襯底支持裝置及機(jī)臺(tái)裝置的制造方法
【專利摘要】一種襯底支持裝置包含承載單元以及至少一個(gè)襯底支持單元。襯底支持單元可移動(dòng)地連接于承載單元，并具有至少兩個(gè)第一延伸元件以支持襯底。這些第一延伸元件朝第一方向延伸且兩者之間具有間距。
【專利說(shuō)明】
襯底支持裝置及機(jī)臺(tái)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種支持裝置，特別涉及一種襯底支持裝置及機(jī)臺(tái)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體工藝或襯底加工工藝中，常需要使用襯底支持單元來(lái)支持和/或傳輸襯底，以使襯底能合適于進(jìn)行所需工藝或到達(dá)所需的地點(diǎn)進(jìn)行所需工藝。而在襯底支持裝置支持襯底的過(guò)程中，襯底難免會(huì)受到重力的影響而產(chǎn)生彎曲(bending)，因此襯底支持裝置所提供給襯底的支持效果相當(dāng)程度地影響工藝的質(zhì)量以及產(chǎn)品的良率。
[0003]請(qǐng)參照?qǐng)D1，其為一種公知機(jī)臺(tái)裝置4的示意圖，公知機(jī)臺(tái)裝置4包含有平臺(tái)承載單元41及襯底支持單元42，而平臺(tái)承載單元41可供襯底S平貼置放于其上，且襯底S面積略大于平臺(tái)承載單元41，而襯底支持單元41由下而上承托住襯底S外周側(cè)，以達(dá)到抓取及傳輸?shù)哪康摹?br>[0004]因襯底S平貼置放于平臺(tái)承載單元41上，導(dǎo)致襯底支持單元42在抓取襯底S時(shí)，會(huì)受限于平臺(tái)承載單元41，而僅能針對(duì)襯底S外露于平臺(tái)承載單元41的部分進(jìn)行承托，另夕卜，再加上現(xiàn)在的平面電子裝置，例如顯示裝置、觸控裝置等等，都要求輕薄化，以致于電子裝置內(nèi)所使用的襯底也需要相當(dāng)?shù)谋⌒位?，而襯底的彎曲量會(huì)隨著薄型化的設(shè)計(jì)而變大，因此，公知襯底支持單元無(wú)法對(duì)薄化襯底的彎曲量提供合適的支持效果，以致影響工藝的進(jìn)行以及廣品的良率。
[0005]因此，如何提供一種襯底支持裝置，能高效率地應(yīng)用于這些薄化襯底而能提供合適的支持效果以應(yīng)對(duì)薄化襯底的彎曲量，進(jìn)而提升工藝質(zhì)量及產(chǎn)品良率，實(shí)為當(dāng)前重要課題之一。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的在于提供一種襯底支持裝置，其具有創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)而能高效率地應(yīng)用于這些薄化襯底并提供合適的支持效果以應(yīng)對(duì)薄化襯底的彎曲量，進(jìn)而提升工藝質(zhì)量及產(chǎn)品良率。另外，本發(fā)明也提供一種機(jī)臺(tái)裝置，其具有上述的襯底支持
目.ο
[0007]為達(dá)上述目的，本發(fā)明的一種襯底支持裝置包含承載單元以及至少一個(gè)襯底支持單元。襯底支持單元可移動(dòng)地連接于承載單元，并具有至少兩個(gè)第一延伸元件以支持襯底。這些第一延伸元件朝第一方向延伸且兩者之間具有間距。
[0008]在一個(gè)實(shí)施例中，承載單元還包含有承載臂及移動(dòng)件，移動(dòng)件設(shè)于承載臂內(nèi)。同時(shí)，襯底支持單元包含有連接于這些第一延伸元件之間的連接件，而移動(dòng)件與該連接件相連接。
[0009]在一個(gè)實(shí)施例中，這些第一延伸元件連接于連接件的兩端，并分別延伸設(shè)置于承載臂的兩側(cè)。
[0010]在一個(gè)實(shí)施例中，襯底支持裝置包含有兩個(gè)襯底支持單元，而這些襯底支持單元分別設(shè)置于承載單元上，并可朝彼此作相對(duì)移動(dòng)，其中，這些襯底支持單元之間還限定有支持區(qū)，這些第一延伸元件分別朝該支持區(qū)延伸設(shè)置。
[0011]在一個(gè)實(shí)施例中，襯底支持裝置包含有兩個(gè)側(cè)向支持單元，且這些側(cè)向支持單元設(shè)在支持區(qū)的兩側(cè)，且與這些襯底支持單元不同側(cè)，這些襯底支持單元與這些側(cè)向支持單元同時(shí)支持襯底。
[0012]為達(dá)上述目的，本發(fā)明的一種機(jī)臺(tái)裝置包含有襯底支持裝置及平臺(tái)承載單元，并可在襯底支持裝置與平臺(tái)承載單元之間移動(dòng)或承載襯底，其主要特征在于:襯底支持裝置使用如上所述的任一襯底支持裝置，并且平臺(tái)承載單元具有對(duì)應(yīng)第一延伸元件數(shù)量的凹部，第一延伸元件可對(duì)應(yīng)容置凹部?jī)?nèi)。
[0013]承上所述，本發(fā)明的一種襯底支持裝置的襯底支持單元還設(shè)置至少兩個(gè)第一延伸元件以支持襯底，并且這些第一延伸元件朝第一方向延伸且兩者之間具有一間距。當(dāng)襯底由襯底支持裝置所支持時(shí)，朝第一方向延伸的兩個(gè)第一延伸元件能擴(kuò)大支持范圍，進(jìn)而提供充足的支持效果以應(yīng)對(duì)薄化襯底的彎曲量，進(jìn)而提升工藝質(zhì)量及產(chǎn)品良率。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為一種公知機(jī)臺(tái)裝置4的示意圖。
