輕重量化作為基板使用塑料基板，則從耐熱性的觀點(diǎn)來看，就不能使用目的在于提高透明性、導(dǎo)電性的最重要的基板加熱這種手段，要得到低電阻是不可能的。此外，如果企圖提高膜厚來降低電阻，則由于ITO膜和塑料基板之間的線膨脹系數(shù)之差，在成膜后或者是因內(nèi)部應(yīng)力而剝離，或者是產(chǎn)生裂縫，要想形成類似金屬的低電阻的ITO，極限是20～40Ω，要達(dá)到目的是不可能的。
本發(fā)明的目的是廉價(jià)地提供一種具有透明性且電磁波屏蔽效果高的、顯示體用的、特別是作為等離子體顯示屏用或醫(yī)療用機(jī)器房間的窗戶最合適的電磁波屏蔽透明薄膜。
本發(fā)明的方案1是一種由透明高分子薄膜及在其至少單面上形成的線狀圖形形狀的導(dǎo)電層構(gòu)成的，該線狀圖形形狀中的各個(gè)線之間的間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的電磁波屏蔽透明體。
理想的實(shí)施方案是這樣的一種電磁波屏蔽透明體線狀圖形形狀為把直線縱橫排列起來的網(wǎng)格形狀，或者把遵循下式所示的Sin函數(shù)(1)、Tan函數(shù)(2)、指數(shù)函數(shù)(3)、對數(shù)函數(shù)(4)或反比函數(shù)(5)的曲線縱橫排列起來的形狀，或者把這些直線或曲線組合排列起來的形狀。
y＝A·sin(αx+φ) (1)y＝B·Tan(βx+φ) (2)(A、B、α、β、φ、φ任意的常數(shù))y＝C·exp(γx+ρ) (3)y＝D·ln(δx+ξ) (4)(C、D、γ、δ、ρ、ξ任意的常數(shù))y＝E/x (5)(E任意的常數(shù))更為理想的實(shí)施方案是，上述電磁波屏蔽透明體在設(shè)線狀圖形的線寬為P(微米)、導(dǎo)電層的層厚為D(微米)時(shí)，P和D的比(P/D)為1～540，理想的是2～240的范圍。
本發(fā)明的方案2是上述電磁波屏蔽透明體，是采用在透明高分子薄膜的至少是單面上根據(jù)需要依次疊層上粘接層、透明導(dǎo)電層和金屬薄膜層之后，僅僅選擇性地刻蝕除去金屬薄膜層，使金屬薄膜層形成線狀圖形的辦法制得，使該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的電磁波屏蔽透明體，理想的情況是金屬薄膜層由銅構(gòu)成。
本發(fā)明的方案3的電磁波屏蔽透明體，采用把在透明的高分子薄膜的至少是單面上依次疊層摻進(jìn)了紅外線阻斷(cut)劑和用來進(jìn)行色彩修正的色素的粘接劑層、導(dǎo)電層后構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層，線狀地加工成圖形形狀的辦法制得，且該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化。
本發(fā)明的方案4是一種把由在透明的高分子薄膜的至少單面上依次疊層粘接劑層1和導(dǎo)電層后構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層加工成線狀圖形形狀，使得各個(gè)線之間的間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的疊層薄膜，用粘接劑層2粘貼到透明的高分子增強(qiáng)體上構(gòu)成的電磁波屏蔽透明體，是把近紅外線阻斷劑和對近紅外線阻斷劑具有色彩修正關(guān)系的色素，摻進(jìn)粘接劑層1和粘接劑層2中的至少一層中去，并至少設(shè)有一層用來防止近紅外線阻斷劑的惡化的紫外線阻斷層的電磁波屏蔽透明體。
理想的實(shí)施方案，是在方案3或4的電磁波屏蔽透明體中，還設(shè)有至少一層水蒸氣阻擋層的電磁波屏蔽透明體。
本發(fā)明的方案5是一種把由在透明的高分子薄膜的至少單面上依次疊層粘接劑層1和導(dǎo)電層后構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層加工成線狀圖形形狀，使得各個(gè)線之間的間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的疊層薄膜，用粘接劑層2粘貼到透明的高分子增強(qiáng)體上構(gòu)成的電磁波屏蔽透明體，是把近紅外線阻斷劑和對近紅外線阻斷劑具有色彩修正關(guān)系的色素，分割到粘接劑層1和粘接劑層2中，或僅僅摻入到粘接劑層2中的電磁波屏蔽透明體。
在本發(fā)明的方案1～5中，理想的實(shí)施方案是這樣一種電磁波屏蔽透明體通過粘接層疊層到在波長550nm下的光線透過率為50％以上，厚度為1mm以上的透明高分子增強(qiáng)體上，并且在疊層薄膜或透明高分子增強(qiáng)體的至少一方上設(shè)有反射防止層和/或硬涂層。


圖1是實(shí)施例2的圖形的示意圖。
圖2是實(shí)施例4的圖形的示意圖。
圖3是實(shí)施例5的圖形的示意圖。
圖4是實(shí)施例6的圖形的示意圖。
在本發(fā)明中成為形成最重要的導(dǎo)電層的基材的高分子薄膜，由以聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯、聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚丙烯腈、聚醚砜、聚砜、聚醚酰亞胺、聚芳酯、聚降冰片烯為代表的熱塑性樹脂、紫外線固化性樹脂、以環(huán)氧樹脂為代表的熱固化性樹脂等構(gòu)成，理想的是具有550nm時(shí)的光線透過率為80％(在以后，全部表示在550nm時(shí)的值)以上的透明性的薄膜或者也可以使用這些高分子的共聚物，進(jìn)行適當(dāng)?shù)倪x擇。
