本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光元件、特別是涉及具有撓性透明基材和內(nèi)部光取出層的撓性有機(jī)發(fā)光元件。

背景技術(shù)：
現(xiàn)在，有機(jī)發(fā)光元件作為薄型的發(fā)光材料受到關(guān)注。利用了有機(jī)材料的電致發(fā)光(ElectroLuminescence：EL)的有機(jī)發(fā)光元件(以下也稱(chēng)為有機(jī)EL元件)，為可在數(shù)V～數(shù)十V左右的低電壓下發(fā)光的薄膜型的完全固體元件，具有高亮度、高發(fā)光效率、薄型、輕量這樣的許多優(yōu)異的特征。因此，作為各種顯示器的背光、標(biāo)牌、應(yīng)急燈等的顯示板、照明光源等的面發(fā)光體近年來(lái)受到關(guān)注。這樣的有機(jī)電致發(fā)光元件為在2片電極間配置了由有機(jī)材料構(gòu)成的發(fā)光層的構(gòu)成，在發(fā)光層中產(chǎn)生了的發(fā)光光透過(guò)電極而被取出到外部。因此，2片電極中的至少一者以透明電極的形式構(gòu)成，從透明電極側(cè)取出發(fā)光光。另外，有機(jī)發(fā)光元件的特征是與以往的發(fā)光體不同的薄膜面發(fā)光，為了有效利用該特征，期望在撓性的透明基材上形成元件。針對(duì)這樣的期望，對(duì)使用市場(chǎng)上廣泛使用的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜這樣的常用的樹(shù)脂基材的有機(jī)發(fā)光元件的期望大。然而，若僅使用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜這樣的撓性透明基材來(lái)形成有機(jī)發(fā)光元件，則判明存在如下等的問(wèn)題：由于將元件反復(fù)彎折，使用了例如氧化銦·錫(SnO2-In2O3：IndiumTinOxide：ITO)等的電極破裂、或產(chǎn)生自發(fā)光層的浮起、剝離。特別是判明：在將后述的內(nèi)部光取出層設(shè)置在透明基材和電極之間時(shí)容易產(chǎn)生。有機(jī)發(fā)光元件可以以低的電力得到高亮度，在可見(jiàn)性、響應(yīng)速度、壽命、消耗電力的方面優(yōu)異，但還存在有機(jī)發(fā)光元件的光的利用效率為20％左右，元件內(nèi)的損耗大這樣的問(wèn)題，在提高發(fā)光效率方面優(yōu)選形成內(nèi)部光取出層。圖1為概略地表示以往的有機(jī)發(fā)光元件的構(gòu)成和光傳播的樣子的剖面圖。就有機(jī)發(fā)光元件100而言，自圖中的下層依次層疊金屬電極101、折射率約1.8的有機(jī)發(fā)光層102、折射率約1.8的透明電極103、折射率約1.6的透明基材104而構(gòu)成。圖中的符號(hào)110a～110e的箭頭記號(hào)表示在由有機(jī)發(fā)光層102產(chǎn)生了的光中特征性的光。光110a為相對(duì)于作為發(fā)光面的有機(jī)發(fā)光層102為垂直方向的光，透過(guò)透明基材104而被取出到光取出側(cè)(空氣側(cè))。光110b為以臨界角以下的小角度入射于透明基材104和空氣的界面的光，在透明基材104和空氣的界面進(jìn)行折射而被取出到光取出側(cè)。光110c為以大于臨界角的角度入射于透明基材104和空氣的界面的光，為在透明基材104和空氣的界面進(jìn)行全折射而沒(méi)有被取出到光取出側(cè)的光。將由此產(chǎn)生的損耗稱(chēng)為“基材損耗”，通常存在20％左右的損耗。光110d為在以大于臨界角的角度入射于透明電極103和透明基材104的界面的光中滿(mǎn)足了共振條件的光，為在透明電極103和透明基材104的界面進(jìn)行全反射而產(chǎn)生導(dǎo)波模式、被封入于有機(jī)發(fā)光層102及透明電極103內(nèi)的光。將由此產(chǎn)生的損耗稱(chēng)為“導(dǎo)波損耗”，通常存在20～25％左右的損耗。光110e為向金屬電極101入射而與金屬電極101內(nèi)的自由電子作用、產(chǎn)生作為導(dǎo)波模式的一種的等離激元模式而封入于金屬電極101的表面附近的光。將由此產(chǎn)生的損耗稱(chēng)為“等離激元損耗”，通常存在30～40％左右的損耗。如上所述，在以往的有機(jī)發(fā)光元件100中，存在發(fā)光光的基材損耗、導(dǎo)波損耗及等離激元損耗，盡可能降低這些損耗、取出更多的光正成為課題。針對(duì)該課題，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中公開(kāi)有在光取出面?zhèn)仍O(shè)置由透鏡片材構(gòu)成的光散射部的有機(jī)EL裝置。另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2中公開(kāi)有在至少一方的基材表面包含折射率為1.6以上且表面的平均粗糙度為10nm以上的高折射率凹凸層和1層以上的折射率為1.55以上的基材層的發(fā)光裝置用基材及發(fā)光裝置。然而，雖然這些技術(shù)從光取出的觀(guān)點(diǎn)考慮為優(yōu)選的方案，但到底為不具有撓性的玻璃基材用的光取出技術(shù)，在具有撓性的基材上不能實(shí)現(xiàn)。進(jìn)而，在專(zhuān)利文獻(xiàn)3中公開(kāi)有以下的光取出膜：為由有機(jī)發(fā)光元件中所使用的單層膜或2層以上的層疊膜構(gòu)成的光取出膜，其特征在于，在構(gòu)成該光取出膜的層中至少1層為具有光散射功能的層，該光取出膜的利用納米壓痕法得到的表面硬度為0.05～20GPa。在專(zhuān)利文獻(xiàn)3中，課題在于：通過(guò)規(guī)定該光取出膜的利用納米壓痕法得到的表面硬度，消除在有機(jī)發(fā)光元件的層疊工藝中的各膜內(nèi)、或膜界面產(chǎn)生的變形，減少透明電極的微細(xì)的龜裂、剝離，改善耐暗點(diǎn)性及元件壽命；對(duì)于使用撓性透明基材而形成了有機(jī)發(fā)光元件時(shí)的、因彎折引起的電極的破裂、剝離等的問(wèn)題沒(méi)有提及。因此，等待在常用的撓性透明基材上具有內(nèi)部光取出層、發(fā)光效率因光取出而高、且在將有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎折時(shí)電極不破裂或不產(chǎn)生浮起、剝離的有機(jī)發(fā)光元件的出現(xiàn)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本專(zhuān)利第2931211號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2004-20746號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3：日本特開(kāi)2007-35313號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
