本發(fā)明涉及印制線路板的有機堿干膜退除工藝,以使高密度線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)干膜退除干凈,并且干膜退出后的膜碎細小,不會與設備行轆片產生纏繞,用以提升產品的品質,確保設備正常運行。
背景技術:
印制線路板干膜退除工藝,一直是以氫氧化鈉為主,其缺點是,第一,對高密線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)難以退除干凈,造成蝕刻不盡;第二,退膜后的干膜為大片脫落,易纏繞行轆滾輪,給生產造成不便,隨著電子技術的高速發(fā)展,朝著小型化、薄型化、多功能化方向發(fā)展,使得高密線路變得十分普遍。干膜退除工藝急需一種新型的針對高密線路的新技術以提高產品的品質,高效生產。
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于一種用于印制線路板的有機堿干膜退除工藝。已解決高密線路干膜退除不盡及大片退除的干膜纏繞行轆滾輪,影響生產。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種用于高密線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)干膜退除的有機堿工藝,所述有機堿干膜退除工藝包括如下步驟:1)將干膜退膜槽工作液完全排放后,用自來水沖洗干凈;2)繼續(xù)用去離子水循環(huán)清洗;3)向干膜退膜槽加入干膜退除劑,所述干膜退除劑水溶液為膽堿,加熱所述干膜退除槽至45-55℃;4)啟動循環(huán)過濾泵;5)將待干膜退除的印制線路板放入所述干膜退除劑水溶液中,噴淋;6)取出印制線路板,自來水清洗后烘干;以及7)轉入蝕刻工序。
作為對本發(fā)明所述的有機堿干膜退除工藝的進一步說明,優(yōu)選地,膽堿為每升30‐40克。
作為對本發(fā)明所述的有機堿干膜退除工藝的進一步說明,優(yōu)選地,所述干膜退除劑水溶液的ph>12,比重為1.05-1.10g/cm3。
作為對本發(fā)明所述的有機堿干膜退除工藝的進一步說明,優(yōu)選地,步驟2)中,所述清洗的時間為30分鐘。
作為對本發(fā)明所述的有機堿干膜退除工藝的進一步說明,優(yōu)選地,步驟5)中,所述噴淋的時間為45s-1.5min。
作為對本發(fā)明所述的有機堿干膜退除工藝的進一步說明,優(yōu)選地,步驟6)中,所述清洗的時間為1-3分鐘。
采用該有機堿干膜退除工藝,用以退除高密度線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)的干膜,并且使退除的干膜成為碎小的片狀,解決了干膜退除后大片干膜纏繞行轆滾輪的狀況,便利生產操作。
本發(fā)明之有機堿干膜退除工藝具有以下有益效果:(1)無需增加干膜退除的工序即可實現(xiàn)高密線路的干膜退除;(2)解決了高密線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)的干膜退除不凈的問題。(3)解決了高密線路(線路寬度與線路間距≤0.10mm)因干膜退除不凈而造成的蝕刻線路殘銅短路問題;(4)解決了因干膜退出后膜碎太大而引起的行轆滾輪被退除的干膜纏繞而影響生產的問題。(5)原料來源廣,價格低廉,成本低,生產過程無污染,因此在印制線路板領域具有廣泛的應用前景。
具體實施方式
為了使審查員能夠進一步了解本發(fā)明結構、特征及其他目的,現(xiàn)結合所附較佳實施例詳細說明如下,所附較佳實施例僅用于說明本發(fā)明的技術方案,并非限定本發(fā)明。
實施例1
將干膜退膜槽工作液完全排放后,用自來水沖洗干凈,繼續(xù)用去離子水循環(huán)清洗30分鐘。配置1升干膜退除劑水溶液,其中,干膜退除劑為30克膽堿,所述干膜退除劑水溶液的ph>12,比重為1.05g/cm3。向干膜退膜槽加入1升干膜退除劑水溶液,加熱所述干膜退除槽至45℃,啟動循環(huán)過濾泵,將待干膜退除的印制線路板放入上述干膜退除劑水溶液中,噴淋45s,取出印制線路板,自來水清洗1分鐘后烘干,轉入蝕刻工序。
從實驗結果可以看出:通過本發(fā)明的方法得到的高密線路的干膜干凈、符合檢測標準的合格要求,參見表1,表1中列出了經本實施例的有機堿干膜退除工藝處理的高密線路中的線寬/線距對顯影后的膜層脫落有無影響。
表1
實施例2
將干膜退膜槽工作液完全排放后,用自來水沖洗干凈,繼續(xù)用去離子水循環(huán)清洗30分鐘。配置1升干膜退除劑水溶液,其中,干膜退除劑為40克膽堿,所述干膜退除劑水溶液的ph>12,比重為1.10g/cm3。向干膜退膜槽加入1升干膜退除劑水溶液,加熱所述干膜退除槽至55℃,啟動循環(huán)過濾泵,將待干膜退除的印制線路板放入上述干膜退除劑水溶液中,噴淋1.5min,取出印制線路板,自來水清洗3分鐘后烘干,轉入蝕刻工序。
從實驗結果可以看出:通過本發(fā)明的方法得到的高密線路的干膜干凈、符合檢測標準的合格要求,參見表2,表2中列出了經本實施例的有機堿干膜退除工藝處理的高密線路中的線寬/線距對顯影后的膜層脫落有無影響。
表2
實施例3
將干膜退膜槽工作液完全排放后,用自來水沖洗干凈,繼續(xù)用去離子水循環(huán)清洗30分鐘。配置1升干膜退除劑水溶液,其中,干膜退除劑為35克膽堿,所述干膜退除劑水溶液的ph>12,比重為1.07g/cm3。向干膜退膜槽加入1升干膜退除劑水溶液,加熱所述干膜退除槽至50℃,啟動循環(huán)過濾泵,將待干膜退除的印制線路板放入上述干膜退除劑水溶液中,噴淋1.0min,取出印制線路板,自來水清洗2分鐘后烘干,轉入蝕刻工序。
從實驗結果可以看出:通過本發(fā)明的方法得到的高密線路的干膜干凈、符合檢測標準的合格要求,參見表3,表3中列出了經本實施例的有機堿干膜退除工藝處理的高密線路中的線寬/線距對顯影后的膜層脫落有無影響。
表3
需要聲明的是,上述發(fā)明內容及具體實施方式意在證明本發(fā)明所提供技術方案的實際應用,不應解釋為對本發(fā)明保護范圍的限定。本領域技術人員在本發(fā)明的精神和原理內,當可作各種修改、等同替換或改進。本發(fā)明的保護范圍以所附權利要求書為準。