全光線透過率盡可能地高是理想的，但是，作為最終產(chǎn)品，從50％以上就是理想的這件事來看，即便是在最低疊層2張的情況下，作為基板，若有80％以上則合乎目的要求，由于透過率越高則可以疊層的張數(shù)就越多，故更為理想的是在85％以上，最為理想的是在90％以上，因此，使厚度變薄也是一種有效的手段。例如，作為高分子薄膜的厚度，雖然只要滿足透明性就沒有什么特別的限制，但是從加工性方面來看理想的是25～300微米。在厚度不到25微米的情況下，薄膜過于柔軟，在導(dǎo)電層的疊層工序時(shí)，由于張力易于產(chǎn)生伸張或褶皺，用起來不合適。另外，若超過300微米，則薄膜的可撓性減少，在各個(gè)工序中的卷繞難于進(jìn)行因而是不合適的。特別是因?yàn)樵谑苟鄰堖M(jìn)行疊層之際，若厚度大，則加工性將大幅度地惡化，故若考慮作業(yè)性、和整體的厚度，則特別理想的是25～100微米。
在使導(dǎo)電層疊層之際，為了提高貼緊力還可以設(shè)置眾所周知的粘接層。特別是在使導(dǎo)電層圖形化為細(xì)線狀之際，這一問題是重要的。例如，在用刻蝕工序進(jìn)行圖形化之際，為了能承受噴水器水壓，基材和導(dǎo)電層之間的貼緊力最低也要為0.3kg/cm左右，作為在實(shí)用上沒問題的等級1.0kg/cm以上的貼緊力是必要的。若得不到這樣的貼緊力，則將成為在圖形化后導(dǎo)電層剝離或者是在刻蝕加工時(shí)產(chǎn)生斷線的根由。此外，由于希望具有高的光線透過率，故粘接層的厚度、在粘接層中使用的物質(zhì)的折射率等也將變成為重要的特性。粘接劑的種類雖然可以根據(jù)要使用的基材進(jìn)行適時(shí)的選擇，但作為在粘接層中使用的樹脂，在合成樹脂系中，有脲醛樹脂系、蜜胺樹脂系、酚醛樹脂系、環(huán)氧樹脂系、醋酸乙烯酯樹脂系、氰基丙烯酸酯系、聚氨酯系、α-鏈烯-馬來酸酐樹脂系、水性高分子-異氰酸酯系、丙烯酸類樹脂系、UV固化樹脂系等，此外，還有乳劑型粘接劑、熱融化粘接劑、合成橡膠系粘接劑、硅酮系粘接劑、無機(jī)系粘接劑等。
作為在上述薄膜上邊形成的導(dǎo)電層，可以使用Au、Ag、Al、Pt、Cu等的金屬或者以它們?yōu)橹饕煞值暮辖?、這些金屬的氧化物、氮化物、ITO或?qū)щ娋酆衔锏?，只要是可以圖形化的物質(zhì)，沒什么特別的限制。還可以根據(jù)需要使它們進(jìn)行疊層。在這里，在金屬的情況下，膜厚理想的是50?！?0微米。若不到50埃，則屏蔽效果顯著地變壞，若超過50微米則圖形加工性將降低或者光線透過率降低。作為導(dǎo)電層的疊層方法，有蒸發(fā)、濺射、離子鍍等方法，有電鍍法、金屬箔的層壓法、或同時(shí)使用這些方法的方法等。此外，含ITO的氧化物或氮化物的成膜方法，雖然濺射法是一般性的方法，但溶膠-凝膠法也是可能的。在用蒸鍍或電鍍法形成了導(dǎo)電層的情況下，可以使用光刻法，在使用涂層的情況下，可以使用印刷法來形成圖形。在導(dǎo)電層的厚度為1微米的情況下，細(xì)線加工是容易的，故對在圖形設(shè)計(jì)中提高光線透過率是有利的，在導(dǎo)電層為1微米以上的情況下，表面電阻值將變小，故具有改善屏蔽特性的效果。作為成膜方法，可以根據(jù)所使用的材料的導(dǎo)電率、導(dǎo)電層的膜厚、圖形的開口率和形狀進(jìn)行設(shè)計(jì)，再加上所使用的材料的特性和經(jīng)濟(jì)性方面的考慮，只要選擇適合于得到目的膜厚的成膜方法即可。
在導(dǎo)電層上形成圖形之際，其形狀是非常重要的。例如，就像PDP屏幕那樣，在設(shè)置透明電磁波屏蔽體的對象上形成了網(wǎng)格狀的像素的情況下，當(dāng)PDP的像素和透明電磁波屏蔽體的網(wǎng)格狀的圖形這兩者重疊時(shí)，就會發(fā)生莫爾(Moire)條紋使畫面的可視性顯著降低。所以，在本發(fā)明中，作為消除該莫爾現(xiàn)象的方法，發(fā)現(xiàn)把在透明高分子薄膜的至少是單面上形成的導(dǎo)電層加工成網(wǎng)格狀的圖形時(shí)，只要把線間隔Pi加工成用下式表示的Pi(i＝0，1，2，…，n)即可。
Pi＝Pmin+(Pmax-Pmin)·αi (A)i＝0，1，2，…，nPmin線間隔的最小值Pmax線間隔的最大值αi可以在0～1間選擇的隨機(jī)數(shù)眾所周知，莫爾條紋是在與等間隔節(jié)距的線重合時(shí)，因線相互重疊而發(fā)生的。作為莫爾條紋發(fā)生的原因之一，可以認(rèn)為是由于在各個(gè)線重疊時(shí)連續(xù)地發(fā)生稀疏的部分和密的部分，因而產(chǎn)生作為密的部分的連續(xù)體被觀察到的新的網(wǎng)格。為了把圖形形狀設(shè)計(jì)得使該密的部分不進(jìn)行規(guī)則排列，只要使線間隔在保證屏蔽特性和光學(xué)特性兩者所必須的范圍內(nèi)變得不規(guī)則即可，具體說來，只要設(shè)計(jì)為像使用了隨機(jī)數(shù)的式(A)所示的那樣即可。線間隔的最小值、最大值，雖然可以根據(jù)設(shè)于作為對象的電磁波發(fā)生源中的網(wǎng)格形狀任意地決定，但是，在像PDP那樣的顯示屏的情況下，線間隔只要是20微米～1mm即可，再理想一點(diǎn)的是70～500微米，更為理想的是80～200微米。這里所說的線間隔被定義為在圖形上邊使用任意的1維坐標(biāo)的情況下，相鄰的線的中心間距離。形成圖形的線可以用直線、曲線或它們的組合構(gòu)成。
此外，作為解除莫爾現(xiàn)象的方法，發(fā)現(xiàn)在透明高分子薄膜的至少單面上形成的導(dǎo)電層的形狀，只要是直線或曲線就行，在曲線的情況下，只要做成使Sin、Tan、指數(shù)、對數(shù)、反比例函數(shù)縱橫地排列起來的圖形即可。莫爾現(xiàn)象是由于因形成PDP像素的隔離壁而產(chǎn)生的光的強(qiáng)度周期性的強(qiáng)度分布，和由導(dǎo)電層圖形產(chǎn)生的同樣的強(qiáng)度分布進(jìn)行合成產(chǎn)生的。因此，在構(gòu)成PDP的像素和導(dǎo)電層圖形的形狀類似的情況下，就易于發(fā)生莫爾條紋。當(dāng)像在本發(fā)明中那樣，把某一Sin、Tan、指數(shù)、對數(shù)、反比例函數(shù)應(yīng)用到導(dǎo)電層圖形設(shè)計(jì)中去的情況下，盡管由于PDP的隔離壁和導(dǎo)電性圖形的重合而發(fā)生光的強(qiáng)度分布，但由于這一強(qiáng)度分布可以做成比用目視所不能識別的程度還微小而且均一，所以可以在維持足夠的透明性的開口率、和電磁波屏蔽特性不變的同時(shí)，抑制莫爾現(xiàn)象的發(fā)生。在這里，由于莫爾條紋的發(fā)生依賴于使PDP像素和電磁波屏蔽圖形重合時(shí)的形狀，故構(gòu)成電磁波屏蔽圖形的函數(shù)的周期、振幅等可以在考慮到PDP像素的節(jié)距和線寬后決定。此外，排列這些函數(shù)的節(jié)距、線寬，可以在確保所需要的電磁波屏蔽特性和開口率兩者的范圍內(nèi)任意地決定。
