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一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構的制作方法

文檔序號:12656761閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構,其特征在于:包括吸嘴基板(1),在所述吸嘴基板(1)上開設真空吸口(2),所述真空吸口(2)為由一個主吸口(201)及多個副吸口連接形成的一體式結(jié)構或分體式結(jié)構。

2.如權利要求1所述的一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構,其特征在于:所述真空吸口(2)為一體式結(jié)構時,所述真空吸口(2)包括主吸口(201),沿所述主吸口(201)的四個角部分別向外延伸形成副吸口,各副吸口均為第一矩形吸口(202);各第一矩形吸口(202)均與主吸口(201)互為連通。

3.如權利要求1所述的一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構,其特征在于:所述真空吸口(2)為一體式結(jié)構時,所述真空吸口(2)包括主吸口(201),沿所述主吸口(201)的四個角部分別向外延伸形成副吸口,各副吸口均為圓形吸口(203);各圓形吸口(203)均與主吸口(201)互為連通。

4.如權利要求1所述的一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構,其特征在于:所述真空吸口(2)為分體式結(jié)構時,所述真空吸口(2)包括主吸口(201),沿所述主吸口(201)的四個角部分別向外延伸形成副吸口,各副吸口均為第二矩形吸口(204);各第二矩形吸口(204)互相獨立且均與主吸口(201)不連通。

5.如權利要求1所述的一種用于吸取電子元器件的真空吸嘴結(jié)構,其特征在于:所述主吸口(201)的孔徑大于副吸口的孔徑。

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