另外，設(shè)備可作其他調(diào)整(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位)，且本文使用的空間相對(duì)術(shù)語相應(yīng)地進(jìn)行解釋。此外，還應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)層被稱為在兩層“之間”時(shí)，可為兩層之間的唯一層，或者也可存在一個(gè)或多個(gè)中間層。
[0031]本文所用術(shù)語僅僅出于描述特定實(shí)施例的目的，而非旨在限定本發(fā)明構(gòu)思。如本文使用的單數(shù)形式的“一個(gè)(a，an)”和“該/所述(the)”旨在還包含復(fù)數(shù)形式，除非上下文明確指出并非如此。還應(yīng)當(dāng)理解的是，在該說明書中使用術(shù)語“包含(comprises和/或comprising) ”時(shí)，指定存在所述特征、整體、步驟、操作、構(gòu)件、和/或組件，但是不排除存在或附加一個(gè)或多個(gè)其他特征、整體、步驟、操作、構(gòu)件、組件、和/或以上的組合。如本文所用，術(shù)語“和/或”包括列出的一個(gè)或多個(gè)關(guān)聯(lián)項(xiàng)目的任何和所有組合。此外，術(shù)語“示例性”的目的是指例子或?qū)嵗?br>[0032]應(yīng)當(dāng)理解，當(dāng)構(gòu)件或?qū)颖环Q為“在…上”、“連接至”、“耦合至”、或“鄰近”另一個(gè)構(gòu)件或?qū)訒r(shí)，可為直接在…上、直接連接至、直接耦合至、或直接鄰近另一個(gè)構(gòu)件或?qū)?，或可存在中間構(gòu)件或?qū)?。與此相反，當(dāng)一個(gè)構(gòu)件被稱為“直接在…上”、“直接連接至”、“直接耦合至”、或“直接鄰近”另一個(gè)構(gòu)件或?qū)訒r(shí)，不存在中間構(gòu)件或?qū)印?br>[0033]除非另有定義，本文使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)具有與本發(fā)明構(gòu)思所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員普遍理解的含義相同的含義。還應(yīng)當(dāng)理解，術(shù)語，例如在常用詞典中定義的那些術(shù)語，應(yīng)解釋為具有與它們?cè)谙嚓P(guān)領(lǐng)域和/或本說明書的背景中的含義一致的含義，不能在理想或過于正式的意義中解釋，除非本文明確定義如此。
[0034]在以下描述中，應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)一個(gè)構(gòu)件，例如層、部分、基板、板或構(gòu)件，被稱為“在另一個(gè)構(gòu)件上”時(shí)，該構(gòu)件可為直接在另一個(gè)構(gòu)件上，或者可存在中間構(gòu)件。相反的，術(shù)語“直接”意味著沒有中間構(gòu)件。
[0035]圖1為根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例的基板處理設(shè)備的平面圖。
[0036]參見圖1，基板處理設(shè)備10可具有索引模塊100和工藝處理模塊200。索引模塊100可包括裝載場(chǎng)120和傳送框架140。裝載場(chǎng)120、傳送框架140和工藝處理模塊200可呈直線順序排列。在下文中，裝載場(chǎng)120、傳送框架140和工藝處理模塊200排列的方向可稱為“第一方向”12。當(dāng)從上方看時(shí)，垂直于第一方向12的方向可稱為“第二方向”14，垂直于由第一方向12和第二方向14限定(或者包括第一方向12和第二方向14)的平面的方向可稱為“第三方向” 16。