導(dǎo)電層的圖形加工在決定屏蔽特性方面是極其重要的。屏蔽特性與導(dǎo)電層的表面電阻和網(wǎng)格密度有關(guān)，要想得到目的屏蔽特性，根據(jù)這些來設(shè)計(jì)是必要的。網(wǎng)格密度由導(dǎo)電層的線寬和線間的間隔決定，導(dǎo)電層的表面電阻則由導(dǎo)電物質(zhì)的電阻率值和導(dǎo)電層的厚度決定。
在這里，作為同時(shí)確保這些特性的條件，我們發(fā)現(xiàn)在使由金屬薄膜構(gòu)成的薄膜圖形的線寬為P微米，金屬薄膜的膜厚為D微米時(shí)，P和D之比理想的是在1～540的范圍內(nèi)，更為理想的是P和D之比為2～240。在該范圍內(nèi)，可以在充分地保持導(dǎo)電層的表面電阻值的同時(shí)，確保屏蔽特性和透明性兩者。在考慮到實(shí)質(zhì)性的導(dǎo)電層的厚度的情況下，若P/D不到1，則不能得到充分的屏蔽效果，若超過540，則會產(chǎn)生透明性顯著降低的問題。
在作為金屬層制作把銅疊層到透明的高分子薄膜上的情況下，存在著得不到充分的貼緊力的問題。人們認(rèn)為這是因?yàn)榛?、粘接層和銅層的線膨脹系數(shù)、彈性模量等的物理常數(shù)大大不同的緣故。另外，難于設(shè)計(jì)確保透明性和貼緊性兩者的粘接劑，也是一個(gè)大的因素。該問題在用蒸鍍或?yàn)R射等的方法疊層銅的情況下特別顯著，難于得到充分的貼緊性。在銅和基材之間的貼緊性不充分的情況下，就難于提高生產(chǎn)性，因此，存在著產(chǎn)品的價(jià)格升高的問題。
于是，為了解決上述問題，我們發(fā)現(xiàn)采用作為粘接層設(shè)置透明金屬氧化物的辦法，就可以確保透明性和貼緊性兩者，而且可以得到高可靠性的電磁波屏蔽透明體。特別是在使導(dǎo)電層圖形化為細(xì)線之際，這一問題是重要的。例如，在用刻蝕工序進(jìn)行圖形化之際，為了能夠承受噴水器水壓，基材和導(dǎo)電層的貼緊力最低也需要0.3kg/cm左右，作為在實(shí)用上沒有問題的等級則需要1.0kg/cm以上的貼緊力。若得不到這樣的貼緊力，則將成為圖形化后導(dǎo)電層剝離或刻蝕加工時(shí)斷線的原因。此外，由于希望具有高的光線透過率，故粘接層的厚度、在粘接層中使用的物質(zhì)的折射率等也將成重要的特性。
在這里，作為透明金屬化膜的例子，可以舉出In2O3或In2O3和Sn2O3(ITO)、In2O3和ZnO、In2O3和Ga2O3等的導(dǎo)電性復(fù)合氧化物、SiOx、TiOx、它們的復(fù)合氧化物等。作為透明氧化膜的成膜方法，有濺射、蒸鍍、離子鍍等的真空蒸鍍法、用熔膠-凝膠法進(jìn)行的涂敷法等，可以在考慮到要進(jìn)行成膜的膜的種類、膜厚、生產(chǎn)性等之后進(jìn)行選擇。若用真空蒸鍍法，由于可以形成電阻值低的導(dǎo)電性膜，故可以期待提高屏蔽效果，在用涂敷法的情況下，由于可以期待因表面層的微細(xì)的凹凸所產(chǎn)生的固定效應(yīng)，故對于提高貼緊性是有利的。在形成透明金屬氧化膜之前，為了得到與基材之間的貼緊性，還可以進(jìn)行通常使用的底層涂敷處理、等離子體處理、電暈放電處理等的前處理。
接著，在透明金屬化膜上邊形成銅層。當(dāng)在透明金屬氧化膜上邊疊層銅后，在銅層與透明氧化膜層之間將產(chǎn)生電徙。雖然借助于此會在兩層之間生成由氧化亞銅構(gòu)成的中間層，但是，由于該中間層在厚度方向上具有兩成分的組成一點(diǎn)一點(diǎn)地變化的傾斜構(gòu)造，故貼緊性將提高得要超過僅僅設(shè)置氧化亞銅的中間層時(shí)的貼緊性。此外，隨著氧化從氧化亞銅向氧化銅前進(jìn)，當(dāng)作為氧化銅層的厚度增加后貼緊性將反過來下降，故因銅和透明金屬氧化膜的電徙所產(chǎn)生的那種程度的中間層的組成和厚度，對于使貼緊力變成最大是最為合適的。除去提高貼緊性之外，還可以同時(shí)提高其它的重要的特性。
(1)例如，以防止氧化為目的，通常對銅表面施行鍍鎳處理或防銹涂層處理，但是，通過設(shè)置氣體阻擋性高的透明氧化膜層的辦法，就可以防止來自基材方向的水蒸氣和氧等的氣體的侵入，可以防止因氧化引起的時(shí)效性的貼緊性的惡化。這對要得到長期間的可靠性的情況是重要的。
(2)在作為導(dǎo)電體使用透明金屬氧化物的情況下，通過進(jìn)行疊層，對由銅形成的網(wǎng)格開口部分也賦予導(dǎo)電性，所以，也會賦予提高電磁波屏蔽效果的效果。在由網(wǎng)格形成的電磁波屏蔽層和ITO膜中，在設(shè)計(jì)得使屏蔽特性的頻率依賴性不同的情況下，由于可以把能夠屏蔽的電磁波的頻率取得寬，故可以大幅度地提高作為電磁波屏蔽體的特性。
(3)ITO膜具有屏蔽近紅外線區(qū)的光線的特性，也可以得到賦予電磁波屏蔽透明體以近紅外線阻斷功能的效果。
(4)借助于與ITO膜進(jìn)行疊層的涂敷層的折射率的差，可以使之具有防止反射功能。
在這里，銅層的膜厚理想的是50?！?0微米。這是因?yàn)槿舨坏?0埃則屏蔽效果顯著變壞，若超過50微米，則圖形加工性降低或光線透過率降低的緣故。作為這里的銅層的形成方法，除去濺射法、蒸鍍法之外，還可以用電鍍法，可以從經(jīng)濟(jì)性、圖形加工性、屏蔽特性等方面進(jìn)行選擇。此外，以防止氧化惡化為目的，也可以根據(jù)需要對銅表面施行用金、鎳等進(jìn)行的電鍍處理、防銹涂敷處理。
