本發(fā)明涉及薄膜材料領(lǐng)域，尤其涉及一種屏幕保護(hù)膜及其制作方法。

背景技術(shù)：

手機(jī)，平板等設(shè)備的觸控屏幕本身材質(zhì)(例如玻璃)硬度偏低，在日常的使用和攜帶過(guò)程中，很容易被環(huán)境中的沙礫或鑰匙等硬質(zhì)物刮傷磨損，從而留下劃痕甚至失效。此外，在頻繁的觸控使用中，使用者皮膚上的油脂和指紋很容易殘留在觸控屏表面上，影響屏幕的視覺(jué)清晰度和畫(huà)面效果。

目前，在觸控屏幕表面覆蓋一層耐磨性防指紋膜來(lái)提高硬度、防刮耐磨或疏水疏油的技術(shù)已有應(yīng)用。

例如，美國(guó)專利no.5,637,353公開(kāi)了一種在玻璃基材表面沉積dlc膜的方法，其使用化學(xué)氣相沉積法(chemicalvapordeposition,cvd)制備的dlc膜具有較好的耐磨性，然而，疏水性一般，而且，由于膜較厚也影響了透光率。美國(guó)專利no.6,280,834公開(kāi)了一種在汽車玻璃基材表面使用離子束沉積-化學(xué)氣相沉積法(ionbeamdeposition,chemicalvapordeposition,ibd-cvd)制備dlc膜的方法，其使用c2h2氣體作為離子源，使用ibd方法沉積dlc，制備的dlc膜含有較多的氫，獲得的高硬度sp³鍵的四面體非晶碳膜(ta-c)結(jié)構(gòu)比例不高，硬度只有10-30gpa，不能起到很好的防刮耐磨性。

因此，目前采用傳統(tǒng)方法制備的高耐磨性防指紋膜，很難同時(shí)滿足高耐磨性，高透光率，防指紋及防反射特性要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種屏幕保護(hù)膜及其制作方法，能有效同時(shí)提 高屏幕保護(hù)膜的耐磨性、透光率、防指紋及防反射的性能。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種屏幕保護(hù)膜，包括：

一基材；

形成在所述基材上的ar膜；

形成在所述ar膜上的金屬氧化膜；

形成在所述金屬氧化膜上的af膜。

作為上述方案的改進(jìn)，所述屏幕保護(hù)膜還包括：形成在所述金屬氧化膜表面的納米點(diǎn)陣圖案。

作為上述方案的改進(jìn)，所述納米點(diǎn)陣圖案采用納米壓印或光刻技術(shù)制成。

作為上述方案的改進(jìn)，所述納米點(diǎn)陣圖案的深度為5納米，間距為2微米。

作為上述方案的改進(jìn)，所述ar膜為兩層或多層結(jié)構(gòu)。

作為上述方案的改進(jìn)，所述ar膜為兩層結(jié)構(gòu)時(shí)，由下往上的第一層為高折射率材質(zhì)層，第二層為低折射率材質(zhì)層；所述高折射率材質(zhì)層為氧化鋯、氧化鈦或氧化鋁；所述低折射率材質(zhì)層為氧化硅或氮化硅。