[0015]圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置的局部的示意圖。
[0016]圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置的另一示意圖。
[0017]圖4A及圖4B為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置的另外的示意圖。
[0018]圖4C及圖4D分別為圖4A及圖4B的襯底支持裝置的側(cè)向支持單元的側(cè)視示意圖。
[0019]圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的機(jī)臺(tái)裝置的俯視示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]以下將參照相關(guān)附圖，說(shuō)明依據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的一種襯底支持裝置及機(jī)臺(tái)裝置，其中相同的元件將以相同的參照符號(hào)加以說(shuō)明。
[0021]圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置I的局部的示意圖。如圖2所示，襯底支持裝置I包含承載單元11、至少一個(gè)襯底支持單元12。本實(shí)施例的襯底支持裝置I可應(yīng)用于支持和/或傳輸襯底，襯底例如為玻璃襯底，并可例如應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝或其它襯底加工工藝，在此并不限制。
[0022]承載單元11用以支持襯底支持單元12。本實(shí)施例不限制承載單元11的形狀及材質(zhì)。在本實(shí)施例中，承載單元11還包含有承載臂111及移動(dòng)件112，移動(dòng)件112設(shè)于承載臂111內(nèi)。移動(dòng)件112例如為直線驅(qū)動(dòng)元件并可例如包含汽缸(cylinder)，其與襯底支持單元12連接并驅(qū)動(dòng)襯底支持單元12進(jìn)行直線運(yùn)動(dòng)。
[0023]襯底支持單元12可移動(dòng)地連接于承載單元11，并具有至少兩個(gè)第一延伸元件121以支持襯底(圖未繪示)，這些第一延伸元件121朝第一方向Dl延伸且兩者之間具有一間距。另外，在本實(shí)施例中，襯底支持單元12包含有連接于第一延伸元件121之間的連接件122，且移動(dòng)件112與連接件122相連接。在此，連接件122呈π字型并且承載臂111通過(guò)連接件122的凹槽，如此，經(jīng)由此特殊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可使得整個(gè)襯底支持單元12所占體積減少。當(dāng)然，上述π字型結(jié)構(gòu)僅為舉例說(shuō)明，本發(fā)明并非以此為限。此外，本實(shí)施例的第一延伸元件121連接于連接件122的兩端，并分別延伸設(shè)置于承載臂111的兩側(cè)。
[0024]圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置I的另一示意圖，其中，襯底支持裝置I包含兩個(gè)襯底支持單元12，分別設(shè)置于承載臂111的兩端并用以支持襯底S。并且，這些襯底支持單元12分別設(shè)置于承載單元11上，并可朝彼此作相對(duì)移動(dòng)，在此通過(guò)上述的移動(dòng)件112而作相對(duì)移動(dòng)。在本實(shí)施例中，可通過(guò)改變這些第一延伸元件121的長(zhǎng)度，因而能對(duì)襯底S提供更充足的支撐力量與面積，使得襯底S的下垂量減少，在此襯底的最大下垂量以25mm為例，因而有助于工藝質(zhì)量與產(chǎn)品良率。
[0025]圖4A及圖4B為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的襯底支持裝置I的另外的示意圖，其中，襯底支持裝置I除了包含兩襯底支持單元12之外，還包含至少兩個(gè)側(cè)向支持單元13，其分別由圖4C及圖4D所示，并且圖4A與圖4B顯示襯底支持裝置I的兩種不同動(dòng)作狀態(tài)，其中，圖4A為襯底支持裝置I處于非抓取襯底的狀態(tài)，而圖4B則為襯底支持裝置I處于抓取襯底S的狀態(tài)。在本實(shí)施例中，這些襯底支持單元12之間還限定有支持區(qū)SA(如圖4B所示)，兩個(gè)襯底支持單元12的這些第一延伸元件121分別朝支持區(qū)SA延伸設(shè)置。需注意的是，圖中所示的支持區(qū)SA的大小并非用以限制本發(fā)明，在此重點(diǎn)為支持區(qū)SA的所在位置。此外，這些側(cè)向支持單元13設(shè)在支持區(qū)SA的兩側(cè)，且與這些襯底支持單元12不同側(cè)。這些襯底支持單元12與這些側(cè)向支持單元13同時(shí)支持襯底S。圖4C為圖4A的襯底支持裝置I的側(cè)向支持單元13的側(cè)視示意圖，圖4D為圖4B的襯底支持裝置I的側(cè)向支持單元13的側(cè)視示意圖，在此，當(dāng)欲抓取該襯底S時(shí)，側(cè)向支持單元13會(huì)向下翻轉(zhuǎn)，并使側(cè)向支持單元13的表面131位于襯底S下方。經(jīng)由側(cè)向支持單元13所提供的側(cè)向支持力而能對(duì)襯底S提供更充足的支撐力量與面積，使得襯底S的下垂量進(jìn)一步地減少。