在銅的圖形加工中，必須僅僅對銅層進(jìn)行選擇性的刻蝕。這在滿足銅層的貼緊性、電磁波透明屏蔽體的光學(xué)特性、屏蔽特性方面是重要的。圖形加工的條件，可以根據(jù)透明金屬氧化物膜的種類進(jìn)行設(shè)定。例如，在SiOx、TiOx或它們的復(fù)合氧化物的情況下，可以使用通常作為銅的刻蝕液使用的氯化銅、氯化鐵等，如果是結(jié)晶化度高的透明導(dǎo)電膜，則采用使用硝酸鐵等的選擇刻蝕液的辦法，就可以選擇性地僅僅刻蝕銅層。
PDP利用氙氣放電使之發(fā)光。這時(shí)所產(chǎn)生的近紅外線向外部漏泄，導(dǎo)致廣為利用的傳感器的誤動作，所以近紅外線阻斷功能對PDP的前面屏蔽板是不可或缺的。在這里有必要進(jìn)行屏蔽的近紅外線區(qū)，理想的是800nm～1100nm，更為理想的是800nm～1500nm的范圍。此外，在400nm～800nm的可見光區(qū)域內(nèi)，必須保持充分的光線透過率。然而，在該近紅外線區(qū)中具有屏蔽功能的物質(zhì)在可見光區(qū)域中也大多具有吸收，存在著盡管是透明的物質(zhì)卻看起來帶色的問題。本發(fā)明發(fā)現(xiàn)采用摻進(jìn)色素進(jìn)行色彩修正的辦法來解決該帶色問題的方法。
要摻進(jìn)的色素，除了染料、顏料之外，只要在可見光區(qū)域具有吸收性的色素，就沒有什么特別限定，也可以摻進(jìn)幾種色素。所用的色素雖然可以從與所使用的近紅外線吸收材料、將成為粘接劑的樹脂層之間的相溶性、向溶劑中的溶解性進(jìn)行選擇，但是，例如作為合成染料，有油溶系染料、金屬絡(luò)合物型的有機(jī)溶劑可溶性染料等的有機(jī)溶劑溶解染料，或分散染料、堿性染料、金屬絡(luò)合物染料等的酸性染料，反應(yīng)染料、直接染料、硫化染料、甕染染料、偶氮染料、媒染料、復(fù)合染料，作為無機(jī)系染料有云母狀氧化鐵、鉛白、鉛丹、鉻黃、銀朱、群青、普魯士藍(lán)、氧化鈷、鍶鉻酸鹽、鋅鉻酸鹽、二氧化鈦、鈦黃、鈦黑、鐵黑、鉬系、一氧化鉛、鋅鋇白，作為有機(jī)系染料，可以舉出偶氮染料、酞菁染料等。
借助于修正產(chǎn)生的色調(diào)越接近無色就越理想，但是，可以根據(jù)應(yīng)用透明電磁波屏蔽體的用途，在考慮到可視性、質(zhì)感等之后任意地進(jìn)行選擇。此外，為了可以發(fā)現(xiàn)近紅外線阻斷功能，也可以摻進(jìn)進(jìn)行阻斷的波長區(qū)域不同的數(shù)種近紅外線阻斷材料。
為了賦予近紅外線阻斷功能，雖然可以使用把近紅外線阻斷功能賦予透明高分子增強(qiáng)體的方法和重新敷設(shè)涂敷層的方法，但是，前者結(jié)果變成為受近紅外線阻斷材料的耐熱性和溶解性等起因于基材的制造條件的制約，后者則結(jié)果變成為要新增工序，在價(jià)格方面有問題。所以，采用把近紅外線阻斷功能賦予粘接劑層的辦法，就可以解決這一問題。
由于粘接劑可以從非常多的材料中選定，故滿足要使用的近紅外線阻斷材料的特性的材料設(shè)計(jì)是容易的。此外，由于可以使在保持基材和導(dǎo)電層的貼緊性方面不可或缺的粘接劑具有該功能，故不需要疊層新的涂敷層。近紅外阻斷材料的摻入量雖然也依賴于粘接劑層的膜厚，但一般地說，對于粘接劑層的樹脂固形部分，用1wt％以下的摻入量就可以實(shí)現(xiàn)該功能，故采用加入近紅外線阻斷材料的辦法，不會很大地改變粘接劑層的特性。
如上所述，在摻入近紅外線阻斷材料和色素的情況下，若對于樹脂的相溶性、分散性和適宜的溶劑存在著差時(shí)，則向同一層中摻入這些是困難的。因此，在這樣的情況下，要摻入的物質(zhì)和樹脂層的具有選擇自由度的一方，可以提高作為電磁波屏蔽透明體的功能。為此，在導(dǎo)電層和薄膜之間設(shè)置的粘接劑層1、和使導(dǎo)電層圖形化后形成的疊層薄膜粘貼到透明高分子增強(qiáng)體上的粘接劑層2中，只要采用把近紅外阻斷材料和對近紅外阻斷材料有色彩修正關(guān)系的色素分割到粘接劑層1和粘接劑層2，或者僅僅添加到粘接劑層1或僅僅添加到粘接劑層2中的辦法，制成電磁波屏蔽透明體即可。
作為粘接劑層的特性，雖然要求對于被粘接體的粘接強(qiáng)度，但是，就如摻入溶解特性、與樹脂之間的相溶性不同的數(shù)種物質(zhì)那樣，設(shè)計(jì)配合處方是非常困難的。然而，采用把他們分割開來再添加到樹脂層中去的辦法，近紅外線阻斷材料、用來進(jìn)行色彩修正的色素的選擇就會變得非常容易。特別是對于粘接劑層1來說，在導(dǎo)電層疊層時(shí)的加熱工序、圖形化加工時(shí)，粘接劑層有時(shí)候要暴露于酸、堿水溶液中，這時(shí)，理想的是向粘接劑層2中摻入特性顯著地惡化的物質(zhì)。
在僅僅向粘接劑層1中沒有充分地溶解近紅外阻斷材料和色彩修正材料這兩者的情況下，也可以以對各自合適的樹脂組成來構(gòu)成粘接劑層1和2。此外，取決于所用的摻入材料，有的對樹脂的溶解性低，若想僅僅用1層來得到效果則存在著膜厚變得非常厚的問題。在這種情況下，采用分成2層進(jìn)行摻入的辦法，則沒必要把各層的厚度加厚到超過所需的厚度。
然而，這樣地?fù)饺牒蟮慕t外阻斷材料和色素，已確認(rèn)存在著耐溫濕度變化性的問題，吸收特性時(shí)間性地變化，有的時(shí)候在長期可靠性方面存在著問題。特別是在紫外線區(qū)域有吸收特性的近紅外阻斷材料中，這種傾向顯著，不能在長期間內(nèi)充分地發(fā)揮本來的功能。于是，在本發(fā)明中，我們發(fā)現(xiàn)通過至少設(shè)置1層摻入了具有紫外線阻斷功能的物質(zhì)的層的辦法，來防止近紅外阻斷材料的退色惡化。
這里所用的紫外線阻斷材料，只要是具有對紫外線區(qū)域進(jìn)行阻斷效果的物質(zhì)就沒什么特別的限制，例如，可以舉出水楊酸酯系、二苯酮系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系、鎳螯合物系等的有機(jī)系紫外線吸收劑和氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵等的無機(jī)系微粒子、和被叫做位阻胺系(HALS)的光穩(wěn)定劑等等。紫外線阻斷材料單獨(dú)或一起使用這些都沒關(guān)系。摻入了紫外線阻斷材料的層可以是設(shè)于電磁波屏蔽透明體上的任何一層。