發(fā)明要解決的課題本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題·狀況而完成的，其解決課題在于提供在撓性的透明基材上具有內(nèi)部光取出層、發(fā)光效率因光取出而高、且在將機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎折時(shí)沒(méi)有電極破裂、或不產(chǎn)生浮起、剝離的有機(jī)發(fā)光元件。用于解決課題的技術(shù)方案本發(fā)明人在為了解決上述課題而針對(duì)上述問(wèn)題的原因等進(jìn)行研究的過(guò)程中發(fā)現(xiàn)：通過(guò)為在撓性透明基材上依次具有內(nèi)部光取出層、透明電極、及有機(jī)發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光元件、且為該內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量和該透明基材的有機(jī)發(fā)光層側(cè)的表面的彈性模量之比在特定的范圍內(nèi)的有機(jī)發(fā)光元件，可提供在撓性的透明基材上具有內(nèi)部光取出層、發(fā)光效率因光取出而高、且在將有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎折時(shí)沒(méi)有電極破裂、或不產(chǎn)生浮起、剝離的有機(jī)發(fā)光元件，以至完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明涉及的上述課題，可通過(guò)以下的手段來(lái)解決。1.有機(jī)發(fā)光元件，其特征在于，其為在撓性透明基材上依次具有內(nèi)部光取出層、透明電極、及有機(jī)發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光元件，該內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量(EMl)和該透明基材的透明電極側(cè)的表面的彈性模量(EMs)的由下述式1表示的比的值D為100±30％的范圍內(nèi)。式1D(％)＝(EMl/EMs)×100(％)2.第1項(xiàng)所述的有機(jī)發(fā)光元件，其特征在于，上述撓性透明基材依次具有膜基材和至少1層氣體阻隔層，上述內(nèi)部光取出層具有光散射層和平滑層。3.第2項(xiàng)的有機(jī)發(fā)光元件，其特征在于，上述光散射層含有光散射粒子，該光散射粒子的平均粒徑為0.2～1μm的范圍內(nèi)，該光散射層的光波長(zhǎng)550nm測(cè)定中的折射率為1.7～3.0的范圍內(nèi)。4.第1項(xiàng)或第2項(xiàng)所述的有機(jī)發(fā)光元件，其特征在于，上述內(nèi)部光取出層的光波長(zhǎng)550nm測(cè)定中的折射率在1.7～2.5的范圍內(nèi)、光波長(zhǎng)450nm～700nm的平均光透射率為50％以上、且霧度為30％以上。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的上述手段，可提供在撓性透明基材上具有內(nèi)部光取出層、發(fā)光效率因光取出而高、且在將有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎折時(shí)沒(méi)有電極破裂、或不產(chǎn)生浮起、剝離的柔性的有機(jī)發(fā)光元件。本發(fā)明的效果的呈現(xiàn)機(jī)制乃至作用機(jī)制，尚未明確，但推測(cè)如以下。就本發(fā)明而言，通過(guò)將撓性透明基材的表面的彈性模量和內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量調(diào)整為特定的范圍的關(guān)系而進(jìn)行組合，飛躍地改善對(duì)將具有撓性透明基材和內(nèi)部光取出層的有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎曲了時(shí)的電極的破裂、浮起、剝離等的耐性，根據(jù)本技術(shù)，提供實(shí)現(xiàn)市場(chǎng)所期待的高效率的柔性的有機(jī)發(fā)光元件的技術(shù)。一般而言，在對(duì)撓性基材施加力使形成曲面狀的情況下，基材的中心部分幾乎未施加應(yīng)力，隨著從中心在厚度方向進(jìn)行遠(yuǎn)離，應(yīng)力變大。在凸方向的表面施加拉伸的力，在凹方向的表面施加擠壓的力。在撓性基材的表面具有內(nèi)部光取出層的本發(fā)明中，在對(duì)基材表面施加內(nèi)部應(yīng)力的同時(shí)對(duì)內(nèi)部光取出層施加大致相同的力。此時(shí)各層的原材料有時(shí)也不同，各層的物性不同。即使基材表面的物性和內(nèi)部光取出層的物性不同，也并不立即產(chǎn)生浮起、破裂，但在作為本申請(qǐng)的優(yōu)選的實(shí)施方式的具有光散射層和平滑層的內(nèi)部光取出層中，優(yōu)選基材表面和內(nèi)部光取出層的彈性模量接近，而且優(yōu)選兩層的粘接強(qiáng)度高。另外，有機(jī)發(fā)光元件對(duì)氧·水分等非常敏感，即使形成僅僅在一般的撓性基材表面具有內(nèi)部光取出結(jié)構(gòu)的有機(jī)發(fā)光元件也并不耐實(shí)用。因此，各公司開(kāi)發(fā)有各種氣體阻隔技術(shù)，撓性基材上所形成的氣體阻隔技術(shù)也正達(dá)到實(shí)用階段。就這樣的氣體阻隔技術(shù)而言，由于作為其遮斷對(duì)象的氣體的分子小，因此，需要非常致密的膜，一般而言多為接近于金屬氧化物、具體而言玻璃的高彈性體。對(duì)于作為這樣的高彈性體的氣體阻隔層，在該氣體阻隔層上形成的內(nèi)部光取出層也在高彈性體上形成是重要的，為了實(shí)現(xiàn)這樣的高彈性體，深入研究中得知在將產(chǎn)生的應(yīng)力進(jìn)行緩和的方面優(yōu)選：(1)也優(yōu)選使光散射層及平滑層都為高彈性模量；(2)特別是通過(guò)將平滑層形成為高彈性模量而使內(nèi)部光取出層整體為高彈性體是非常有效的；(3)光散射層形成為低于平滑層的彈性模量的1/2的彈性體。另一方面，推測(cè)在將柔性有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎曲了時(shí)、因?qū)﹄姌O施加應(yīng)力而破裂、或產(chǎn)生浮起、剝離，但得知在具有柔性的內(nèi)部光取出層的有機(jī)發(fā)光元件的情況下特別明顯地產(chǎn)生。本發(fā)明人對(duì)該現(xiàn)象進(jìn)行了詳細(xì)研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)：在該內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量比具有氣體阻隔層的撓性透明基材的表面的彈性模量低的情況下或相反高的情況下，由于該彈性模量的偏差而在該兩者的層界面產(chǎn)生變形，因此產(chǎn)生的應(yīng)力作用于在內(nèi)部光取出層上形成的薄膜的電極而產(chǎn)生電極的破裂、浮起、剝離。因此，推測(cè)：通過(guò)將具有氣體阻隔層的撓性透明基材的表面的彈性模量和內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量調(diào)整為特定范圍的關(guān)系，可降低該變形引起的應(yīng)力的產(chǎn)生，可飛越地改善對(duì)將有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎曲了時(shí)的電極的破裂、浮起、剝離等的耐性。附圖說(shuō)明圖1為概略地表示以往的有機(jī)發(fā)光元件的構(gòu)成和光傳播的樣子的剖面圖。圖2為表示依據(jù)典型的納米壓痕法所得到的負(fù)載-位移曲線(xiàn)的一個(gè)例子的圖。圖3為表示利用納米壓痕法的測(cè)定中的金剛石壓頭和試樣的接觸狀態(tài)的一個(gè)例子的圖。圖4為表示有機(jī)發(fā)光元件的概略構(gòu)成的剖面圖。圖5為表示光散射層和平滑層的層疊體的剖面的顯微鏡照片，為光散射層的層厚T和光散射粒子的平均粒徑D的T/D的值為2時(shí)的一個(gè)例子。圖6為表示俯視·透視光散射層的狀態(tài)的顯微鏡照片，為光散射粒子在光散射層中的面內(nèi)占有率為70％時(shí)的一個(gè)例子。圖7為表示以AFM測(cè)定了的散射層和平滑層的層疊體的平均粗糙度的測(cè)定結(jié)果的一個(gè)例子的圖。圖8為表示內(nèi)部光取出層的制造裝置的概略構(gòu)成的圖。圖9為表示波長(zhǎng)控制紅外線(xiàn)加熱器的概略構(gòu)成的剖面圖。圖10為表示波長(zhǎng)控制紅外線(xiàn)加熱器的變形例的剖面圖。