作為上述方案的改進(jìn)，所述基材為觸控屏幕類介質(zhì)，包括玻璃或藍(lán)寶石。

作為上述方案的改進(jìn)，所述金屬氧化膜的材料為zrox、taox、hfox、yox或alox。

作為上述方案的改進(jìn)，所述金屬氧化膜厚度為10?！?00埃。

本發(fā)明實(shí)施例還公開(kāi)了一種屏幕保護(hù)膜的制作方法，包括步驟：

s1、提供一基材；

s2、在所述基材上形成一ar膜；

s3、在所述ar膜上形成一金屬氧化膜；

s4、在所述金屬氧化膜上形成一af膜。

作為上述方案的改進(jìn)，在所述步驟s1后，還包括步驟：

s11、使用超聲波及清洗溶劑對(duì)所述基材進(jìn)行預(yù)清洗并干燥；

s12、采用離子束蝕刻清洗干燥后的所述基材。

作為上述方案的改進(jìn)，所述清洗溶劑為氮甲基吡咯烷酮(nmp)和異丙醇(ipa)。

作為上述方案的改進(jìn)，在所述步驟s3后，還包括步驟：

s31、在所述金屬氧化膜表面形成納米點(diǎn)陣圖案。

作為上述方案的改進(jìn)，所述納米點(diǎn)陣圖案采用納米壓印或光刻技術(shù)制成。

作為上述方案的改進(jìn)，所述納米點(diǎn)陣圖案的深度為5納米，間距為2微米。

作為上述方案的改進(jìn)，所述步驟s2后，還包括步驟：

s21、在所述基材上沉積第一層氧化鈦或氧化鋁；

s21、在所述第一層氧化鈦或氧化鋁上再沉積一層氧化硅或氮化硅。

作為上述方案的改進(jìn)，所述步驟s4后，還包括步驟：

s5、將所述af膜加熱至180度后固化一小時(shí)。

作為上述方案的改進(jìn)，所述基材為觸控屏幕類介質(zhì)，包括玻璃或藍(lán)寶石。

作為上述方案的改進(jìn)，所述基材為玻璃或藍(lán)寶石。

作為上述方案的改進(jìn)，所述金屬氧化膜的材料為zrox或taox或hfox或yox或alox。

作為上述方案的改進(jìn)，所述金屬氧化膜厚度為10埃到200埃。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開(kāi)的一種屏幕保護(hù)膜及其制作方法,該屏幕保護(hù)膜包括基材、形成在所述基材上的ar膜、形成在所述ar膜上的金屬氧化膜以及形成在所述金屬氧化膜上的af膜。這樣，既能夠防刮耐磨，又能夠防水防油防指紋，而且有較高的清晰度，不影響畫(huà)面效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例1中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例2中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明實(shí)施例3中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是本發(fā)明實(shí)施例4中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是圖3或4所示的納米點(diǎn)陣圖案的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜采用zrox膜的耐磨性測(cè)試結(jié)果示意圖。

圖7是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜采用zrox膜的平均透光率損失測(cè)試結(jié)果示意圖。

圖8是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜的af膜的水接觸角測(cè)試結(jié)果示意圖。

圖9是本發(fā)明實(shí)施例中一種屏幕保護(hù)膜的制作方法的流程示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例1

參見(jiàn)圖1，是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例公開(kāi)的屏幕保護(hù)膜為一種復(fù)合多層金屬氧化物膜，該屏幕保護(hù)膜包括基材1、形成在所述基材1上的防反射膜(anti-reflectioncoating，ar膜)2、形成在所述ar膜2上的金屬氧化膜3、形成在所述金屬氧化膜3上的防指紋膜(anti-fingerprintcoating，af膜)4，其中：

所述基材1主要是指觸控屏幕類介質(zhì)；優(yōu)選的，觸控屏幕類介質(zhì)為玻璃、鋼化玻璃、藍(lán)寶石、陶瓷、聚合物以及金屬或金屬氧化物等等，但不限于此。對(duì)于觸控屏幕，要求至少要有98％以上的光線透過(guò)屏幕保護(hù)膜而穿透至該基材。

所述ar膜2優(yōu)選采用高折射率材質(zhì)的氧化鋯，能夠在強(qiáng)光下具有良好的顯示效果。該所述ar膜2通過(guò)在基材1沉積得到。

所述金屬氧化膜3采用金屬氧化物材料作為耐磨層(anti-scratchcoating,as)。所述金屬氧化膜3厚度為10埃至200埃，透光率不少于98％。這樣既可保證較好的耐磨性又有高的透光率。優(yōu)選材料為zrox，也可選用材料taox或hfox或yox或alox。該金屬氧化膜3優(yōu)選采用濺射法得到，但也可選用ecr,fcva,ibad，pvd等方法得到。其中，圖6是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜采用zrox膜的耐磨性測(cè)試結(jié)果示意圖。圖7是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜采用zrox膜的平均透光率損失測(cè)試結(jié)果示意圖。