此外，已確認(rèn)近紅外線阻斷材料和色素的吸收特性的變化，有因和水分共存而顯著地被促進(jìn)的危險(xiǎn)。這是因?yàn)樗制鹬呋瘎┑淖饔玫木壒?。這一問題可以采用用水蒸氣阻擋層對近紅外阻斷材料和色素進(jìn)行保護(hù)的辦法解決。水蒸氣阻擋層可以單獨(dú)設(shè)置，也可以設(shè)置多層。或者還可以使摻入近紅外阻斷材料的粘接劑層具有該功能。
作為用來形成水蒸氣阻擋層的材料沒什么特別的限制，例如作為有機(jī)系有聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚丙烯腈、聚偏氯乙烯等，作為無機(jī)系有二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、ITO等透明金屬氧化物，可以根據(jù)價(jià)格、生產(chǎn)性以及所需要的阻擋性進(jìn)行適當(dāng)?shù)倪x擇。成膜方法可以根據(jù)所使用的材料決定，例如有涂敷法、蒸鍍法、濺設(shè)法、離子鍍法等等。
作為限制的對象的電磁波的頻率一般為10KHz～1000MHz的范圍，所以導(dǎo)電層的導(dǎo)電性必須是103Ω·cm以下的固有電阻。
一般說，電磁波屏蔽效果可以用下式表示。S(dB)=10log(1/ρf)+1.7tf/ρ]]>S(dB)電磁波屏蔽效果ρ(Ω·cm)導(dǎo)電膜的體積固有電阻f(MHz)電磁波頻率 t(cm)導(dǎo)電膜的厚度當(dāng)然，要想加大屏蔽效果S就需要無限制地降低固有電阻ρ，該電阻越低就可以有效地屏蔽更寬的范圍的頻率的電磁波。要想得到目的屏蔽效果可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)導(dǎo)電層的膜厚。
采用這樣地形成電磁波阻斷濾色片的辦法，就可以大幅度地提高用下式表示的屏蔽效果。
S(dB)＝20×log10(E0/E1)E0入射電磁波E1通過后的電磁波作為現(xiàn)有的電波吸收體的容許反射衰減量，以相當(dāng)于電波吸收率99％以上的20dB以上為一個(gè)參照標(biāo)準(zhǔn)，但倘采用本發(fā)明則30～50dB是可能的。
透明高分子增強(qiáng)板可以承受外壓，由于因傷等產(chǎn)生的損傷將使得透明性降低，故要根據(jù)希望設(shè)置硬涂層。硬涂層，除環(huán)氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯等的UV固化樹脂、包括環(huán)氧樹脂在內(nèi)的熱固性樹脂外，無機(jī)材料，具體地說氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯等的透明氧化物等是理想的。此外，作為本來的增強(qiáng)板，為了減輕重量，從使用高分子的關(guān)系方面來看需要1mm以上的厚度所產(chǎn)生的強(qiáng)度。厚度越增加強(qiáng)度越大，但是從重量、透明性方面來看是不利的，所以如果定為可以承受人為的外壓、壓力的強(qiáng)度的話，用1mm以上的厚度就可以達(dá)到目的，在實(shí)用上為5mm以下。
此外，透明高分子增強(qiáng)板理想的是具有防止反射功能。這是為了防止來自PDP的在顯示部分處的漫反射，提高對比度而設(shè)置的。當(dāng)然，也可以賦予硬涂層防止反射功能，也可以與之分開來進(jìn)行疊層。
優(yōu)選實(shí)施例實(shí)施例1在把聚氨酯系粘接劑層1涂敷到厚度75微米的聚對苯二甲酸乙二醇酯(以下，縮寫為PET)基板的薄膜上之后，疊層銅箔(厚度12微米)得到帶銅箔的PET薄膜。用光刻法把該導(dǎo)電層圖形加工成使直線縱橫排列起來的網(wǎng)格形狀。這時(shí)的各個(gè)線間隔用下式規(guī)定。此外，這時(shí)的線寬為10微米。
Pi＝100+(170-100)×αi(6)(αi0～1間的隨機(jī)數(shù))接著，對2mm厚的聚碳酸酯基板的單面施行具有防止反射功能的鉛筆硬度3H以上的硬涂層，用脂肪族聚酯型聚氨酯(東洋モト-ン生產(chǎn)，商品名AD-N401)粘接劑層2把圖形加工基材疊層到硬涂層的背面上。另外，在外緣部分處用銀膏(住友電木生產(chǎn)，商品名CRM-1085)粘接導(dǎo)電膜和扁平電纜，并進(jìn)行電接地。作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為74％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。此外，在PDP畫面上邊設(shè)置上電磁波屏蔽透明體時(shí)，可以得到不發(fā)生莫爾條紋、畫面可視性優(yōu)良的特性。此外鉛筆硬度為3H，擦傷性優(yōu)良，作為PDP用電磁波屏蔽透明板，得到了不僅屏蔽性好，耐久性也很優(yōu)良的特性。
比較例1在實(shí)施例1中，用圖形化加工使要形成的網(wǎng)格狀網(wǎng)全部用線間隔160微米線寬10微米形成。在PDP的前面上設(shè)置電磁波屏蔽透明體，結(jié)果發(fā)生了莫爾條紋，不能供實(shí)際使用。
實(shí)施例2～3在把聚氨酯系粘接劑層1涂敷到厚度75微米的PET薄膜上后，層壓上銅箔(厚12微米)得到帶銅箔的PET薄膜。用光刻法對該導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化加工，制作成縱橫排列上可以用Sin函數(shù)和Tan函數(shù)描述的曲線的圖形。這時(shí)的線寬為10微米，節(jié)距根據(jù)上述式(6)(實(shí)施例2)和式(7)(實(shí)施例3)設(shè)定。