圖11為表示石英玻璃濾光器的紅外線(xiàn)透射率的圖表。圖12為概略地表示波長(zhǎng)控制紅外線(xiàn)加熱器的輻射光譜的圖表，為虛線(xiàn)部表示沒(méi)有濾光器的光譜、實(shí)線(xiàn)部表示具有濾光器的光譜的圖表。具體實(shí)施方式本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光元件在撓性透明基材上依次具有內(nèi)部光取出層、透明電極、及有機(jī)發(fā)光層，其特征在于，該內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量((EMl)和該透明基材的透明電極側(cè)的表面的彈性模量((EMs)的由上述式1表示的比的值D在100±30％的范圍內(nèi)。該特征為與本發(fā)明第一方案～第四方案的發(fā)明共通的技術(shù)特征。作為本發(fā)明的實(shí)施方式，從本發(fā)明的效果呈現(xiàn)的觀(guān)點(diǎn)考慮，上述撓性透明基材依次具有膜基材和至少1層氣體阻隔層，上述內(nèi)部光取出層具有光散射層和平滑層可進(jìn)一步優(yōu)選地控制上述彈性模量，因此優(yōu)選。特別是，如果內(nèi)部光取出層為上述2層構(gòu)成，則用平滑層可提高彈性、用光散射層可緩和應(yīng)力，因此可減少變形所引起的應(yīng)力的產(chǎn)生，可改善對(duì)將有機(jī)發(fā)光元件反復(fù)彎曲了時(shí)的電極的破裂、浮起、剝離等的耐性，因此為優(yōu)選的實(shí)施方式。另外，上述光散射層含有光散射粒子、該光散射粒子的平均粒徑為0.2～1μm的范圍內(nèi)、該光散射層的光波長(zhǎng)550nm測(cè)定中的折射率為1.7～3.0的范圍內(nèi)的光取出效率高，可提高有機(jī)發(fā)光元件的發(fā)光效率，因此優(yōu)選。另外，上述內(nèi)部光取出層的光波長(zhǎng)550nm測(cè)定中的折射率為1.7～2.5的范圍內(nèi)、光波長(zhǎng)450nm～700nm的平均光透射率為50％以上、且霧度為30％以上的光取出效率高，可提高有機(jī)發(fā)光元件的發(fā)光效率，因此優(yōu)選。以下，對(duì)本發(fā)明和其構(gòu)成要素、及用于實(shí)施本發(fā)明的方式·式樣進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。需要說(shuō)明的是，在本申請(qǐng)中，“～”以含有其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的含義來(lái)使用。<<本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光元件的概要>>本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光元件為在撓性透明基材上依次具有內(nèi)部光取出層、透明電極、及有機(jī)發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光元件，其特征在于，該內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量(EMl)和該透明基材的透明電極側(cè)的表面的彈性模量((EMs)的由下述式1表示的比的值D在100±30％的范圍內(nèi)。式1D(％)＝(EMl/EMs)×100(％)本發(fā)明中的撓性透明基材及內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量可通過(guò)納米壓痕法來(lái)測(cè)定。所謂納米壓痕法，為對(duì)于試樣用超微小的負(fù)載連續(xù)地對(duì)壓頭進(jìn)行加載、卸載、由得到的負(fù)載-位移曲線(xiàn)同時(shí)測(cè)定彈性模量(ReducedModulus)、硬度(Hardness)的方法。〈納米壓痕法的測(cè)定原理〉所謂納米壓痕法，為可以通過(guò)對(duì)原子力顯微鏡(AFM)附加壓入硬度測(cè)定用模塊(由轉(zhuǎn)換器和壓入芯片構(gòu)成)來(lái)進(jìn)行納米級(jí)的壓入硬度測(cè)定的測(cè)定方法。一邊施加最大負(fù)載20μN(yùn)以下的負(fù)載一邊對(duì)作為測(cè)定對(duì)象物的試樣壓入尖端半徑為0.1～1μm左右的金剛石壓頭、以納米的精度測(cè)定壓入深度。由該測(cè)定得到負(fù)載-位移曲線(xiàn)圖，可以定量地評(píng)價(jià)關(guān)于材料的彈性塑性變形的特性。在薄膜的情況下，為了不受基材的影響地進(jìn)行測(cè)定，需要壓入至膜厚的1/10～1/3的深度。在該納米壓痕法中，可以使用超低負(fù)載、例如最大負(fù)載20μN(yùn)、負(fù)載分辨率1nN的頭組件而作為位移分辨率以0.01nm的高精度來(lái)進(jìn)行測(cè)定。圖2表示依據(jù)典型的納米壓痕法得到的負(fù)載-位移曲線(xiàn)的一個(gè)例子。其中圖2中，所謂斜率S是指卸載曲線(xiàn)的斜度(＝dP/dh)，具體而言，關(guān)注可以說(shuō)是簡(jiǎn)單彈性恢復(fù)的卸載的初期、使用最大負(fù)載Pmax中的卸載曲線(xiàn)的斜度而求出。圖3為表示利用納米壓痕法的硬度及彈性模量測(cè)定中的金剛石壓頭和試樣的接觸狀態(tài)的一個(gè)例子的圖。在圖3中，N1為壓頭未接觸時(shí)的試樣的初期表面，N2為經(jīng)由壓頭而施加負(fù)載時(shí)的試樣表面的輪廓，N3為去除了壓頭后的試樣表面的輪廓。例如，硬度H通常由H＝W/A(W為負(fù)載，A為接觸面積)的式求出。但是，在納米壓痕法中，由于負(fù)載非常小，因此不能由壓痕等直接求出A。在本發(fā)明中，具體而言，利用下述方法。如圖3中所示，就hc而言，hc＝ht-ε·W/S(ε為壓頭固有的常數(shù)，S為圖2中記載的斜率)的式成立，在此ε為由壓頭的幾何形狀所確定的壓頭固有的常數(shù)，在圓錐及Berkovich壓頭、角錐壓頭等的三棱錐壓頭中使用ε＝0.726，在球狀壓頭中使用ε＝0.75，在圓柱壓頭中使用ε＝1。在三棱錐壓頭的情況下，如果將三棱錐的中心軸和側(cè)面所形成的角設(shè)為α，則從幾何學(xué)形狀考慮A，由下式表示。式A＝C1hc2、C1＝3×31/2tan2α由于在Berkovich壓頭中α＝65.27°，因此C1為24.56，A＝24.56hc2。另外，在角錐壓頭中，α＝45°，C1為5.196，A＝5.196hc2。因此，若ht、W、S已知，則可以求出H。另外，彈性模量Er可由Er＝S·π1/2/2/A1/2算出?？赏贫ǎ喝鬍r大則容易塑性變形，若小則容易彈性變形。在本發(fā)明中，彈性模量及硬度使用MTSシステム公司制的納米壓痕計(jì)(NanoIndenterTMXP/DCM)來(lái)測(cè)定。使用壓頭為cubecornertip(90°)。試樣尺寸最大為φ20mm×10mm，用粘接劑或其它固定于試樣臺(tái)。本裝置的負(fù)載范圍為～10mN這樣的非常低的負(fù)載，因此適于膜厚數(shù)10nm～1μm左右的薄膜的彈性模量及硬度測(cè)定。[納米壓痕測(cè)定的具體的方法]設(shè)備、方法、環(huán)境條件如下所述。作為具體的測(cè)定方法，使用以下的設(shè)備、用以下的方法測(cè)定。測(cè)定設(shè)備：HYSITRON公司制TriboScope使用壓頭：CubeCornerTip最大負(fù)載：20μN(yùn)或者30μN(yùn)(1)樣品試樣膜厚測(cè)定在基材上首先均勻地涂布試樣、干燥、(固化)而制作，將其一部分用刮鏟除去，露出基材表面。使用DektakXT(Bruker公司制)的觸針式粗糙度測(cè)定機(jī)由涂布面和露出了的基材面之差求出涂布膜厚。測(cè)定以N＝3進(jìn)行，求出其平均值。(2)最大負(fù)載設(shè)定選擇壓入至以Dektak求得的膜厚的10％的最大負(fù)載(20～30μN(yùn))。