基板處理單元IA中，旋轉(zhuǎn)卡盤11作為本發(fā)明的“基板保持單元”發(fā)揮功能，噴嘴33、43、53作為本發(fā)明的“處理單元”發(fā)揮功能。另外，臂驅(qū)動部83和臂32、42、52都作為本發(fā)明的“定位單元”發(fā)揮功能。另外，CPU81作為本發(fā)明的“判定單元”和“保持狀態(tài)判定單元”發(fā)揮功能。另外，噴嘴33、43、53還分別具有作為向基板W供給規(guī)定的處理液的“流體供給單元”的功能。
[0142]另外，本發(fā)明并不限于上述的實施方式，只要不脫離本發(fā)明的宗旨，也可以進(jìn)行除上述以外的變更。例如，在上述實施方式中，本發(fā)明涉及的“位移檢測裝置”預(yù)先裝入基板處理單元IA等，專門用于檢測噴嘴33等的位移，但是包括對對象物進(jìn)行拍攝的拍攝單元和基于其圖像來對對象物的位移進(jìn)行檢測的檢測單元的本發(fā)明的位移檢測裝置，并不限于像這樣被裝入設(shè)備內(nèi)，它們也可以被構(gòu)成為獨立的裝置。另外，檢測其位移的對象物也是任意的。
[0143]另外，在上述實施方式中，由照相機72對作為“定位對象物”的噴嘴、33等進(jìn)行拍攝并檢測其位移，這意味著，“定位對象物”本身成為作為“拍攝單元”的照相機72的“拍攝對象物”。但是，本發(fā)明中的拍攝對象物并不限于定位對象物本身，也可以是伴隨該定位對象物的位移而進(jìn)行位移的其他物體。例如，在上述實施方式中，噴嘴33等I對I地安裝于臂32等上，噴嘴33等伴隨臂32等的轉(zhuǎn)動與臂32等一體地進(jìn)行移動。因此，也可以將既是臂32等的一部分又在圖像內(nèi)容易檢測出來的部分設(shè)置為拍攝對象物，通過對該部分進(jìn)行拍攝來檢測其位移，從而間接地檢測噴嘴33等的位移。另外，為了實現(xiàn)該目的，可以在臂32等或噴嘴33等的一部分上，預(yù)先設(shè)置通過圖像處理容易檢測的識別標(biāo)記。
[0144]另外，上述實施方式中，照相機72將基板W的幾乎整個面都納入視野來進(jìn)行拍攝，但這不是必須的。其原因在于，如上所述，在本實施方式的對噴嘴的位移進(jìn)行檢測的目的下，只要能對位于基板W的旋轉(zhuǎn)中心附近的噴嘴進(jìn)行拍攝即可；另外，在對基板W的保持狀態(tài)進(jìn)行判定的目的下，只要基板W的邊緣部E的一部分進(jìn)入拍攝范圍即可。但是，如本實施方式那樣將整個基板W都納入視野來進(jìn)行拍攝的結(jié)構(gòu)優(yōu)點在于，通過教示設(shè)定的噴嘴的位置不限于基板W的旋轉(zhuǎn)中心附近，能夠?qū)⒏鞣N位置設(shè)為本發(fā)明的基準(zhǔn)位置來檢測噴嘴相對于該基準(zhǔn)位置的位移。
[0145]另外，在上述實施方式中，在使用I臺照相機72對多個噴嘴的位移進(jìn)行檢測，并且，使用同一照相機72來判定基板W的保持狀態(tài)。但是，在噴嘴(定位對象物)為I個的情況下，或者不進(jìn)行基板的保持狀態(tài)的判定的情況下，也能適用本發(fā)明的位移檢測方法。
[0146]另外，上述實施方式的基板處理裝置IA等中的“處理單元”，是向基板W供給處理液的噴嘴33等，但不僅是像這樣噴出液體的噴嘴，例如噴出氣體的噴嘴也可以相當(dāng)于本發(fā)明的“處理單元”。另外，如下面例示那樣，與基板W抵接進(jìn)行處理的構(gòu)件，也可以作為本發(fā)明的“處理單元”發(fā)揮功能。
[0147]圖12為表示本發(fā)明的另一個實施方式的主要部分的圖。在上述實施方式中，設(shè)有與基板W相對配置并噴出處理液的噴嘴33等作為本發(fā)明的“處理單元”。取代于此，在圖12所示的例子中，安裝于旋轉(zhuǎn)的臂62的頂端上的刷子63作為“處理單元”發(fā)揮功能，刷子63通過滑動摩擦基板W的表面對基板W進(jìn)行物理清洗。這樣，將與基板W抵接并進(jìn)行處理的“抵接單元”設(shè)置為處理單元的結(jié)構(gòu)，也被包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0148]本發(fā)明優(yōu)選能夠適用于對定位對象物進(jìn)行拍攝來對距基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測的位移檢測裝置和位移檢測方法，例如適合于將對基板進(jìn)行處理的處理單元作為定位對象物的基板處理的技術(shù)領(lǐng)域。
【主權(quán)項】