Pi＝100+(170-150)×αi(7)(αi0～1間的隨機(jī)數(shù))接著，對2mm厚的聚碳酸酯基板的單面施行具有防止反射功能的鉛筆硬度3H以上的硬涂層，用脂肪族聚酯型聚氨酯(東洋モト-ン生產(chǎn)，商品名AD-N401)粘接劑層2把圖形加工基材疊層到硬涂層的背面上。另外，在外緣部分處用銀膏(住友電木生產(chǎn)，商品名CRM-1085)粘接導(dǎo)電膜和扁平電纜，并進(jìn)行電接地。鉛筆硬度為3H，擦傷性優(yōu)良，作為PDP用電磁波屏蔽透明板，得到了不僅屏蔽性好，耐久性也很優(yōu)良的特性。
在實(shí)施例2中，在550nm下的光線透過率為74％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。
在實(shí)施例3中，550nm下的光線透過率為78％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為48dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。
把電磁波屏蔽透明體設(shè)置到PDP畫面上邊，在實(shí)施例2和實(shí)施例3中都得到了不發(fā)生莫爾條紋，畫面的可視性優(yōu)良的特性。
實(shí)施例4～6在實(shí)施例1中，在用由指數(shù)函數(shù)(實(shí)施例4)、對數(shù)函數(shù)(實(shí)施例5)、反比例函數(shù)(實(shí)施例6)描述的曲線構(gòu)成圖形，并重合到PDP畫面上時(shí)，就制作成不發(fā)生莫爾條紋的、可視性優(yōu)良的電磁波透明屏蔽體。
比較例2在實(shí)施例1中，銅層的厚度為35微米，網(wǎng)格狀濾色片圖形的線寬為30微米，間隔寬度為300微米。這時(shí)，在200～1000MHz的范圍內(nèi)的屏蔽效果為40dB，在550nm時(shí)的光線透過率為30％。
實(shí)施例7作為底層涂層，用分子量1540，熔點(diǎn)70℃的環(huán)氧丙烯酸酯預(yù)聚物(昭和高分子生產(chǎn)，商品名VR-60)100重量份、乙酸纖溶劑100重量份，苯偶姻乙醚2重量份，涂敷成1微米的厚度。再用濺射法使氧化銦成膜為透過率為80％，面電阻150Ω的晶質(zhì)膜。其次，用濺射法使銅薄膜成膜，厚度為2000埃，接著，進(jìn)行電鍍處理得到銅厚度為4微米，表面電阻值為4×10-3Ω/□的帶銅箔的PET薄膜。用光刻法，以硝酸鐵為刻蝕液對該導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化加工，得到實(shí)施例1所述的那種形狀的濾色片圖形。
用熱固化型環(huán)氧樹脂系粘接劑把所得到的薄膜的銅箔面彼此間粘接起來進(jìn)行90度剝離試驗(yàn)，得到了1kg/cm以上的貼緊力。在80℃90％RH的高溫高濕下實(shí)施加速實(shí)驗(yàn)，1000h后的貼緊力為900g/cm達(dá)到了實(shí)質(zhì)上沒有問題的等級。
此外，作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為70％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァ ドバンテスト法)，結(jié)果良好。
實(shí)施例8除了使SiOx為透明金屬氧化物膜之外，與實(shí)施例7一樣地制作電磁波屏蔽透明體。與實(shí)施例7同樣地進(jìn)行貼緊性試驗(yàn)，得到了1kg/cm以上的貼緊力。
此外，作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為72％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァ ドバンテスト法)，結(jié)果良好。
比較例3在實(shí)施例7中，不設(shè)置透明金屬氧化物膜，用電鍍處理疊層銅。與實(shí)施例7同樣地進(jìn)行貼緊性試驗(yàn)，貼緊力小于200g/cm，在后邊的圖形化工序中，發(fā)生一部分線的缺損，成品率變得非常不好。
實(shí)施例9在把摻入了銦系近紅外線阻斷材料(日本化藥(株)生產(chǎn)，商品名IRG-022)和用來進(jìn)行色彩修正的的色素(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASET Blue A-2R)的聚氨酯系粘接劑層1涂敷到厚度75微米的PRT薄膜上之后，兩面層壓上施行過粗糙化處理的銅箔，得到帶銅箔的PET薄膜。用光刻法對該導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化加工，得到實(shí)施例1的那種形狀的濾色片圖形。
對2mm厚的聚碳酸酯基板的單面施行具有防止反射功能的鉛筆硬度3H以上的硬涂層，用脂肪族聚酯型聚氨酯(東洋モト-ン生產(chǎn)，商品名AD-N401)粘接劑層2把圖形加工基材疊層到硬涂層的背面上。另外，在外緣部分處用銀膏(住友電木生產(chǎn)，商品名CRM-1085)粘接導(dǎo)電膜和扁平電纜，并進(jìn)行電接地。作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為70％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。硬涂層面的鉛筆硬度為3H，擦傷性優(yōu)良，作為PDP用電磁波屏蔽透明板，得到了不僅屏蔽性好耐久性也優(yōu)良的特性。
實(shí)施例10在把聚氨酯系粘接劑層1涂敷到厚度75微米的PET薄膜上后，層壓上銅箔(厚12微米)得到帶銅箔的PET薄膜。用光刻法對該導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化加工，得到了實(shí)施例1所述的那種形狀的濾色片圖形。