(3)試樣調(diào)整將納米壓痕測(cè)定用的試樣在23℃·50％RH的環(huán)境的測(cè)定室中調(diào)濕2小時(shí)以上后進(jìn)行測(cè)定。(4)測(cè)定使用上述的Hysitron公司制TriboScope實(shí)施納米壓痕下的測(cè)定。測(cè)定以N＝5進(jìn)行，除去最大/最小值，求出N＝3數(shù)據(jù)的平均值。(5)數(shù)據(jù)處理由通過(guò)上述的測(cè)定得到的各試樣的負(fù)載-位移曲線(xiàn)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，求出硬度(GPa)和彈性模量(GPa)。壓頭使用尖端角度90°的cubecornertip，預(yù)先使用熔融石英標(biāo)準(zhǔn)試樣進(jìn)行校準(zhǔn)。對(duì)于各試樣，至最大負(fù)載20μN(yùn)，從0壓入5秒后，用5秒時(shí)間卸載至0。由得到的負(fù)載-位移曲線(xiàn)，硬度(H)可使用(1)式求出，彈性模量(Er)可使用(2)式求出。[數(shù)學(xué)式1](1)(2)Pmax：最大負(fù)載A：接觸面積β：壓頭固有的常數(shù)S：卸載曲線(xiàn)的初期梯度[形成了氣體阻隔層的透明基材及內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量/硬度]用如上所述的測(cè)定法分別實(shí)施撓性透明基材表面(內(nèi)部光取出層形成面?zhèn)?的測(cè)定和內(nèi)部光取出層的干燥/固化后的表面彈性模量/硬度的測(cè)定。透明基材表面和內(nèi)部光取出層為基本進(jìn)行鄰接的層，在兩者之間可根據(jù)目的設(shè)置粘接層/光學(xué)系數(shù)(折射率)調(diào)整層/吸收降低層等。作為本發(fā)明的實(shí)施方式，優(yōu)選為上述撓性透明基材依次具有膜基材和至少1層氣體阻隔層、上述內(nèi)部光取出層具有光散射層和平滑層的層疊構(gòu)成。因此，就本發(fā)明涉及的撓性透明基材及內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量的測(cè)定而言，在上述膜基材上形成氣體阻隔層的情況下，對(duì)于氣體阻隔層的表面?zhèn)冗M(jìn)行。另外，在上述內(nèi)部光取出層由光散射層和平滑層構(gòu)成的情況下，對(duì)平滑層的表面?zhèn)冗M(jìn)行測(cè)定。本發(fā)明涉及的撓性透明基材優(yōu)選為可使用于有機(jī)發(fā)光元件的氧、水分遮斷能力高的、依次具有膜基材和至少1層氣體阻隔層的氣體阻隔膜。本申請(qǐng)中所謂的氣體阻隔層或氣體阻隔膜，是指用依據(jù)JISK7129：1992的方法測(cè)定的溫度25±0.5℃、相對(duì)濕度90±2％下的水蒸氣透過(guò)度為1×10-3g/m2·24h以下的氣體阻隔層或氣體阻隔膜，進(jìn)而是指用依據(jù)JISK7126：1987的方法測(cè)定的氧透過(guò)度為1×10-3ml/m2·24h·atm(1atm為1.01325×105Pa)以下，且溫度25±0.5℃、相對(duì)濕度90±2％下的水蒸氣透過(guò)度為1×10-5g/m2·24h以下的氣體阻隔層或氣體阻隔膜。另外，所謂撓性，作為該氣體阻隔膜本身，是指卷繞于φ(直徑)50mm輥，在以一定的張力卷繞前后不產(chǎn)生破裂等的基材，更優(yōu)選是指可卷繞于φ30mm輥、特別優(yōu)選φ10mm輥的基材。這樣的氣體阻隔膜優(yōu)選其表面的彈性模量為20GPa以上，更優(yōu)選為25GPa以上，特別優(yōu)選為30GPa以上。另一方面，內(nèi)部光取出層優(yōu)選具有光散射層和平滑層，內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量?jī)?yōu)選為15GPa以上，更優(yōu)選為20GPa以上，進(jìn)一步優(yōu)選為25GPa以上，特別優(yōu)選為30GPa以上。就上述內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量(EMl)和該透明基材的有機(jī)發(fā)光層側(cè)的表面的彈性模量(EMs)的由上述式1表示的比的值D而言，從顯現(xiàn)本發(fā)明的效果的方面考慮，需要在100±30％的范圍內(nèi)，優(yōu)選為100±25％的范圍內(nèi)。通過(guò)兩者的彈性模量在這樣的范圍，在形成了本發(fā)明涉及的氣體阻隔層的透明基材上形成了內(nèi)部光取出層后的彎曲性試驗(yàn)中，兩層的彎曲時(shí)的行為一致，抑制電極的破裂、浮起、剝離等，進(jìn)而可大幅改善各構(gòu)成層的脫落·剝離·裂紋·褶皺的產(chǎn)生。另外，作為單獨(dú)的上述平滑層的表面的彈性模量，優(yōu)選為20GPa以上，更優(yōu)選為25GPa以上，特別優(yōu)選為30GPa以上，優(yōu)選光散射層與平滑層相比彈性模量低，光散射層的彈性模量為0.5～25GPa，更優(yōu)選為1～20GPa，進(jìn)一步優(yōu)選為1.5～15GPa，特別優(yōu)選為1.5～10GPa。通過(guò)形成為以上，光散射層作為應(yīng)力松弛層發(fā)揮作用、不僅抑制電極的破裂、浮起、剝離，而且從各構(gòu)成層的脫落·剝離·裂紋·褶皺的產(chǎn)生的觀(guān)點(diǎn)考慮也是有利的。另外，該透明基材及內(nèi)部光取出層的表面硬度并不是本發(fā)明的要件，特別是數(shù)值沒(méi)有限定，因此，在本發(fā)明中構(gòu)成有機(jī)發(fā)光元件的層的彈性模量的設(shè)計(jì)及控制是重要的。若為上述的物性，則各層的原材料沒(méi)有特別限制，但就構(gòu)成透明基板及內(nèi)部光取出層的平滑層而言，從得到上述的物性的觀(guān)點(diǎn)考慮，優(yōu)選含有低于50nm的納米粒子和含有無(wú)機(jī)聚合物的粘結(jié)劑、特別是具有硅氧烷結(jié)構(gòu)的樹(shù)脂，同樣地氣體阻隔層也優(yōu)選使用同樣的含有無(wú)機(jī)聚合物的粘結(jié)劑。就這樣的氣體阻隔層和內(nèi)部光取出層的構(gòu)成原材料類(lèi)似而言，從兩層的粘接性的觀(guān)點(diǎn)考慮，優(yōu)選；當(dāng)然優(yōu)選在上述的物性的同時(shí)兩層間的粘接強(qiáng)度高。以下，對(duì)本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光元件的各構(gòu)成要素詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。<<有機(jī)發(fā)光元件>>如圖4中所示，本發(fā)明涉及的有機(jī)發(fā)光元件10設(shè)置在撓性透明基材13上，從透明基材13側(cè)依次層疊內(nèi)部光取出層2、透明金屬電極1、使用有機(jī)材料等而構(gòu)成了的有機(jī)發(fā)光層3、及對(duì)置電極5a而構(gòu)成。在透明金屬電極1(電極層1b)的端部設(shè)置有取出電極16。透明金屬電極1和外部電源(省略圖示)經(jīng)由取出電極16而電連接。有機(jī)發(fā)光元件10以至少?gòu)耐该骰?3側(cè)取出產(chǎn)生了的光(發(fā)光光h)的方式構(gòu)成。另外，有機(jī)發(fā)光元件10的層結(jié)構(gòu)沒(méi)有限定，可以為一般的層結(jié)構(gòu)。在此，透明金屬電極1作為正極(即陽(yáng)極)發(fā)揮作用，對(duì)置電極5a作為負(fù)極(即陰極)發(fā)揮作用。此時(shí)，例如，有機(jī)發(fā)光層3可例示從作為正極的透明金屬電極1側(cè)依次層疊了空穴注入層3a/空穴傳輸層3b/發(fā)光層3c/電子傳輸層3d/電子注入層3e的構(gòu)成，但其中需要至少具有使用有機(jī)材料而構(gòu)成了的發(fā)光層3c?？昭ㄗ⑷雽?a及空穴傳輸層3b也可以作為空穴傳輸注入層而設(shè)置。電子傳輸層3d及電子注入層3e也可以作為電子傳輸注入層而設(shè)置。