1.一種位移檢測裝置，對定位對象物相對于基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測，其特征在于， 具有: 拍攝單元，將所述定位對象物作為拍攝對象物，或?qū)殡S所述定位對象物的位移而與所述定位對象物一體地進(jìn)行位移的物體作為拍攝對象物，對該拍攝對象物進(jìn)行拍攝， 檢測單元，基于所述拍攝單元對所述拍攝對象物進(jìn)行拍攝得到的檢測用圖像，對所述定位對象物的位移進(jìn)行檢測； 所述拍攝單元將包含與所述拍攝對象物的位移方向平行的分量和與所述位移方向不平行的分量的方向作為拍攝方向，對所述拍攝對象物進(jìn)行拍攝， 所述檢測單元基于所述檢測用圖像與基準(zhǔn)圖像的圖案匹配結(jié)果，對所述定位對象物相對于所述基準(zhǔn)位置的位移中的與所述拍攝方向不平行的分量進(jìn)行檢測，所述基準(zhǔn)圖像為在所述定位對象物位于所述基準(zhǔn)位置時，所述拍攝單元對所述拍攝對象物進(jìn)行拍攝而得到的圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的位移檢測裝置，其特征在于， 所述檢測單元基于所述檢測用圖像和所述基準(zhǔn)圖像之間的所述拍攝對象物的位置之差，對所述定位對象物的位移進(jìn)行檢測，所述檢測用圖像和所述基準(zhǔn)圖像是使所述拍攝單元相對于所述基準(zhǔn)位置的配置相互相同而拍攝得到的圖像。
3.如權(quán)利要求2所述的位移檢測裝置，其特征在于， 所述檢測單元將從所述基準(zhǔn)圖像裁剪出的包括所述拍攝對象物的部分圖像作為基準(zhǔn)圖案來進(jìn)行圖案匹配，以求出所述拍攝對象物在所述檢測用圖像中的位置。
4.一種基板處理裝置，其特征在于， 具有: 基板保持單元，保持基板， 處理單元，在與所述基板相對配置的狀態(tài)下，對所述基板實施規(guī)定的處理， 定位單元，將所述處理單元定位在與所述基板相對的位置上， 位移檢測單元，具有與權(quán)利要求1?3中任一項所述的位移檢測裝置相同的結(jié)構(gòu)；所述定位對象物為所述處理單元，所述基準(zhǔn)位置為對所述基板開始進(jìn)行所述處理時的所述處理單元的位置。
5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述定位單元能夠使所述處理單元沿著包括所述基準(zhǔn)位置的移動平面移動， 所述拍攝單元配置為光軸與所述移動平面相交。
6.如權(quán)利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述定位單元使所述處理單元進(jìn)行包含與投影在所述移動平面上的所述光軸的方向相平行的分量的移動。
7.如權(quán)利要求4?6中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 該基板處理裝置具有被所述定位單元相互獨立地移動的多個所述處理單元，通過一個拍攝單元對多個所述處理單元進(jìn)行拍攝。
8.如權(quán)利要求4?7中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述基板保持單元將所述基板保持為水平姿勢，所述定位單元使所述處理單元水平移動。
9.如權(quán)利要求4?8中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 該基板處理裝置具有定位判定單元，當(dāng)所述處理單元相對于所述基準(zhǔn)位置的位移的大小超過預(yù)先設(shè)定的閾值時，所述定位判定單元判定為所述處理單元的位置不恰當(dāng)。
10.如權(quán)利要求4?9中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述拍攝單元對所述基板保持單元所保持的所述基板的至少一部分進(jìn)行拍攝， 該基板處理裝置具有保持狀態(tài)判定單元，該保持狀態(tài)判定單元基于所述基板的拍攝結(jié)果，判定所述基板保持單元對所述基板的保持狀態(tài)。
11.如權(quán)利要求4?10中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述處理單元是向所述基板供給規(guī)定的處理流體的流體供給單元。
12.如權(quán)利要求4?10中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于， 所述處理單元是與所述基板表面抵接來對所述基板進(jìn)行處理的抵接單元。
