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硅晶片外部的電感器/變壓器的制造方法_2

文檔序號:8944523閱讀:來源:國知局
示例性電感器232。電感器232的每個匝236包括形成(例如,沉積)在內(nèi)插層212內(nèi)的一對導(dǎo)電(例如,銅)柱240。例如,可以在內(nèi)插層212中形成(例如激光鉆孔的)過孔(即,孔)。利用銅或另一合適導(dǎo)電材料填充過孔,以形成導(dǎo)電塞或柱240。導(dǎo)電跡線244連接在內(nèi)插層212的第二表面224上的、柱240的第一端248,以形成電感器232的匝236。僅作為示例,使用導(dǎo)電焊盤256,將導(dǎo)電柱240的第二端252連接到焊料凸塊220。
[0029]電感器232的電感L對應(yīng)于例如L = ΑΝ2,其中A對應(yīng)于電感器232的面積,N對應(yīng)于電感器232的匝數(shù)。如圖3所示,面積A對應(yīng)于柱240之間的間隔與柱240的高度(即,內(nèi)插層212的厚度)的乘積。
[0030]圖4示出具有統(tǒng)稱為匝236的多個匝236-1、236-2和236_3的一個示例性電感器232。為了形成圖4所示的具有多個匝236的電感器232,導(dǎo)電跡線260將匝中的第一匝236-1中的柱240的第二端252連接到匝中的第二匝236-2中的柱240的第二端252。導(dǎo)電跡線260可以形成在內(nèi)插層212的第一表面216上。
[0031]圖5示出包括統(tǒng)稱為電感器304的多個電感器304-1........304-η的示例性內(nèi)插層300。僅作為示例,將電感器304-1示出為多匝電感器,而將電感器304-η示出為單匝電感器。圖6示出圖5的示例性內(nèi)插層300的俯視圖。
[0032]圖7示出根據(jù)本公開原理的另一實施方式的示例性集成電路700。可以直接在集成電路700的表面上形成一個或多個單匝電感器704,而無需使用內(nèi)插層。例如,可以直接在集成電路700的表面上形成焊料凸塊和/或銅柱708的對。形成在集成電路700的表面上的導(dǎo)電跡線712將銅柱708連接在一起,以形成電感器704。
[0033]圖8示出根據(jù)本公開原理的FinFET晶片800??梢詫⒕哂袦囟扰蛎浵禂?shù)大致等于硅晶片的溫度膨脹系數(shù)的玻璃襯底804形成在(例如鍵合到)FinFET晶片的表面上。導(dǎo)電(例如,銅)柱808可以形成在玻璃襯底804內(nèi),并與相應(yīng)的導(dǎo)電跡線812連接(例如上面在圖2中所述),以提供連接到FinFET晶片800的一個或多個電感器816。
[0034]前面的描述本質(zhì)上僅是說明性的,決不旨在限制本公開、其應(yīng)用或使用。本公開的廣義教導(dǎo)可以以各種各樣的形式實施。因此,盡管本公開包括特定示例,但本公開的實際范圍并不應(yīng)限制于此,因為在研究了附圖、說明書和下面的權(quán)利要求后,其它修改將變得顯而易見。如這里使用的,用語“A、B和C中的至少一個”應(yīng)認為是指使用非排他邏輯或OR的邏輯(A或B或C)。應(yīng)理解到,可以按照不同的順序(或者并發(fā)地)執(zhí)行方法內(nèi)的一個或多個步驟,而不更改本公開的原理。
【主權(quán)項】
1.一種集成電路封裝,包括: 集成電路;以及 內(nèi)插層,布置在所述集成電路之上,所述內(nèi)插層包括至少部分地形成在所述內(nèi)插層內(nèi)的電感器,所述電感器包括: 第一對導(dǎo)電柱,所述第一對導(dǎo)電柱包括分別形成在第一過孔和第二過孔內(nèi)的第一導(dǎo)電柱和第二導(dǎo)電柱,其中所述第一過孔和所述第二過孔穿過所述內(nèi)插層而形成, 第一導(dǎo)電跡線,所述第一導(dǎo)電跡線跨接所述第一導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的第一表面上的第一端和所述第二導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端,以及 第一導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu),所述第一導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu)連接在α)所述第一導(dǎo)電柱的第二端和所述第二導(dǎo)電柱的第二端與αυ所述集成電路之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述第一導(dǎo)電跡線和所述第一對導(dǎo)電柱中的至少一項包括銅。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述內(nèi)插層包括玻璃和二氧化硅中的至少一項。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述內(nèi)插層通過使用布置在所述內(nèi)插層的第二表面與所述集成電路之間的多個焊料凸塊,連接到所述集成電路。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的集成電路封裝,其中所述第一互連結(jié)構(gòu)包括所述焊料凸塊。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述電感器進一步包括: 第二對導(dǎo)電柱,所述第二對導(dǎo)電柱包括分別形成在第三過孔和第四過孔內(nèi)的第三導(dǎo)電柱和第四導(dǎo)電柱,其中所述第三過孔和所述第四過孔穿過所述內(nèi)插層而形成, 第二導(dǎo)電跡線,所述第二導(dǎo)電跡線跨接所述第三導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端和所述第四導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端, 第二導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu),所述第二導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu)連接在(i)所述第三導(dǎo)電柱的第二端和所述第四導(dǎo)電柱的第二端與(ii)所述集成電路之間,以及 第三導(dǎo)電跡線,所述第三導(dǎo)電跡線跨接所述第二導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的第二表面上的所述第二端和所述第三導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第二表面上的所述第二端。