另外，這些有機(jī)發(fā)光層3中，例如電子注入層3e也有時(shí)由無(wú)機(jī)材料構(gòu)成。另外，就有機(jī)發(fā)光層3而言，除這些層以外，也可以根據(jù)需要在必要處層疊空穴阻擋層、電子阻擋層等。進(jìn)而，發(fā)光層3c可以形成具有產(chǎn)生各波長(zhǎng)區(qū)域的發(fā)光光的各色發(fā)光層、使這些各色發(fā)光層經(jīng)由非發(fā)光性的中間層而被層疊了的結(jié)構(gòu)。中間層也可以作為空穴阻擋層、電子阻擋層而發(fā)揮作用。進(jìn)而，作為負(fù)極的對(duì)置電極5a也可以為根據(jù)需要的層疊結(jié)構(gòu)。在這樣的構(gòu)成中，僅僅用透明金屬電極1和對(duì)置電極5a夾持了有機(jī)發(fā)光層3的部分成為有機(jī)發(fā)光元件10中的發(fā)光區(qū)域。另外，在如上所述的層構(gòu)成中，以謀求透明金屬電極1的低電阻化為目的，也可以與透明金屬電極1的電極層1b相接而設(shè)置輔助電極15。就如上所述構(gòu)成的有機(jī)發(fā)光元件10而言，以防止使用有機(jī)材料等而構(gòu)成了的有機(jī)發(fā)光層3的劣化為目的，在透明基板13上用后述的密封材料17進(jìn)行密封。該密封材料17經(jīng)由粘接劑19而固定于透明基材13側(cè)。但是，透明金屬電極1(取出電極16)及對(duì)置電極5a的端子部分以如下?tīng)顟B(tài)來(lái)設(shè)置：在透明基材13上由有機(jī)發(fā)光層3互相保持了絕緣性的狀態(tài)下從密封材料17露出。以下，對(duì)上述的用于構(gòu)成有機(jī)發(fā)光元件10的主要各層的詳細(xì)情況和其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。(1)透明基材就本發(fā)明涉及的透明基材的表面的彈性模量而言，為20GPa以上、更優(yōu)選為25GPa以上、特別優(yōu)選為30GPa以上，從呈現(xiàn)強(qiáng)度或柔軟性等的作為基材的優(yōu)選的物性方面考慮，優(yōu)選的是，優(yōu)選為20～50GPa的范圍。本發(fā)明的透明基材可沒(méi)有特別限制地使用具有撓性的以往公知的玻璃基材/膜基材，本發(fā)明的光散射層/平滑層的結(jié)構(gòu)當(dāng)然與基材無(wú)關(guān)地發(fā)生作用。本發(fā)明中優(yōu)選使用的透明基材優(yōu)選具有有機(jī)發(fā)光元件所需要的耐濕性/耐氣體透過(guò)性等的氣體阻隔性能，在膜基材中，優(yōu)選設(shè)置用于提高阻隔性能的氣體阻隔層。此時(shí)，上述表面的彈性模量為形成了氣體阻隔層的氣體阻隔膜表面的彈性模量。為了將本發(fā)明涉及的透明基材的彈性模量控制在上述范圍內(nèi)，可通過(guò)透明樹(shù)脂基材的種類(lèi)的選擇及形成氣體阻隔層的材料的選擇來(lái)進(jìn)行。本發(fā)明的所謂“透明基材”，是指透射率70％以上的基材，其透射率優(yōu)選為80％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為90％以上，特別優(yōu)選為95％以上。在此所謂的“透射率”為全光線(xiàn)透射率，可依據(jù)JISK7375：2008“塑料-全光線(xiàn)透射率及全光線(xiàn)反射率的求出方法”來(lái)測(cè)定。本發(fā)明的“透明基材”具有撓性。就如上所述的可卷繞于輥的撓性透明基材而言，作為以往公知的基材，例如可以舉出：丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、尼龍(Ny)、芳香族聚酰胺、聚醚醚酮、聚砜、聚醚砜、聚酰亞胺、聚醚酰亞胺等的各樹(shù)脂膜、以具有有機(jī)無(wú)機(jī)共混結(jié)構(gòu)的倍半硅氧烷為基本骨架的耐熱透明膜(例如制品名Sila-DEC；チッソ株式會(huì)社制)、進(jìn)而將上述樹(shù)脂層疊2層以上而成的樹(shù)脂膜等。從成本、獲得的容易性方面考慮，可優(yōu)選使用聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等，另外，從光學(xué)透明性、耐熱性、與無(wú)機(jī)層、氣體阻隔性層的密合性方面考慮，優(yōu)選使用以具有有機(jī)無(wú)機(jī)共混結(jié)構(gòu)的倍半硅氧烷為基本骨架的耐熱透明膜。其中從透明性、耐熱性、操作容易性、強(qiáng)度及成本的方面考慮，優(yōu)選雙軸拉伸聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜、雙軸拉伸聚萘二甲酸乙二醇酯膜、聚醚砜膜、聚碳酸酯膜，更優(yōu)選雙軸拉伸聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜、雙軸拉伸聚萘二甲酸乙二醇酯膜。進(jìn)而，為了最大限度地抑制熱膨脹時(shí)的收縮，最優(yōu)選進(jìn)行了熱退火等的處理的低熱吸收處理品。透明基材的厚度優(yōu)選在10～500μm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在20～250μm的范圍內(nèi)，進(jìn)一步優(yōu)選在30～150μm的范圍內(nèi)。通過(guò)透明基材的厚度在10～500μm的范圍，可得到穩(wěn)定的氣體阻隔性，另外，變得適于卷對(duì)卷方式的輸送。(2)氣體阻隔層(2.1)特性及形成方法在本發(fā)明的透明基材為膜基材的情況下，為了達(dá)到本發(fā)明的優(yōu)選的彈性模量，優(yōu)選設(shè)置1層以上的氣體阻隔層。作為這樣的氣體阻隔層，可沒(méi)有特別限制地使用公知的原材料，可優(yōu)選使用例如如下的原材料。本發(fā)明涉及的氣體阻隔層具有上述的氧透過(guò)度及水蒸氣透過(guò)度是重要的，優(yōu)選：為含有無(wú)機(jī)前體化合物的層、且通過(guò)在透明基材上涂布至少1層含有無(wú)機(jī)前體化合物的涂布液后進(jìn)行改性處理而形成。作為涂布方法，可采用任意適當(dāng)?shù)姆椒?。作為具體例，可以舉出：輥涂法、流涂法、噴墨法、噴涂法、印刷法、浸涂法、流延成膜法、棒涂法、凹版印刷法等。涂布厚度可根據(jù)目的適當(dāng)設(shè)定。例如，涂布厚度可以以干燥后的厚度優(yōu)選為1nm～10μm左右、進(jìn)一步優(yōu)選為10nm～10μm左右、最優(yōu)選為30nm～1μm左右的方式設(shè)定。(2.2)無(wú)機(jī)前體化合物所謂本發(fā)明中所使用的無(wú)機(jī)前體化合物，只要為可在特定的氣氛下通過(guò)真空紫外線(xiàn)照射而形成金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氮氧化物的化合物就沒(méi)有特別限定，作為適于本發(fā)明的制造方法的化合物，優(yōu)選如日本特開(kāi)平8-112879號(hào)公報(bào)中所記載的那樣可在較低溫下進(jìn)行改性處理的化合物。具體而言，可以舉出具有Si-O-Si鍵的聚硅氧烷(包含聚倍半硅氧烷)、具有Si-N-Si鍵的聚硅氮烷、含有Si-O-Si鍵和Si-N-Si鍵的兩者的聚硅氧氮烷(シロキサザン)等。這些物質(zhì)可混合使用2種以上。另外，也可將不同的化合物逐次層疊或同時(shí)層疊來(lái)使用。(2.2.1)聚硅氧烷作為本發(fā)明中所使用的聚硅氧烷，可含有作為一般結(jié)構(gòu)單元的[R3SiO1/2]、[R2SiO]、[RSiO3/2]、及[SiO2]。在此，R獨(dú)立地選自由氫原子、含有1～20個(gè)碳原子的烷基的例如甲基、乙基及丙基等、芳基的例如苯基、不飽和烷基的例如乙烯基組成的組。在特定的聚硅氧烷基的例子中，可以舉出[PhSiO3/2]、[MeSiO3/2]、[HSiO3/2]、[MePhSiO]、[Ph2SiO]、[PhViSiO]、[ViSiO3/2]、[MeHSiO]、[MeViSiO]、[Me2SiO]及[Me3SiO1/2]等。另外，也可使用聚硅氧烷的混合物、共聚物。