1.一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，包括：
至少一組等離子反應(yīng)器(1)和支撐器(2)；
所述等離子反應(yīng)器(1)和所述支撐器(2)相對(duì)設(shè)置；
所述等離子反應(yīng)器(1)上與所述支撐器(2)相鄰一側(cè)設(shè)有用于噴出等離子氣體的氣孔；
所述等離子反應(yīng)器(1)另一側(cè)設(shè)有等離子電極(11)；
所述支撐器(2)用于支撐基材。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述支撐器(2)和所述等離子反應(yīng)器(1)均為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)，且所述等離子反應(yīng)器(1)與所述支撐器(2)相鄰的面為寬度相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述支撐器(2)為圓柱狀結(jié)構(gòu)；
所述等離子反應(yīng)器(1)均為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)；
所述等離子反應(yīng)器(1)的寬度與所述支撐器(2)的底面直徑相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述支撐器(2)為圓柱狀結(jié)構(gòu)；
所述等離子反應(yīng)器(1)上與所述支撐器(2)相鄰一側(cè)為弧形結(jié)構(gòu)；
所述等離子反應(yīng)器(1)的寬度與所述支撐器(2)的底面直徑相同，且所述弧形的弧度與所述支撐器(2)的側(cè)面弧度一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子反應(yīng)器(1)上的弧形結(jié)構(gòu)與所述支撐器(2)的弧形側(cè)面等距距離為0.5mm-5mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子反應(yīng)器(1)上的等離子電極(11)與外框間溝槽為1mm-2mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子電極(11)的交流高壓電電壓達(dá)到正負(fù)5～10KV，頻率為10KHZ。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子反應(yīng)器(1)上的氣孔均勻分布。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子氣體包括：氬氣、氧氣和/或氮?dú)狻?/p>
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種用于FPC電鍍的等離子裝置，其特征在于，
所述等離子氣體及其流量關(guān)系為
氬氣流量1～15L/min、氧氣流量0.1～1.5L/min；
或者，
氬氣流量1～15L/min、氮?dú)饬髁?.1～1.5L/min。