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述第一導(dǎo)電柱和所述第二導(dǎo)電柱垂直于所述集成電路的第一表面。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述內(nèi)插層包括多個所述電感器。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路封裝,其中所述第一對導(dǎo)電柱和所述第一導(dǎo)電跡線對應(yīng)于所述電感器的一匝。10.一種形成集成電路封裝的方法,所述方法包括: 在集成電路之上形成內(nèi)插層; 至少部分地在所述內(nèi)插層內(nèi)形成電感器,其中形成所述電感器包括: 穿過所述內(nèi)插層形成第一過孔和第二過孔, 分別在所述第一過孔和所述第二過孔內(nèi)形成包括第一導(dǎo)電柱和第二導(dǎo)電柱的第一對導(dǎo)電柱, 跨接所述第一導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的第一表面上的第一端和所述第二導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端,連接第一導(dǎo)電跡線,以及 在α)所述第一導(dǎo)電柱的第二端和所述第二導(dǎo)電柱的第二端與αυ所述集成電路之間,連接第一導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu)。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述第一導(dǎo)電跡線和所述第一對導(dǎo)電柱中的至少一項包括銅。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述內(nèi)插層包括玻璃和二氧化硅中的至少一項。13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,進一步包括:通過使用布置在所述內(nèi)插層的第二表面與所述集成電路之間的多個焊料凸塊,將所述內(nèi)插層連接到所述集成電路。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法,其中所述第一互連結(jié)構(gòu)包括所述焊料凸塊。15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中形成所述電感器進一步包括: 穿過所述內(nèi)插層形成第三過孔和第四過孔; 分別在所述第三過孔和所述第四過孔內(nèi)形成包括第三導(dǎo)電柱和第四導(dǎo)電柱的第二對導(dǎo)電柱; 跨所述第三導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端和所述第四導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第一表面上的第一端,連接第二導(dǎo)電跡線; 在(i)所述第三導(dǎo)電柱的第二端和所述第四導(dǎo)電柱的第二端與(ii)所述集成電路之間,連接第二導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu);以及 跨所述第二導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的第二表面上的所述第二端和所述第三導(dǎo)電柱在所述內(nèi)插層的所述第二表面上的所述第二端,連接第三導(dǎo)電跡線。16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述第一導(dǎo)電柱和所述第二導(dǎo)電柱垂直于所述集成電路的第一表面。17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述內(nèi)插層包括多個所述電感器。18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中所述第一對導(dǎo)電柱和所述第一導(dǎo)電跡線對應(yīng)于所述電感器的一匝。
【專利摘要】本發(fā)明的各個實施例涉及硅晶片外部的電感器/變壓器。本發(fā)明提供一種集成電路封裝,包括集成電路和內(nèi)插層。內(nèi)插層布置在集成電路之上并且包括至少部分地形成在內(nèi)插層內(nèi)的電感器。電感器包括第一對導(dǎo)電柱,第一對導(dǎo)電柱包括分別形成在第一過孔和第二過孔內(nèi)的第一導(dǎo)電柱和第二導(dǎo)電柱。第一過孔和第二過孔穿過內(nèi)插層而形成。電感器進一步包括第一導(dǎo)電跡線和第一導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu),第一導(dǎo)電跡線跨接第一導(dǎo)電柱在內(nèi)插層的第一表面上的第一端和第二導(dǎo)電柱在內(nèi)插層的第一表面上的第一端,第一導(dǎo)電互連結(jié)構(gòu)連接在第一導(dǎo)電柱的第二端和第二導(dǎo)電柱的第二端與集成電路之間。
【IPC分類】H01L21/77, H01F30/06
【公開號】CN105161453
【申請?zhí)枴緾N201410667398
【發(fā)明人】S·薩塔德賈
【申請人】馬維爾國際貿(mào)易有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2014年11月20日
【公告號】US20150137342
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