(2.2.2)聚倍半硅氧烷在本發(fā)明中，上述的聚硅氧烷中優(yōu)選使用聚倍半硅氧烷。聚倍半硅氧烷為在結(jié)構(gòu)單元中含有倍半硅氧烷的化合物。所謂“倍半硅氧烷”，為由[RSiO3/2]表示的化合物，通常為RSiX3(R為氫原子、烷基、烯基、芳基、芳烷基等，X為鹵素及烷氧基等)型化合物進(jìn)行水解-縮聚而合成的聚硅氧烷。作為倍半硅氧烷的分子排列的形狀，代表地已知無(wú)定形結(jié)構(gòu)、梯狀結(jié)構(gòu)、籠形結(jié)構(gòu)或其部分開(kāi)裂結(jié)構(gòu)體(由籠形結(jié)構(gòu)除去了一個(gè)硅原子的結(jié)構(gòu)、籠形結(jié)構(gòu)的一部分硅-氧鍵被切斷了的結(jié)構(gòu))等。這些聚硅氧烷中，優(yōu)選使用所謂氫倍半硅氧烷。在氫倍半硅氧烷聚合物中，可以舉出式：HSi(OH)x(OR)yOz/2的氫化物硅氧烷聚合物，各個(gè)R為有機(jī)基團(tuán)或被取代了的有機(jī)基團(tuán)，在通過(guò)氧原子鍵合于硅的情況下，形成水解性取代基，x＝0～2、y＝0～2、z＝1～3、x+y+z＝3。在R的例子中，可以舉出烷基的例如甲基、乙基、丙基及丁基等、芳基的例如苯基、烯基的例如烯丙基及乙烯基。作為這樣的物質(zhì)，這些樹(shù)脂可完全被縮合(HSiO3/2)n、或者僅部分被水解(即，含有一部分Si-OR)及/或部分被縮合(即，含有一部分Si-OH)。作為籠形倍半硅氧烷的例子，可以舉出：由[RSiO3/2]8的化學(xué)式表示的下述通式(1)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]10的化學(xué)式表示的下述通式(2)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]12的化學(xué)式表示的下述通式(3)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]14的化學(xué)式表示的下述通式(4)的倍半硅氧烷及由[RSiO3/2]16的化學(xué)式表示的下述通式(5)的倍半硅氧烷。[化學(xué)式1]作為由[RSiO3/2]n表示的籠形倍半硅氧烷中的n的值，為6～20的整數(shù)，優(yōu)選為8、10或12，特別優(yōu)選為8或8、10及12的混合物。另外，作為籠形倍半硅氧烷的一部分硅-氧鍵部分地開(kāi)裂了的由[RSiO3/2]n-m(O1/2H)2+m(n為6～20的整數(shù)，m為0或1。)表示的籠形倍半硅氧烷的優(yōu)選的例子，可以舉出：通式(1)的一部分開(kāi)裂了的三硅烷醇體、由[RSiO3/2]7(O1/2H)3表示的下述通式(6)的倍半硅氧烷、由[RSiO3/2]8(O1/2H)2的化學(xué)式表示的下述通式(7)的倍半硅氧烷及由[RSiO3/2]8(O1/2H)2的化學(xué)式表示的下述通式(8)的倍半硅氧烷。[化學(xué)式2]作為上述通式(1)～(8)中的R，可以舉出：氫原子、碳數(shù)1～20的飽和烴基、碳數(shù)2～20的烯基、碳數(shù)7～20的芳烷基及碳數(shù)6～20的芳基。其中R優(yōu)選為可聚合反應(yīng)的聚合性官能團(tuán)。作為碳數(shù)1～20的飽和烴基的例子，可以舉出：甲基、乙基、正丙基、異丙基、丁基(正丁基、異丁基、叔丁基、仲丁基等)、戊基(正戊基、異戊基、新戊基、環(huán)戊基等)、己基(正己基、異己基、環(huán)己基等)、庚基(正庚基、異庚基等)、辛基(正辛基、異辛基、叔辛基等)、壬基(正壬基、異壬基等)、癸基(正癸基、異癸基等)、十一烷基(正十一烷基、異十一烷基等)及十二烷基(正十二烷基、異十二烷基等)等。若考慮成形時(shí)的熔融流動(dòng)性、阻燃性及操作性的平衡，則優(yōu)選為碳數(shù)1～16的飽和烴，特別優(yōu)選為碳數(shù)1～12的飽和烴。作為碳數(shù)2～20的烯基，可以舉出非環(huán)式烯基及環(huán)式烯基。作為其例子，可以舉出：乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、環(huán)己烯基、環(huán)己烯基乙基、降冰片烯基乙基、庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一烯基及十二烯基等。若考慮成形時(shí)的熔融流動(dòng)性、阻燃性及操作性的平衡，則優(yōu)選為碳數(shù)2～16的烯基，特別優(yōu)選為碳數(shù)2～12的烯基。作為碳數(shù)7～20的芳烷基的例子，可以舉出：芐基及苯乙基或被碳數(shù)1～13、優(yōu)選碳數(shù)1～8的烷基中的1個(gè)或多個(gè)取代了的芐基及苯乙基等。作為碳數(shù)6～20的芳基的例子，可以舉出：苯基及甲苯基或被碳數(shù)1～14、優(yōu)選碳數(shù)1～8的烷基取代了的苯基、甲苯基及二甲苯基等。上述的籠形倍半硅氧烷類(lèi)可直接使用由Aldrich公司、HybridPlastic公司、チッソ株式會(huì)社、Azmax公司等市售的化合物，另外，也可以使用基于JournalofAmericanChemicalSociety雜志、第111卷、1741頁(yè)(1989年)等而合成了的化合物。所謂聚倍半硅氧烷的籠形結(jié)構(gòu)的部分開(kāi)裂結(jié)構(gòu)體，表示從由[RSiO3/2]8的化學(xué)式表示的一個(gè)籠型單元中Si-O-Si鍵開(kāi)裂而生成了的Si-OH為3個(gè)以下的化合物、或從由[RSiO3/2]8的化學(xué)式表示的密閉了的籠形結(jié)構(gòu)中Si原子的缺損為一個(gè)以下的化合物。在籠形倍半硅氧烷中，也可優(yōu)選使用[HSiO3/2]8等的氫倍半硅氧烷。(2.2.3)聚硅氮烷所謂本發(fā)明中所使用的聚硅氮烷，為具有硅-氮鍵的聚合物，為由Si-N、Si-H、N-H等構(gòu)成的SiO2、Si3N4及兩者的中間固溶體SiOxNy(x：0.1～1.9、y：0.1～1.3)等的無(wú)機(jī)前體聚合物。作為本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氮烷，由下述通式(A)表示。通式(A)-[Si(R1)(R2)-N(R3)]-式中，R1、R2、R3各自表示氫原子、烷基、烯基、環(huán)烷基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基氨基或烷氧基。在本發(fā)明中，從作為得到的氣體阻隔層的致密性的觀(guān)點(diǎn)考慮，特別優(yōu)選R1、R2及R3全部為氫原子的全氫聚硅氮烷。另一方面，就與其Si進(jìn)行鍵合的氫部分的一部分被烷基等取代了的有機(jī)聚硅氮烷而言，通過(guò)具有甲基等的烷基，與基底基材的粘接性得到改善、且可使硬且脆的聚硅氮烷形成的陶瓷層具有韌性，因此具有即使在進(jìn)一步增加層厚的情況下也可抑制開(kāi)裂的產(chǎn)生的優(yōu)點(diǎn)。可根據(jù)用途適宜選擇這些全氫聚硅氮烷和有機(jī)聚硅氮烷，也可以混合使用。推定全氫聚硅氮烷為存在直鏈結(jié)構(gòu)和以6及8元環(huán)為中心的環(huán)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)。其分子量以數(shù)均分子量(Mn)計(jì)為約600～2000左右(聚苯乙烯換算)，為液體或固體的物質(zhì)，根據(jù)分子量而不同。這些物質(zhì)以溶解于有機(jī)溶劑的溶液狀態(tài)被市售，也可以將市售品直接作為含有聚硅氮烷涂布液而使用。作為在低溫下進(jìn)行陶瓷化的聚硅氮烷的其它的例子，可以舉出：使硅醇鹽與上述聚硅氮烷反應(yīng)而得到的硅醇鹽加成聚硅氮烷(日本特開(kāi)平5-238827號(hào)公報(bào))、使縮水甘油反應(yīng)而得到的縮水甘油加成聚硅氮烷(日本特開(kāi)平6-122852號(hào)公報(bào))、使醇反應(yīng)而得到的醇加成聚硅氮烷(日本特開(kāi)平6-240208號(hào)公報(bào))、使金屬羧酸鹽反應(yīng)而得到的金屬羧酸鹽加成聚硅氮烷(日本特開(kāi)平6-299118號(hào)公報(bào))、使含有金屬的乙酰丙酮絡(luò)合物反應(yīng)而得到的乙酰丙酮絡(luò)合物加成聚硅氮烷(日本特開(kāi)平6-306329號(hào)公報(bào))及添加金屬微粒而得到的金屬微粒添加聚硅氮烷(日本特開(kāi)平7-196986號(hào)公報(bào))等。