[0037]接收基板W的載體130可被平穩(wěn)地放置在裝載場(chǎng)120上。裝載場(chǎng)120可為多個(gè)，且多個(gè)裝載場(chǎng)120可沿第二方向14呈直線排列。示例性地，在圖1中，本發(fā)明構(gòu)思實(shí)施例的裝載場(chǎng)120的數(shù)量為4。然而，裝載場(chǎng)120的數(shù)量可根據(jù)例如工藝效率、占地(footprint)等條件增加或減少。載體130上可形成有多個(gè)槽(未示出)，以支撐基板W的邊緣。上述槽可在第三方向16上設(shè)置為多個(gè)?；錡可放置在載體130中，以使基板以彼此間隔分開的狀態(tài)沿第三方向16疊放。前端開啟式晶圓傳送盒(FOUP)可用作為載體130。
[0038]工藝處理模塊200可包括緩沖單元220、傳送室240和工藝室260 ( 一個(gè)或多個(gè))。傳送室240可被設(shè)置為使得它的長度方向平行于第一方向12。工藝室260可沿第二方向14設(shè)置在傳送室240的兩側(cè)。工藝室260可設(shè)置在傳送室240的一側(cè)和另一側(cè)，以便以傳送室240為中心對(duì)稱。工藝室260的一部分可沿傳送室240的長度方向排列。此外，工藝室260的一部分可被設(shè)置為疊放在彼此上。也即，工藝室260可以A乘B矩陣的方式設(shè)置在位于傳送室240 —側(cè)。此時(shí)，“A”可表示沿第一方向12呈直線排列的工藝室260的數(shù)量，“B”可表示沿第三方向16呈直線排列的工藝室260的數(shù)量。當(dāng)四個(gè)或六個(gè)工藝室260設(shè)置在傳送室240的一側(cè)時(shí)，工藝室260可以2乘2或3乘2的方式設(shè)置。工藝室260的數(shù)量可增加或減少。不同于以上所述，工藝室260可僅設(shè)置在傳送室240的一側(cè)。不同于以上所述，工藝室260可設(shè)置在傳送室240的一側(cè)或兩側(cè)以形成單層。
[0039]緩沖單元220可設(shè)置在傳送框架140和傳送室240之間。將基板W在傳送室240和傳送框架140之間傳送之前，緩沖單元220可為基板提供停留空間。緩沖單元220內(nèi)可提供有放置基板W的槽(未示出)。多個(gè)槽可設(shè)置為沿第三方向16彼此間隔。緩沖單元220可具有朝向傳送框架140的開放表面和朝向傳送室240的開放表面。
[0040]傳送框架140可將基板W在緩沖單元220和放置在裝載場(chǎng)120上的載體130之間傳送。傳送框架140處可設(shè)置有索引導(dǎo)軌142和索引機(jī)械手144。索引導(dǎo)軌142可被設(shè)置為使得它的長度方向平行于第二方向14。索引機(jī)械手144可安裝在索引導(dǎo)軌142上，且可沿索引導(dǎo)軌142朝第二方向14直線移動(dòng)。索引機(jī)械手144可包括基部144a、主體144b和索引臂144c?；?44a可安裝為沿索引導(dǎo)軌142是可移動(dòng)的。主體144b可連接到基部144a。主體144b可設(shè)置為在基部144a上沿第三方向16是可移動(dòng)的。此外，主體144b可設(shè)置為在基部144a上是可旋轉(zhuǎn)的。索引臂144c可連接到主體144b，使得索引臂144c相對(duì)于主體144b可向前和向后移動(dòng)。索引臂144c可為多個(gè)，且多個(gè)索引臂144c可彼此獨(dú)立地被驅(qū)動(dòng)。在索引臂144c沿第三方向16彼此間隔的情況下，索引臂144c可被排列為疊放在彼此上。一部分索引臂144c可用于將基板W從工藝處理模塊200傳送到載體130，且剩余的一部分索引臂144c可用于將基板W從載體130傳送到工藝處理模塊200，從而當(dāng)索引機(jī)械手144將基板W搬入或搬出時(shí)，防止由未經(jīng)工藝處理的基板W產(chǎn)生的顆粒附著到基板
[0041]傳送室240可將基板W在緩沖單元220和工藝室260之間傳送，以及多個(gè)工藝室260之傳送。在傳送室240處可設(shè)置有導(dǎo)軌242和主機(jī)械手244。導(dǎo)軌242可設(shè)置為使得它的長度方向平行于第一方向12。主機(jī)械手244可安裝在導(dǎo)軌242上，并可沿第一方向12在導(dǎo)軌242上直線移動(dòng)。主機(jī)械手244可包括基部244a、主體244b和主臂244c?；?44a可安裝為沿導(dǎo)軌242是可移動(dòng)的。主體244b可連接到基部244a。主體244b可設(shè)置為在基部244a上沿第三方向16是可移動(dòng)的。此外，主體244b可被設(shè)置為在基部244a上是可旋轉(zhuǎn)的。主臂244c可連接到主體244b，使得主臂244c相對(duì)于主體244b可向前和向后移動(dòng)。主臂244c可為多個(gè)，且多個(gè)主臂244c可彼此獨(dú)立地被驅(qū)動(dòng)。主臂244c可設(shè)置為以主臂244c彼此間隔的狀態(tài)沿第三方向16疊放在彼此上。用于將基板W從緩沖單元220傳送到工藝室260的主臂244c可不同于用于將基板W從工藝室260傳送到緩沖單元220的主臂。