在2mm厚的聚碳酸酯基板的單面上形成具有防止反射功能的鉛筆硬度3H以上的硬涂層，用摻進(jìn)了鋁系近紅外阻斷材料(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASORB IRG-022)和用于進(jìn)行色彩修正的色素(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASET Blue A-2R)的脂肪族聚酯型聚氨酯(東洋モト-ン生產(chǎn)，商品名AD-N401)粘接劑層2把圖形加工基材疊層到硬涂層的背面上。另外，在外緣部分處用銀膏(住友電木生產(chǎn)，商品名CRM-1085)粘接導(dǎo)電膜和扁平電纜，并進(jìn)行電接地。
作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為74％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。硬涂層面的鉛筆硬度為3H，擦傷性優(yōu)良，作為PDP用電磁波屏蔽透明板，得到了不僅屏蔽性好耐久性也優(yōu)良的特性。
實(shí)施例11在實(shí)施例9中，作為近紅外阻斷材料向粘接劑層1中摻入銦系(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASORB IRG-002)，向粘接劑層2中摻入用來對該物質(zhì)的帶色進(jìn)行修正的色素后粘貼到增強(qiáng)板上。作為透明電磁波屏蔽體，可以形成在900～1200nm的近紅外線區(qū)的光線透過率為10％以下，在500nm時(shí)的光線透過率為68％，而且不帶色的透明電磁波屏蔽體。
比較例4在實(shí)施例11中，把不向粘接劑層2中摻入用來進(jìn)行色彩修正的色素而進(jìn)行了圖形加工的疊層薄膜粘貼到增強(qiáng)板上。盡管在900～1200nm的近紅外線區(qū)的光線透過率為10％以下，在500nm時(shí)的光線透過率為68％，但是卻帶有起因于近紅外阻斷材料的綠色，不能用做PDP用的透明電磁波屏蔽體。
實(shí)施例12在把摻入了近紅外阻斷材料(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASORBIRG-002)的聚氨酯系粘接劑層1涂敷到厚75微米的PET薄膜的單面上之后，在兩面上層壓施行過粗糙化處理的銅箔(厚度12微米)得到帶銅箔的PET薄膜。用光刻法對該導(dǎo)電層進(jìn)行圖形化加工，得到實(shí)施例1所述的那種形狀的濾色片圖形。
作為UV阻斷層，在2mm厚的聚碳酸酯基板上設(shè)置加入了苯并三唑系紫外線吸收劑和位阻胺系的光穩(wěn)定劑的環(huán)氧丙烯酸酯樹脂層，再在其上邊，設(shè)置具有防止反射功能的鉛筆硬度3H以上的硬涂層。用摻入了近紅外阻斷材料和與進(jìn)行色彩修正有關(guān)的色素(日本化藥生產(chǎn)，商品名KAYASET Blue A-2R)的脂肪族聚酯型聚氨酯(東洋モト-ン生產(chǎn)，商品名AD-N401)粘接劑層2把圖形加工基材疊層到硬涂層的背面上。另外，在外緣部分處用銀膏(住友電木生產(chǎn)，商品名CRM-1085)粘接導(dǎo)電膜和扁平電纜，并進(jìn)行電接地。
作為透明電磁波屏蔽體的550nm下的光線透過率為74％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)為50dB以上(ァドバンテスト法)，結(jié)果良好。硬涂層面的鉛筆硬度為3H，擦傷性優(yōu)良，作為PDP用電磁波屏蔽透明板，得到了不僅屏蔽性好耐久性也優(yōu)良的特性。此外，還進(jìn)行了1000h后的耐溫濕度變化試驗(yàn)，近紅外線阻斷功能的惡化在3％以內(nèi)，沒有觀察到因色彩修正效果惡化所產(chǎn)生的色調(diào)的變化。
實(shí)施例13在實(shí)施例12中，在PET薄膜的疊層銅的面的背面和UV阻斷層與防止反射層之間，作為水蒸氣阻擋層分別設(shè)有二氧化硅膜。在進(jìn)行了1000小時(shí)的濕熱處理(80℃90％RH)后，得知近紅外阻斷功能的惡化在3％以內(nèi)，沒有觀察到因色彩修正效果惡化所產(chǎn)生的色調(diào)的變化。
比較例5在實(shí)施例12中，不設(shè)置UV阻擋層地制作電磁波屏蔽透明體。在進(jìn)行了1000小時(shí)的耐溫濕度變化試驗(yàn)后，在550nm下的光線透過率為70％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜40％(900～1200nm)，可以看出近紅外線阻斷功能顯著的惡化。在進(jìn)行了1000小時(shí)的耐溫濕度變化試驗(yàn)后，在550nm下的光線透過率為70％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜40％(900～1200nm)，可以看出近紅外線阻斷功能顯著的惡化。
比較例6在實(shí)施例13中，不設(shè)置水蒸氣阻擋層而制成電磁波屏蔽透明體。在進(jìn)行了1000小時(shí)的耐溫濕度變化試驗(yàn)后，在550nm下的光線透過率為71％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜38％(900～1200nm)，可以看出近紅外線阻斷功能顯著的惡化。
實(shí)施例14在實(shí)施例1中，作為導(dǎo)電層的形成方法，在用濺射法使銅形成2000埃的膜后，進(jìn)行電鍍處理，使銅的厚度成為4微米。作為透明電磁波屏蔽體，在550nm下的光線透過率為74％，在近紅外線區(qū)的光線透過率＜10％(900～1200nm)，電場屏蔽特性在200～1000MHz的范圍內(nèi)大于45dB，是良好的。
從以上的實(shí)施例顯而易見，倘采用本發(fā)明，則可以提供透明性優(yōu)良的電磁波屏蔽透明體。
權(quán)利要求
1.一種電磁波屏蔽透明體，其特征是由透明高分子薄膜和至少在其單面上形成的線狀圖形形狀的導(dǎo)電層構(gòu)成，該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔是在20微米～1mm間的隨機(jī)值。