作為制備含有聚硅氮烷的液體的有機(jī)溶劑，不優(yōu)選使用含有容易與聚硅氮烷反應(yīng)這樣的醇系或水分的有機(jī)溶劑。具體而言，可使用脂肪族烴、脂環(huán)式烴及芳香族烴等的烴溶劑、鹵代烴溶劑、脂肪族醚及脂環(huán)式醚等的醚類(lèi)。具體而言，有戊烷、己烷、環(huán)己烷、甲苯、二甲苯、Solvesso、松節(jié)油等的烴、二氯甲烷及三氯乙烷等的鹵代烴、二丁基醚、二烷及四氫呋喃等的醚類(lèi)等。這些溶劑可以根據(jù)聚硅氮烷的溶解度、溶劑的蒸發(fā)速度等目的來(lái)選擇、混合多種溶劑。含有聚硅氮烷涂布液中的聚硅氮烷濃度也根據(jù)目標(biāo)二氧化硅層厚、涂布液的適用期而不同，為0.2～35質(zhì)量％左右。有機(jī)聚硅氮烷也可以為與其Si進(jìn)行鍵合的氫部分的一部分被烷基等取代了的衍生物。通過(guò)具有烷基、特別是分子量最小的甲基，與基底基材的粘接性得到改善、且可使硬且脆的二氧化硅層具有韌性，即使在進(jìn)一步增加層厚的情況下也可抑制開(kāi)裂的產(chǎn)生。為了促進(jìn)向氧化硅化合物的改性處理，也可以添加胺、金屬的催化劑。具體而言，可以舉出：AZエレクトロニックマテリアルズ(株)制アクアミカNAX120-20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL150A、NP110、NP140、SP140等。(2.2.4)聚硅氧氮烷本發(fā)明中所使用的聚硅氧氮烷為主要重復(fù)單元由-[(SiH2)n(NH)r]-和-[(SiH2)mO]-(式中n、m、r為1、2或3)表示的化合物。(2.2.5)催化劑本發(fā)明中所使用的含有無(wú)機(jī)前體的溶液(也稱(chēng)為涂布液)中，可以根據(jù)需要含有催化劑。若具體地示出，則可以舉出：1-甲基哌嗪、1-甲基哌啶、4,4'-三亞甲基二哌啶、4，4'-三亞甲基雙(1-甲基哌啶)、二氮雜雙環(huán)-[2,2,2]辛烷、順式-2,6-二甲基哌嗪、4-(4-甲基哌嗪)吡啶、吡啶、聯(lián)吡啶、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、哌啶、二甲基吡啶、嘧啶、噠嗪、4,4'-三亞甲基聯(lián)吡啶、2-(甲基氨基)吡啶、吡嗪、喹啉、喹喔啉、三嗪、吡咯、3-吡咯啉、咪唑、三唑、四唑、1-甲基吡咯烷等的N-雜環(huán)狀化合物；甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、丙胺、二丙胺、三丙胺、丁胺、二丁胺、三丁胺、戊胺、二戊胺、三戊胺、己胺、二己胺、三己胺、庚胺、二庚胺、辛胺、二辛胺、三辛胺、苯胺、二苯胺、三苯胺等的胺類(lèi)；進(jìn)而DBU(1,8-二氮雜雙環(huán)[5,4,0]7-十一碳烯)、DBN(1,5-二氮雜雙環(huán)[4,3,0]5-壬烯)、1,5,9-三氮雜環(huán)十二烷及1,4,7-三氮雜環(huán)壬烷等。另外，有機(jī)酸、無(wú)機(jī)酸、金屬羧酸鹽、乙酰丙酮絡(luò)合物及金屬微粒也可作為優(yōu)選的催化劑舉出。作為有機(jī)酸，可以舉出：乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、馬來(lái)酸及硬脂酸等，另外，作為無(wú)機(jī)酸，可以舉出：鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、過(guò)氧化氫、氯酸及次氯酸等。作為金屬羧酸鹽，為由式：(RCOO)nM[式中，R為脂肪族基團(tuán)、或脂環(huán)族基團(tuán)，表示碳數(shù)1～22的基團(tuán)，M表示選自由Ni、Ti、Pt、Rh、Co、Fe、Ru、Os、Pd、Ir及Al組成的組中的至少1種金屬，n表示M的原子價(jià)。]表示的化合物。金屬羧酸鹽可以為酐也可以為水合物。作為乙酰丙酮絡(luò)合物，為由乙酰丙酮(2,4-戊二酮)通過(guò)酸解離而產(chǎn)生了的陰離子acac-配位于金屬原子的絡(luò)合物，一般而言，作為由式(CH3COCHCOCH3)nM[式中，M表示離子價(jià)n的金屬。]所示。作為優(yōu)選的金屬M(fèi)，例如可以舉出：鎳、鉑、鈀、鋁及銠等。作為金屬微粒，優(yōu)選Au、Ag、Pd及Ni，特別優(yōu)選Ag。金屬微粒的粒徑優(yōu)選小于0.5μm，更優(yōu)選0.1μm以下，進(jìn)一步優(yōu)選小于0.05μm。除這些以外，也可使用過(guò)氧化物、金屬鹵化物、二茂鐵、二茂鋯等的有機(jī)金屬化合物等。另外，也可使用作為有機(jī)硅聚合物的固化劑而使用的鉑乙烯基硅氧烷。這些催化劑優(yōu)選相對(duì)于無(wú)機(jī)前體化合物在0.01～10質(zhì)量％的范圍內(nèi)配合，更優(yōu)選在0.05～2質(zhì)量％的范圍內(nèi)配合。(2.3)改性處理就本發(fā)明中所使用的無(wú)機(jī)前體化合物的改性處理而言，在使用紫外線(xiàn)的情況下，可利用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、氙弧、金屬鹵化物等的光線(xiàn)發(fā)出的紫外線(xiàn)等，優(yōu)選的是，優(yōu)選使用后述的利用受激準(zhǔn)分子燈的真空紫外線(xiàn)(VUV)。關(guān)于真空紫外線(xiàn)(VUV)照射的詳細(xì)情況，可以參照日本特開(kāi)2014-083691號(hào)公報(bào)的段落[0150]～[0167]的記載。例如，在使用聚硅氮烷作為無(wú)機(jī)前體的情況下，聚硅氮烷層涂膜受到的涂膜面處的真空紫外線(xiàn)的照度優(yōu)選為30～200mW/cm2的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為50～160mW/cm2的范圍內(nèi)。若為30mW/cm2以上，則沒(méi)有改性效率降低的擔(dān)心，若為200mW/cm2以下，則在涂膜不產(chǎn)生磨損，對(duì)基材不造成損傷，故優(yōu)選。聚硅氮烷層涂膜面中的真空紫外線(xiàn)的照射能量?jī)?yōu)選為200～10000mJ/cm2的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為500～5000mJ/cm2的范圍內(nèi)。若為200mJ/cm2以上，則可充分地進(jìn)行改性，若為10000mJ/cm2以下，則不形成過(guò)量改性而防止開(kāi)裂產(chǎn)生、樹(shù)脂基材的熱變形。(3)內(nèi)部光取出層(3.1)構(gòu)成及特性就內(nèi)部光取出層2而言，優(yōu)選配設(shè)在透明基材13和透明金屬電極1之間、從透明基材13側(cè)依次層疊光散射層2a和平滑層2b而構(gòu)成。平滑層的主要目的在于：在氣體阻隔層或光散射層之上設(shè)有透明電極及有機(jī)發(fā)光層的情況下，防止該氣體阻隔層或光散射層的表面的凹凸所引起的高溫·高濕氣氛下的保存性的劣化、電短路(短路)等的弊端。因此，內(nèi)部光取出層優(yōu)選具有光散射層和平滑層，但內(nèi)部光取出層的表面的彈性模量為15GPa以上，更優(yōu)選為20GPa以上，進(jìn)一步優(yōu)選為25GPa以上，特別優(yōu)選為30GPa以上，優(yōu)選在20～50GPa的范圍內(nèi)。另外，作為單獨(dú)的該平滑層的表面的彈性模量?jī)?yōu)選為20GPa以上，更優(yōu)選為25GPa以上，特別優(yōu)選為30GPa以上。優(yōu)選散射層與平滑層相比、彈性模量低，光散射層的彈性模量為0.5～25GPa，更優(yōu)選為1～20GPa，進(jìn)一步優(yōu)選為1.5～15GPa，特別優(yōu)選為1.5～10GPa。