[0042]工藝室260可包括用于清洗基板W的基板處理設(shè)備1000。根據(jù)清洗工藝的類型，基板處理設(shè)備1000的結(jié)構(gòu)可以是不同的?？蛇x地，工藝室260的基板處理設(shè)備1000可具有相同的結(jié)構(gòu)。可選地，工藝室260可被分成多個(gè)組。在這種情形中，相同組中的基板處理設(shè)備1000可具有相同結(jié)構(gòu)；另一方面，不同組中的基板處理設(shè)備1000可具有不同結(jié)構(gòu)。例如，在工藝室160被分成兩組的情形中，第一組中的工藝室260可設(shè)置在傳送室240的一偵牝第二組中的工藝室260可設(shè)置在傳送室240的另一側(cè)?？蛇x地，在傳送室240的一側(cè)和另一側(cè)，第一組中的工藝室260可設(shè)置在下層，第二組中的工藝室260可設(shè)置在上層。工藝室260可基于所用化學(xué)制品的類型或所用清洗方式的類型來分為上述第一組和第二組。
[0043]在下文中，將描述用于使用處理溶液清洗基板W的基板處理設(shè)備1000的實(shí)施例。圖2為根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施例的基板處理設(shè)備1000的剖面圖。
[0044]基板處理設(shè)備1000可包括殼體1100、處理容器1200、支撐單元1400、溶液供應(yīng)單元1600、升降單元2000和氣流供應(yīng)單元1700。
[0045]殼體1100可提供密閉的內(nèi)部空間。殼體1100可以長方體的形式形成。
[0046]處理容器1200可提供處理空間，在該處理空間中執(zhí)行基板處理工藝，且所述處理空間的頂端可開放。處理容器1200可包括第一收集槽1210、第二收集槽1230、第三收集槽1250、輔助收集槽1270和基槽1280。
[0047]收集槽1210、1230、1250和1270可用于收集用于工藝的處理溶液之中的不同的處理溶液。第一收集槽1210可以圍繞支撐單元1400的環(huán)形形式設(shè)置，第二收集槽1230可以圍繞第一收集槽1210的環(huán)形形式設(shè)置，第三收集槽1250可以圍繞第二收集槽1230的環(huán)形形式設(shè)置。輔助收集槽1270可以圍繞第三收集槽1250的上部的環(huán)形形式設(shè)置。收集槽1210、1230、1250和1270可上下疊放，且收集槽1210、1230、1250和1270的入口可由后面將要描述的升降單元2000獨(dú)立地打開。第一收集槽1210的內(nèi)部空間R1、第一收集槽1210和第二收集槽1230之間的空間R2、第二收集槽1230和第三收集槽1250之間的空間R3、以及第三收集槽1250和輔助收集槽1270之間的空間R4可構(gòu)成以下空間，該空間允許處理溶液提供到第一收集槽1210、第二收集槽1230、第三收集槽1250和輔助收集槽1270，然后流入到排出管線1290中。排出管線1290與收集槽1210、1230、1250和1270連接，且豎直向下延伸。排出管線1290可分別將通過收集槽1210、1230、1250和1270流入的處理溶液排出。排出的處理溶液可通過外部的處理溶液回收系統(tǒng)回收。
[0048]第一收集槽1210可具有內(nèi)壁1211、底壁1213、外壁1215和導(dǎo)流壁(guidewall) 1217。內(nèi)壁1211、底壁1213、外壁1215和導(dǎo)流壁1217中的每個(gè)可具有環(huán)形形狀。外壁1215可具有傾斜壁1215a和豎直壁1215b，傾斜壁1215a在遠(yuǎn)離支撐單元1400的方向上向下傾斜，豎直壁1215b在從