一種顯示基板的制造方法、顯示基板和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板的制造方法、顯示基板和顯示
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光器件OLED相對于液晶顯示器IXD具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代顯示技術(shù)。
[0003]針對0LED/PLED有機(jī)電致發(fā)光器件，有機(jī)薄膜的形成方法有以下兩種:
[0004]<方法一 > 真空蒸鍍
[0005]適用于有機(jī)小分子，其特點(diǎn)是有機(jī)薄膜的形成不需要溶劑，薄膜厚度均一，但是其設(shè)備投資大、材料利用率低、不適用于大尺寸產(chǎn)品的生產(chǎn)。
[0006]〈方法二〉溶液制成
[0007]具體包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等，適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點(diǎn)是設(shè)備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產(chǎn)上優(yōu)勢突出。
[0008]其中，連續(xù)打印技術(shù)是溶液制程中的重要技術(shù)之一，具有設(shè)備簡單、打印速度快等優(yōu)點(diǎn)。打印過程中，噴嘴快速往返移動(dòng)，所以如圖1所示，連續(xù)打印技術(shù)面臨的問題之一就是打印的有機(jī)功能層薄膜3會(huì)出現(xiàn)在非顯示區(qū)域內(nèi)。
[0009]目前，去除非顯示區(qū)域的有機(jī)功能層薄膜的方法有等離子體蝕刻、激光蝕刻、溶劑清洗等，但是采用上述清潔方法時(shí)會(huì)產(chǎn)生顆粒，影響顯示效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明的目的是提供一種顯示基板的制造方法、顯示基板和顯示裝置，清除打印到非顯示區(qū)域的有機(jī)功能層，同時(shí)避免在清除過程中產(chǎn)生顆粒，影響顯示效果。
[0011]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的制造方法，所述方法包括:
[0012]在所述顯示基板的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層；
[0013]在所述顯不基板上打印有機(jī)功能層；
[0014]剝離所述有機(jī)薄膜層，以去除所述非顯示區(qū)域的所述有機(jī)功能層。
[0015]上述的制造方法，其中，所述有機(jī)功能層包括空穴注入層、空穴傳輸層和發(fā)光層。
[0016]上述的制造方法，其中，所述有機(jī)薄膜層的厚度為3-20微米。
[0017]上述的制造方法，其中，在所述顯示基板的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層之后，所述方法還包括:
[0018]在所述顯示基板上形成像素界定層；
[0019]所述在所述顯不基板上打印有機(jī)功能層具體為:
[0020]在所述像素界定層限定的像素區(qū)域內(nèi)打印所述有機(jī)功能層。
[0021]上述的制造方法，其中，所述在所述顯示基板上形成像素界定層具體包括:
[0022]采用旋涂、刮涂或狹縫涂布方式在所述顯示基板上涂布具有疏水性的光刻膠；
[0023]對所述光刻膠依次進(jìn)行預(yù)烘烤、曝光、顯影和后烘工藝，形成所述像素界定層。
[0024]上述的制造方法，其中，在所述像素界定層限定的像素區(qū)域內(nèi)打印所述有機(jī)功能層具體為:
[0025]在所述像素界定層限定的像素區(qū)域內(nèi)連續(xù)打印所述有機(jī)功能層。
[0026]上述的制造方法，其中，所述在所述顯示基板的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層具體為:
[0027]采用狹縫涂布和噴墨打印的方式在所述顯示基板的非顯示區(qū)域上涂布有機(jī)材料，以形成所述有機(jī)薄膜層。
[0028]上述的制造方法，其中，所述有機(jī)材料能夠?qū)щ姡?br>[0029]所述剝離所述有機(jī)薄膜層具體為:
[0030]將所述有機(jī)薄膜層的兩端分別與電源的兩極連接，導(dǎo)通后產(chǎn)生焦耳熱，利用所述焦耳熱破壞所述像素界定層與所述有機(jī)薄膜層之間的界面，以剝離所述有機(jī)薄膜層。
[0031]上述的制造方法，其中，所述剝離所述有機(jī)薄膜層具體為:
[0032]將所述顯示基板通過紫外線照射，利用所述紫外線產(chǎn)生的能量破壞所述像素界定層與所述有機(jī)薄膜層之間的界面，并采用機(jī)械方式剝離所述有機(jī)薄膜層。
[0033]上述的制造方法，其中，在剝離所述有機(jī)薄膜層，以去除所述非顯示區(qū)域的所述有機(jī)功能層之后，所述方法還包括:
[0034]采用真空蒸鍍的方式形成電子傳輸層、電子注入層和陰極金屬。
[0035]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板，所述顯示基板采用上述任一項(xiàng)所述的制造方法制造。
[0036]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述所述的顯示基板。
[0037]在本發(fā)明實(shí)施例中，首先在顯示基板的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層，然后在顯示基板上打印有機(jī)功能層，最后通過剝離有機(jī)薄膜層，以去除非顯示區(qū)域的所述有機(jī)功能層。上述工藝簡單有效，且過程中不會(huì)產(chǎn)生顆粒，影響顯示效果。
【附圖說明】
[0038]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中采用連續(xù)打印的方式制作有機(jī)薄膜的示意圖；
[0039]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的制作方法的流程示意圖；
[0040]圖3a_3d為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作過程的示意圖；
[0041]其中，主要組件符號(hào)說明:
[0042]1:顯示基板、2:像素界定層、3:有機(jī)功能層、4:噴嘴、5:有機(jī)薄膜層、6:像素區(qū)外、7:像素分隔墻。
【具體實(shí)施方式】
[0043]為使本發(fā)明實(shí)施例要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0044]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的制造方法，所述方法如圖2所示，包括:
[0045]步驟21，在所述顯示基板的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層；
[0046]步驟22，在所述顯示基板上打印有機(jī)功能層；
[0047]步驟23，剝離所述有機(jī)薄膜層，以去除所述非顯示區(qū)域的所述有機(jī)功能層。
[0048]上述過程能夠清除打印到非顯示區(qū)域的有機(jī)功能層，同時(shí)避免在清除過程中產(chǎn)生顆粒，影響顯示效果。
[0049]下面結(jié)合附圖3a_3b詳細(xì)介紹一下上述制造方法。
[0050]本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板制作方法如圖3a所示，先在顯示基板I的非顯示區(qū)域上形成有機(jī)薄膜層5，具體可以采用狹縫涂布和噴墨打印的方式在所述顯示基板I的非顯示區(qū)域上涂布有機(jī)材料，以形成所述有機(jī)薄膜層5。優(yōu)選地，所述有機(jī)薄膜層5經(jīng)過退火處理后的厚度為3-20微米。
[0051]為了限定墨滴精確的噴入指定的像素區(qū)域，因此需要在基板上