13.一種位移檢測方法，對定位對象物相對于基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測，其特征在于， 包括: 拍攝工序，將所述定位對象物作為拍攝對象物，或?qū)殡S所述定位對象物的位移而與所述定位對象物一體地進(jìn)行位移的物體作為拍攝對象物，并對該拍攝對象物進(jìn)行拍攝來獲取檢測用圖像， 檢測工序，基于所述檢測用圖像，對所述定位對象物的位移進(jìn)行檢測； 在所述拍攝工序中，將包含與所述拍攝對象物的位移方向平行的分量及與所述位移方向不平行的分量的方向作為拍攝方向，并對所述拍攝對象物進(jìn)行拍攝， 在所述檢測工序中，基于所述檢測用圖像與基準(zhǔn)圖像的圖案匹配結(jié)果，對所述定位對象物相對于所述基準(zhǔn)位置的位移中的與所述拍攝方向不平行的分量進(jìn)行檢測，所述基準(zhǔn)圖像為在所述定位對象物位于所述基準(zhǔn)位置的狀態(tài)下，對所述拍攝對象物進(jìn)行拍攝而得到的圖像。
14.如權(quán)利要求13所述的位移檢測方法，其特征在于， 在所述檢測工序之前，在與所述檢測用圖像同一視野下，對定位在所述基準(zhǔn)位置上的所述定位對象物進(jìn)行拍攝，來獲取所述基準(zhǔn)圖像， 在所述檢測工序中，基于所述檢測用圖像與所述基準(zhǔn)圖像之間的所述拍攝對象物的位置之差，對所述定位對象物的位移進(jìn)行檢測。
15.如權(quán)利要求13或14所述的位移檢測方法，其特征在于， 預(yù)先求出與所述拍攝對象物對應(yīng)的部分圖像在所述基準(zhǔn)圖像內(nèi)所占據(jù)的位置的信息來作為基準(zhǔn)信息； 在所述檢測工序中，確定與所述拍攝對象物對應(yīng)的部分圖像在所述檢測用圖像中所占據(jù)的位置，對該位置的信息與所述基準(zhǔn)信息進(jìn)行比較來檢測所述定位對象物的位移。
16.一種基板處理方法，其特征在于， 包括: 基板保持工序，保持基板， 處理單元配置工序，使對所述基板實施規(guī)定的處理的處理單元向預(yù)先設(shè)定的基準(zhǔn)位置移動并與所述基板相對配置， 處理工序，通過所述處理單元對所述基板實施所述處理； 在所述處理工序之前，通過將所述處理單元作為所述定位對象物的權(quán)利要求13?15中任一項所述的位移檢測方法，判定所述處理單元是否定位在所述基準(zhǔn)位置上。
17.如權(quán)利要求16所述的基板處理方法，其特征在于， 當(dāng)所述處理單元相對于所述基準(zhǔn)位置的位移的大小超過預(yù)先設(shè)定的閾值時，判定為所述處理單元的位置不適當(dāng)。
18.如權(quán)利要求17所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述處理單元配置工序之前，還包括教示工序，在該教示工序中，接受用戶對所述處理單元的定位操作，并將所述處理單元被定位后的位置作為基準(zhǔn)位置進(jìn)行存儲； 當(dāng)所述處理單元的位置不恰當(dāng)時，再次執(zhí)行所述教示工序。
19.如權(quán)利要求16?18中任一項所述的基板處理方法，其特征在于， 在所述處理工序之前執(zhí)行保持狀態(tài)判定工序，在所述保持狀態(tài)判定工序中，對在所述基板保持工序中保持的所述基板的至少一部分進(jìn)行拍攝，并基于拍攝結(jié)果，對所述基板的保持狀態(tài)進(jìn)行判定。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種位移檢測單元及檢測方法、基板處理裝置及處理方法，并且，在對定位對象物進(jìn)行拍攝來對距基準(zhǔn)位置的位移進(jìn)行檢測的技術(shù)中，提供一種能夠從一個拍攝方向進(jìn)行拍攝來對定位對象物的位移進(jìn)行檢測，并且拍攝單元的配置的自由度高的技術(shù)。為了檢測在接近或遠(yuǎn)離照相機(72)的方向上移動的噴嘴的位移，將照相機的拍攝方向設(shè)為與噴嘴(53)的移動平面相交的斜方向。在所拍攝的圖像(IM)上，噴嘴(53)的位移反映為上下方向上的移動，通過圖案匹配處理在圖像內(nèi)檢測噴嘴(53)的位置，由此能夠檢測出具有圖像的深度方向的分量的噴嘴(53)的位移。
【IPC分類】H01L21-68, H01L21-67, H01L21-66
【公開號】CN104851822
【申請?zhí)枴緾N201410779302
【發(fā)明人】角間央章
【申請人】斯克林集團(tuán)公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2014年12月16日
【公告號】US20150235368