為了將內(nèi)部光取出層、光散射層及平滑層的表面的彈性模量控制在上述范圍內(nèi)，可根據(jù)使用的粘結(jié)劑的種類(lèi)、光散射粒子的種類(lèi)及填充率等而進(jìn)行形成的材料的種類(lèi)、使用量的選擇來(lái)適宜進(jìn)行。另外，內(nèi)部光取出層2的光波長(zhǎng)550nm下的折射率優(yōu)選在1.7～2.5的范圍內(nèi)。封入于有機(jī)發(fā)光元件的發(fā)光層內(nèi)的導(dǎo)波模式光、從陰極反射的等離激元光為特異的光學(xué)模式的光，為了取出這些光，需要至少1.7以上的折射率。另一方面，即使為最高次側(cè)的模式，也幾乎不存在折射率超過(guò)2.5的區(qū)域的光，即使形成為其以上的折射率，取出的光的量也不增加。實(shí)際上，光散射層2a及平滑層2b的折射率分別優(yōu)選為1.7～2.5的范圍內(nèi)，許多情況下難以分別測(cè)定各層的折射率，因此作為內(nèi)部光取出層2整體，只要折射率滿(mǎn)足上述范圍即可。予以說(shuō)明，就折射率的測(cè)定而言，在25℃的氣氛下照射來(lái)自發(fā)光單元的發(fā)光光的發(fā)光極大波長(zhǎng)中最短的發(fā)光極大波長(zhǎng)的光線(xiàn)、使用阿貝折射率計(jì)(ATAGA公司制、DR-M2)進(jìn)行(光散射層及平滑層的折射率的測(cè)定也相同。)。另外，內(nèi)部光取出層2的霧度值(散射透射率相對(duì)于全光線(xiàn)透射率的比例)優(yōu)選為30％以上。若霧度值為30％以上，則可使發(fā)光效率提高。予以說(shuō)明，所謂霧度值，為受到(i)層中的組合物的折射率差產(chǎn)生的影響和(ii)表面形狀產(chǎn)生的影響而算出的物性值。在本發(fā)明中，測(cè)定作為在光散射層2a上層疊了平滑層2b的內(nèi)部光取出層2的霧度值。即，將表面粗糙度抑制在低于一定程度而測(cè)定霧度值，由此可測(cè)定排除了上述(ii)產(chǎn)生的影響的霧度值。霧度值可依據(jù)JISK7136、例如用霧度儀NDH-2000(日本電色工業(yè)公司制)進(jìn)行測(cè)定。霧度儀的光源采用5V9W的鹵素?zé)簦芄獠坎捎霉韫怆姵?帶相對(duì)可見(jiàn)度濾光器)。霧度的測(cè)定可在23℃·55％RH的條件下進(jìn)行。另外，本發(fā)明的內(nèi)部光取出層2優(yōu)選光波長(zhǎng)450nm～700nm的平均透射率為50％以上，更優(yōu)選為55％以上，特別優(yōu)選為60％以上。在此所謂的平均透射率是指全光線(xiàn)透射率，可依據(jù)JISK7375：2008來(lái)進(jìn)行測(cè)定。內(nèi)部光取出層2的透射率優(yōu)選高者，實(shí)際上設(shè)想為限于低于80％的數(shù)值。內(nèi)部光取出層2的透射率更優(yōu)選低于85％，特別優(yōu)選低于90％。(3.2)光散射層(3.2.1)折射率光散射層2a優(yōu)選為在光波長(zhǎng)550nm測(cè)定中折射率在1.7～3.0的范圍內(nèi)的高折射率層。此時(shí)，光散射層2a可以由具有折射率1.7～3.0的范圍的單獨(dú)的原材料來(lái)形成層，也可以與2種以上的化合物混合而形成折射率1.7～3.0的范圍的層。在這樣的混合體系的情況下，就光散射層2a的折射率而言，也可以用通過(guò)對(duì)各種原材料固有的折射率乘以混合比率而得的合計(jì)值所算出的計(jì)算折射率來(lái)代用。另外，此時(shí)，各個(gè)原材料的折射率可以低于1.7或者超過(guò)3.0，作為混合了的層的折射率，只要滿(mǎn)足1.7～3.0的范圍即可。另外，本發(fā)明的光散射層2a為利用了層介質(zhì)和光散射粒子的混合物產(chǎn)生的折射率差的混合光散射層(散射膜)。光散射層2a為使光取出效率提高的層，形成于透明基材13的透明金屬電極1側(cè)的最表面。光散射層2a由層介質(zhì)和該層介質(zhì)中所含有的光散射粒子構(gòu)成。就作為層介質(zhì)的后述的樹(shù)脂材料(單體或粘合劑)和所含有的光散射粒子的折射率差而言，為0.03以上，優(yōu)選為0.1以上，更優(yōu)選為0.2以上，特別優(yōu)選為0.3以上。若層介質(zhì)和光散射粒子的折射率差為0.03以上，則在層介質(zhì)和光散射粒子的界面產(chǎn)生散射效果。折射率差越大，界面處的折射變得越大，散射效果提高，故優(yōu)選。(3.2.2)光散射粒子的平均粒徑就光散射層2a而言，如上所述，為通過(guò)層介質(zhì)和光散射粒子的折射率不同而使光散射的層。因此，作為所含有的光散射粒子，優(yōu)選為具有產(chǎn)生可見(jiàn)光區(qū)域的Mie散射的區(qū)域以上的粒徑的透明的粒子，其平均粒徑為0.2μm以上。另一方面，作為平均粒徑的上限，在粒徑比較大的情況下，也需要增厚使含有光散射粒子的光散射層2a的粗糙度進(jìn)行平坦化的平滑層2b的層厚，從工序的負(fù)荷、層的吸收的觀(guān)點(diǎn)考慮，存在不利的方面，因此，低于1μm。在此，作為高折射率粒子(光散射粒子)的平均粒徑的測(cè)定方法，可使用公知的方法。例如可使用通過(guò)透射型電子顯微鏡(TEM)進(jìn)行光散射粒子的粒子觀(guān)察、然后作為粒徑分布的數(shù)均粒徑而求出的方法；使用原子力顯微鏡(AFM)而求出平均粒徑的方法；利用動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑測(cè)定裝置、例如Malvern公司制、“ZETASIZERNanoSeriesNano-ZS”進(jìn)行測(cè)定。在本發(fā)明中，優(yōu)選使用如下方法：通過(guò)透射型電子顯微鏡照片(TEM剖面)的圖像處理將粒徑作為投影面積而進(jìn)行圓換算、將其直徑作為平均粒徑進(jìn)行測(cè)定。(3.2.3)光散射粒子的種類(lèi)等作為光散射粒子，沒(méi)有特別限制，可根據(jù)目的適宜選擇，可以為有機(jī)微粒，也可以為無(wú)機(jī)微粒，其中優(yōu)選為具有高折射率的無(wú)機(jī)微粒。作為具有高折射率的有機(jī)微粒，例如可以舉出：聚甲基丙烯酸甲酯珠粒、丙烯酸類(lèi)-苯乙烯共聚物珠粒、三聚氰胺珠粒、聚碳酸酯珠粒、苯乙烯珠粒、交聯(lián)聚苯乙烯珠粒、聚氯乙烯珠粒及苯并胍胺-三聚氰胺甲醛珠粒等。作為具有高折射率的無(wú)機(jī)微粒，例如可以舉出：由選自鋯、鈦、銦、鋅、銻、鈰、鈮及鎢等中的至少一種的氧化物構(gòu)成的無(wú)機(jī)氧化物粒子。作為無(wú)機(jī)氧化物粒子，具體而言，可以舉出：ZrO2、TiO2、BaTiO3、In2O3、ZnO、Sb2O3、ITO、CeO2、Nb2O5及WO3等，其中，優(yōu)選TiO2、BaTiO3、ZrO2、CeO2及Nb2O5，最優(yōu)選TiO2。另外，TiO2中，與銳鈦礦型相比，金紅石型的催化劑活性低，因此高折射率層、鄰接的層的耐候性變高，進(jìn)而，折射率高，故優(yōu)選。另外，就這些粒子而言，由于在高折射率的光散射層2a中含有，因此從形成了后述的分散液的情況下的分散性、穩(wěn)定性提高的觀(guān)點(diǎn)考慮，可以選擇從抑制催化劑活性等的觀(guān)點(diǎn)考慮實(shí)施了表面處理的粒子或者未實(shí)施表面處理的粒子。在進(jìn)行表面處理的情況下，作為表面處理的具體的材料，可以舉出：氧化硅、氧化鋯等的不同種類(lèi)無(wú)機(jī)氧化物、氫氧化鋁等的金屬氫氧化物、有機(jī)硅氧烷、硬脂酸等的有機(jī)酸等。這些表面處理材料可單獨(dú)使用1種，也可以組合使用多種。其中，從分散液的穩(wěn)定性的觀(guān)點(diǎn)考慮，作為表面處理材料，優(yōu)選不同種類(lèi)無(wú)機(jī)氧化物及/或金屬氫氧化物，更優(yōu)選金屬氫氧化物。特別是在使用TiO2粒子的情況下，優(yōu)選進(jìn)行表面處理，優(yōu)選通過(guò)表面處理來(lái)完全抑制T...