2.權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是線狀圖形形狀是使直線縱橫地排列起來的網(wǎng)格形狀。
3.權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是線狀圖形形狀是把遵循下式所示的Sin函數(shù)(1)或Tan函數(shù)(2)的曲線縱橫地排列起來的形狀。y＝A·Sin(αx+φ) (1)y＝B·Tan(βx+φ) (2)(A、B、α、β、φ、φ任意的常數(shù))
4.權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是線狀圖形形狀是把遵循下式所示的指數(shù)函數(shù)(3)或?qū)?shù)函數(shù)(4)的曲線縱橫地排列起來的形狀。y＝C·exp(γx+ρ) (3)y＝D·ln(δx+ξ)(4)(C、D、γ、δ、ρ、ξ任意的常數(shù))
5.權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是線狀圖形形狀是把遵循下式所示的反比例函數(shù)(5)的曲線縱橫地排列起來的形狀。y＝E/x (5)(E任意的常數(shù))
6.權(quán)利要求1所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是線狀圖形形狀是把權(quán)利要求2～5所述的直線或曲線組合排列起來的形狀。
7.權(quán)利要求1～6中任何一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是在把線狀圖形的線寬定為P(微米)，導(dǎo)電層的厚度定為D(微米)時(shí)，P和D之比(P/D)的范圍為1～540。
8.權(quán)利要求7所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是P和D之比(P/D)的范圍為2～240。
9.一種電磁波屏蔽透明體，其特征是采用在透明高分子薄膜的至少單面上，在根據(jù)需要依次疊層粘接層、透明金屬氧化物膜、金屬薄膜層之后，僅僅選擇性地刻蝕除去金屬薄膜層，使金屬薄膜層變成線狀圖形形狀的辦法制得，該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔是在20微米～1mm之間的隨機(jī)值。
10.權(quán)利要求9所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是金屬薄膜層由銅構(gòu)成。
11.一種電磁波屏蔽透明體，其特征是采用把摻入了近紅外阻斷材料和用來進(jìn)行色彩修正的色素的粘接劑層、導(dǎo)電層依次疊層到透明高分子薄膜的至少單面上構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層加工成線狀圖形形狀的辦法制得，該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔是在20微米～1mm之間的隨機(jī)值。
12.一種電磁波屏蔽透明體，其特征是把由在透明的高分子薄膜的至少單面上依次疊層粘接劑層1和導(dǎo)電層后構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層加工成線狀圖形形狀，使得各個(gè)線之間的間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的疊層薄膜，用粘接劑層2粘貼到透明的高分子增強(qiáng)體上而構(gòu)成，把近紅外線阻斷劑和對近紅外線阻斷劑具有色彩修正關(guān)系的色素，摻入到到粘接劑層1和粘接劑層2的至少1層中，而且還至少設(shè)有1層用來防止近紅外阻斷材料的惡化的紫外線阻擋層。
13.權(quán)利要求11或12所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是還設(shè)有至少1層水蒸氣阻擋層。
14.一種電磁波屏蔽透明體，其特征是把由在透明的高分子薄膜的至少單面上依次疊層粘接劑層1和導(dǎo)電層后構(gòu)成的疊層薄膜的導(dǎo)電層加工成線狀圖形形狀，使得各個(gè)線之間的間隔在20微米～1mm之間隨機(jī)變化的疊層薄膜，用粘接劑層2粘貼到透明的高分子增強(qiáng)體上而構(gòu)成，把近紅外線阻斷劑和對近紅外線阻斷劑具有色彩修正關(guān)系的色素，分割到粘接劑層1和粘接劑層2中，或僅僅摻入到粘接劑層2中。
15.權(quán)利要求1～14之任一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是在波長550nm下的光線透過率為50％以上。
16.權(quán)利要求1～15之任一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是通過粘接層把疊層薄膜疊層到厚度1mm以上的透明高分子增強(qiáng)體上。
17.權(quán)利要求1～16之任一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是在疊層薄膜或透明高分子增強(qiáng)體的至少一方上設(shè)有防止反射層。
18.權(quán)利要求1～17之任一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽透明體，其特征是在疊層薄膜或透明高分子增強(qiáng)體的至少一方上設(shè)有硬涂層。
全文摘要
一種電磁波屏蔽透明體,其特征是:由透明高分子薄膜和至少在其單面上形成的線狀圖形形狀的導(dǎo)電層構(gòu)成,該線狀圖形形狀中的各個(gè)線間隔是在20微米～1mm間的隨機(jī)值。
文檔編號H05K9/00GK1244714SQ9910832
公開日2000年2月16日 申請日期1999年6月7日 優(yōu)先權(quán)日1998年8月10日
發(fā)明者后藤英樹, 田中順二 申請人:住友電木株式會社