所述af膜4采用af材料制成，af是疏水性和疏油性的高分子聚合物。所述af膜為含氟膜，利用含氟的溶劑通過(guò)真空蒸鍍或噴涂得到。所述af膜4優(yōu)選采用水接觸角大于115度的疏水疏油性材質(zhì)制成，從而提高疏水疏油性和防指紋特性。如圖8所示，是本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜的af膜的水接觸角測(cè)試結(jié)果示意圖。

本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜通過(guò)在基材上形成的ar膜，并在ar膜上形成金屬氧化膜以提高耐磨性和透光性，并在金屬氧化膜上形成af膜以提高疏水疏油性和防指紋。因此，本實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜既能夠防刮耐磨，又能夠防水防油防指紋，而且有較高的清晰度，不影響畫(huà)面效果。

實(shí)施例2

圖2是本發(fā)明實(shí)施例2中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。該實(shí)施例公開(kāi)的屏幕保護(hù)膜與實(shí)施例1一樣，包括基材1、形成在所述基材1上的ar膜2、形成在所述ar膜2上的金屬氧化膜3、形成在所述金屬氧化膜3上的af膜4。本實(shí)施例與實(shí)施例1不同的是，本實(shí)施例的ar膜2為兩層結(jié)構(gòu)(依據(jù)ar波長(zhǎng)決定)。具體的，所述ar膜2包括由下往上的第一層21為高折射率材質(zhì)層和以及第二層22為低折射率材質(zhì)層。其中，所述高折射率材質(zhì)層包括氧化鋯、氧化鈦或氧化鋁；所述低折射率材質(zhì)層包括氧化硅或氮化硅。例如，在具體實(shí)施時(shí)，可以在基材1上先沉積第一層氧化鋯，然后再沉積第二層氮化硅。

本實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，通過(guò)采用兩層結(jié)構(gòu)的ar膜2，能夠進(jìn)一步提高透光率以及在戶外強(qiáng)光下的顯示效果。

可以理解的，本實(shí)施例的ar膜2也可采用兩層以上的多層結(jié)構(gòu)，并不影響實(shí)施例效果。

實(shí)施例3

圖3是本發(fā)明實(shí)施例3中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。該實(shí)施例公開(kāi)的屏幕保護(hù)膜與實(shí)施例1一樣，包括基材1、形成在所述基材1上的ar膜2、形成在所述ar膜2上的金屬氧化膜3、形成在所述金屬氧化膜3上的af膜4。本實(shí)施例與實(shí)施例1不同的是，本實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜還包括形成在所述金屬氧化膜3表面的納米點(diǎn)陣圖案31。所述納米點(diǎn)陣圖案31可采用納米壓印或光刻技術(shù)制成。具體實(shí)施時(shí)，使用納米壓印或帶有特制掩模的光刻技術(shù)于金屬氧化膜3表面制作納米點(diǎn)陣圖案31(參考圖5)，納米點(diǎn)陣圖案31的深度為5納米，間距為2微米。

本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，通過(guò)在所述金屬氧化膜3表面上形成納米點(diǎn)陣圖案31以提高af膜的粘附力和透光率。

實(shí)施例4

圖4是本發(fā)明實(shí)施例4中一種屏幕保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)示意圖。該實(shí)施例公開(kāi)的屏幕保護(hù)膜與實(shí)施例2一樣，包括基材1、形成在所述基材1上的ar膜2、形成在所述ar膜2上的金屬氧化膜3、形成在所述金屬氧化膜3上的af膜4，且所述ar膜2為兩層結(jié)構(gòu)，包括由下往上的第一層21為高折射率材質(zhì)層和以及第二層22為低折射率材質(zhì)層。本實(shí)施例與實(shí)施例2不同的是，本實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜還包括形成在所述金屬氧化膜3表面的納米點(diǎn)陣圖案31。所述納米點(diǎn)陣圖案31可采用納米壓印或帶有特制掩模的光刻技術(shù)制成。具體實(shí)施時(shí)，使用納米壓印或光刻技術(shù)于金屬氧化膜3表面制作納米點(diǎn)陣圖案31(參考圖5)，納 米點(diǎn)陣圖案31的深度為5納米，間距為2微米。