[0026]圖5為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的機(jī)臺(tái)裝置3的俯視示意圖，其中，機(jī)臺(tái)裝置3包含如上所述的襯底支持裝置I及平臺(tái)承載單元2。并且，該機(jī)臺(tái)裝置3可在襯底支持裝置I與平臺(tái)承載單元2之間移動(dòng)或承載襯底S。其中，該平臺(tái)承載單元2具有對(duì)應(yīng)第一延伸元件121數(shù)量的凹部21 (以4個(gè)為例)，第一延伸元件121可對(duì)應(yīng)容置于凹部21內(nèi)。由于本發(fā)明的平臺(tái)承載單元2需對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)而具有對(duì)應(yīng)數(shù)量的凹部21以容置第一延伸元件121，使這些第一延伸元件121可朝該平臺(tái)承載單元2的中央延伸，不受限于該平臺(tái)承載單元2，穿過(guò)這些凹部21而進(jìn)行動(dòng)作，并因而對(duì)襯底S提供更多的支持力量。
[0027]綜上所述，本發(fā)明的一種襯底支持裝置的襯底支持單元還設(shè)置至少兩個(gè)第一延伸元件以支持襯底，并且這些第一延伸元件朝第一方向延伸且兩者之間具有一間距。當(dāng)襯底由襯底支持裝置所支持時(shí)，朝第一方向延伸的兩個(gè)第一延伸元件能擴(kuò)大支持范圍，進(jìn)而提供充足的支持效果以應(yīng)對(duì)薄化襯底的彎曲量，進(jìn)而提升工藝質(zhì)量及產(chǎn)品良率。
[0028]以上所述僅為舉例性，而非為限制性。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇，而對(duì)其進(jìn)行的等效修改或變更，均應(yīng)包含于隨附的權(quán)利要求范圍中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種襯底支持裝置，包含: 承載單元；以及 至少一個(gè)襯底支持單元，其可移動(dòng)地連接于該承載單元，并具有至少兩個(gè)第一延伸元件以支持襯底，所述第一延伸元件朝第一方向延伸且兩者之間具有間距。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支持裝置，其中該承載單元還包含有承載臂及移動(dòng)件，該移動(dòng)件設(shè)于該承載臂內(nèi)，同時(shí)，該襯底支持單元包含有連接于所述第一延伸元件之間的連接件，而該移動(dòng)件與該連接件相連接。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底支持裝置，其中所述第一延伸元件連接于該連接件的兩端，并分別延伸設(shè)置于該承載臂的兩側(cè)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底支持裝置，其中該襯底支持裝置包含有兩個(gè)襯底支持單元，而所述襯底支持單元分別設(shè)置于該承載單元上，并可朝彼此作相對(duì)移動(dòng)，其中，所述襯底支持單元之間還限定有支持區(qū)，所述第一延伸元件分別朝該支持區(qū)延伸設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底支持裝置，其中該襯底支持裝置包含有兩個(gè)襯底支持單元，而所述襯底支持單元分別設(shè)置于該承載單元上，并可朝彼此作相對(duì)移動(dòng)，其中，所述襯底支持單元之間還限定有支持區(qū)，所述第一延伸元件分別朝該支持區(qū)延伸設(shè)置。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的襯底支持裝置，其中該襯底支持裝置包含有兩個(gè)側(cè)向支持單元，且所述側(cè)向支持單元設(shè)在該支持區(qū)的兩側(cè)，且與所述襯底支持單元不同側(cè)，所述襯底支持單元與所述側(cè)向支持單元同時(shí)支持該襯底。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底支持裝置，其中該襯底支持裝置包含有兩個(gè)側(cè)向支持單元，且所述側(cè)向支持單元設(shè)在該支持區(qū)的兩側(cè)，且與所述襯底支持單元不同側(cè)，所述襯底支持單元與所述側(cè)向支持單元同時(shí)支持該襯底。8.一種機(jī)臺(tái)裝置，其包含有襯底支持裝置及平臺(tái)承載單元，并可在該襯底支持裝置與該平臺(tái)承載單元之間移動(dòng)或承載襯底，其主要特征在于: 該襯底支持裝置，其使用如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的襯底支持裝置； 該平臺(tái)承載單元，其具有對(duì)應(yīng)該第一延伸元件數(shù)量的凹部，該第一延伸元件可對(duì)應(yīng)容置該凹部?jī)?nèi)。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK106033739SQ201510120844
【公開(kāi)日】2016年10月19日
【申請(qǐng)日】2015年3月19日
【發(fā)明人】李自強(qiáng)
【申請(qǐng)人】南京瀚宇彩欣科技有限責(zé)任公司, 瀚宇彩晶股份有限公司