本實(shí)施例在實(shí)施例2的基礎(chǔ)上，通過(guò)在所述金屬氧化膜3表面上形成納米點(diǎn)陣圖案31以提高af膜的粘附力和透光率。

實(shí)施例5

參考圖9，是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種屏幕保護(hù)膜的制作方法的流程示意圖。如圖9所示，該方法包括步驟s1～s4：

s1、提供一基材。

其中，所述基材為觸控屏幕類介質(zhì)；具體的，所述基材為玻璃、鋼化玻璃、藍(lán)寶石、陶瓷、聚合物以及金屬或金屬氧化物等等，但不限于此。對(duì)于觸控屏幕，要求至少要有98％以上的光線透過(guò)屏幕保護(hù)膜而穿透至該基材。優(yōu)選的，在步驟s1后，還包括步驟s11～s12：

s11、預(yù)清洗基材，利用超聲波及清洗溶劑清洗基材，清洗溶劑為氮甲基吡咯烷酮(nmp)和異丙醇(ipa)，清洗時(shí)間為30分鐘，超聲波清洗后放入密封盒自然干燥，時(shí)間為一小時(shí)；

s12、清洗基材，采用離子束刻蝕(ionbeametching)清洗，在氬氣氣氛下，利用產(chǎn)生的等離子體刻蝕基材表面以達(dá)到清洗的目的，ar離子束的入射角度為30°，襯底的轉(zhuǎn)速為20r/s，刻蝕速率約為

s2、在所述基材上沉積一ar膜；

在本實(shí)施例中，該ar膜優(yōu)選為雙層結(jié)構(gòu)，該步驟進(jìn)一步包括步驟s21～s22：

s21、在所述基材上沉積第一層氧化鋯、氧化鈦或氧化鋁；

s21、在所述第一層氧化鈦或氧化鋁上再沉積一層氧化硅或氮化硅。

本實(shí)施例通過(guò)采用兩層結(jié)構(gòu)的ar膜能夠有效提高透光率以及在戶外強(qiáng)光下的顯示效果。可以理解的，本實(shí)施例形成的ar膜也可采用兩層以上的多層結(jié)構(gòu)，并不影響實(shí)施例效果。

s3、在所述ar膜上沉積一金屬氧化膜層。

其中，金屬氧化膜層優(yōu)選采用材料為zrox，也可選用材料zrox、taox、hfox、yox或alox。具體的，使用濺射法沉積zrox膜，靶材為高純度的zr靶，腔體氣氛為ar2和o2的混合氣體，其中，ar2流量為20sccm,o2流量為1sccm。沉積過(guò)程中旋轉(zhuǎn)基材以得到均勻致密的膜。具體的，制備方法不限于濺射法，也可選用ecr,fcva,ibad，pvd等方法。所述金屬氧化膜厚度為10?！?00埃。

優(yōu)選的，在步驟s3后，還包括步驟s31：

s31、在所述金屬氧化膜上制作納米點(diǎn)陣圖案，具體的，使用納米壓印或光刻技術(shù)于zrox膜表面制作納米點(diǎn)陣圖案，納米點(diǎn)陣的深度為5納米，間距為2微米。

本實(shí)施例通過(guò)所述金屬氧化膜表面上形成納米點(diǎn)陣圖案以提高af膜的粘附力和透光率。

s4、在所述金屬氧化膜上沉積一af膜。

具體的，利用含氟的溶劑通過(guò)真空蒸鍍或噴涂得到所述含氟af膜。所述af膜4優(yōu)選采用水接觸角大于115度的疏水疏油性材質(zhì)制成，從而提高疏水疏油性和防指紋特性。

在沉積af膜后，將整個(gè)膜轉(zhuǎn)入鋦爐加熱固化。具體的，固化溫度為180度，保溫一小時(shí)，從而完成屏幕保護(hù)膜的制作。

本發(fā)明實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜的制作方法通過(guò)在基材上形成的ar膜，并在ar膜上形成金屬氧化膜以提高耐磨性和透光性，并在金屬氧化膜上形成af膜以提高疏水疏油性和防指紋。因此，本實(shí)施例的屏幕保護(hù)膜既能夠防刮耐磨，又能夠防水防油防指紋，而且有較高的清晰度，不影響畫(huà)面效果。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。