本技術(shù)涉及半導(dǎo)體激光器,特別是涉及一種光學(xué)膜以及半導(dǎo)體激光器。
背景技術(shù):
1、在半導(dǎo)體激光器的應(yīng)用中,希望大部分的光都能從單面出射,這就需要在前腔面上鍍制增透膜,在后腔面需要鍍制高反膜,來降低閾值增益。條形半導(dǎo)體激光器前后端面分別鍍高透膜和高反膜,一方面實(shí)現(xiàn)對(duì)腔面的保護(hù),防止空氣污染及發(fā)生氧化反應(yīng),提升半導(dǎo)體激光器的出光性能并延長(zhǎng)了半導(dǎo)體激光器的壽命;另一方面,合理的調(diào)整條形激光器兩個(gè)端面的反射率,優(yōu)化激光器閾值電流、出射效率,最終實(shí)現(xiàn)單面的最大激光功率輸出。
2、在半導(dǎo)體激光器的端面進(jìn)行鍍膜,是通過物理氣相沉積,在被鍍?cè)砻嫘纬筛叩驼凵渎式惶娣植嫉亩鄬咏橘|(zhì)膜堆,來實(shí)現(xiàn)增透膜和高反膜,所以腔面與膜層間的匹配性、膜層的致密性、膜層的穩(wěn)定以及穩(wěn)定的光學(xué)性能等都是保證半導(dǎo)體激光器能夠穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵。例如,目前使用的鍍膜膜系tio2/al203/tio2/al203為多層膜系,這個(gè)膜系的優(yōu)點(diǎn)在于增透效果強(qiáng),al203膜層和ti02膜層匹配性比較高,適用性比較普遍,但tio2與半導(dǎo)體激光器的襯底材料inp的結(jié)合比較弱,一方面鍍制完后,鍍膜牢固性不穩(wěn)定,另一方面易在鍍膜的出光面發(fā)生災(zāi)變光學(xué)鏡面損傷。
3、鑒于此,克服該現(xiàn)有技術(shù)所存在的缺陷是本技術(shù)領(lǐng)域亟待解決的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:如何解決現(xiàn)有的光學(xué)薄膜與半導(dǎo)體激光器的襯底結(jié)合比較弱,導(dǎo)致鍍膜后不牢固,且易在出光面發(fā)生災(zāi)變光學(xué)鏡面損傷的問題。
2、本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
3、一方面,提供一種光學(xué)膜,所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的腔面上,所述光學(xué)膜包括:層疊設(shè)置的打底層、功能層以及保護(hù)層;
4、所述打底層用于鍍?cè)O(shè)在所述半導(dǎo)體激光器的腔面上,所述功能層用于改變所述半導(dǎo)體激光器所發(fā)出的光信號(hào)的折射率,所述保護(hù)層設(shè)置在所述光學(xué)膜的出光面。
5、進(jìn)一步地,所述功能層為透射層,所述透射層包括依次層疊設(shè)置的ti3o5層和sio2層,其中,所述ti3o5層設(shè)置在所述打?qū)由?;所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的前腔面上;
6、或,所述功能層為反射層,所述反射層包括依次層疊設(shè)置的ti3o5層、sio2層、ti3o5層和sio2層,其中,所述ti3o5層設(shè)置在所述打底層上;所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的后腔面上。
7、進(jìn)一步地,當(dāng)所述半導(dǎo)體激光器的波段為1270nm時(shí),所述ti3o5層的厚度為69.44nm~70.44nm,所述sio2層的厚度為159.98nm~160.98nm;
8、當(dāng)所述半導(dǎo)體激光器的波段為1310nm時(shí),所述ti3o5層的厚度為74.44nm~75.44nm,所述sio2層的厚度為155.36nm~156.36nm。
9、進(jìn)一步地,所述打底層為al2o3層,所述保護(hù)層為類金剛膜層。
10、進(jìn)一步地,所述al2o3層的厚度為15nm~20nm,所述類金剛膜層的厚度為10nm~15nm。
11、進(jìn)一步地,當(dāng)所述半導(dǎo)體激光器的波段為1310nm時(shí),所述al2o3層的折射率為1.6~1.611,所述ti3o5層的折射率為2.294~2.3,所述sio2層的折射率為1.4~1.443。
12、進(jìn)一步地,所述類金剛膜層包括無氫類金剛石碳膜和氫化類金剛石碳膜。
13、另一方面,提供一種半導(dǎo)體激光器,包括半導(dǎo)體激光器本體,所述半導(dǎo)體激光器本體的腔面上鍍有所述的光學(xué)膜。
14、進(jìn)一步地,當(dāng)所述功能層為透射層時(shí),所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的前腔面上;當(dāng)所述功能層為反射層時(shí),所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的后腔面上;
15、進(jìn)一步地,所述半導(dǎo)體激光器的襯底材料為inp。
16、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果在于:
17、本實(shí)用新型對(duì)傳統(tǒng)半導(dǎo)體激光器的鍍膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn),首層采用打底層,以與半導(dǎo)體激光器的基底材料有更好的結(jié)合,其次,在中間設(shè)置一層功能層,根據(jù)鍍膜位置以及功能的不同選用不同的膜層結(jié)構(gòu)來組成功能層,可以使得功能層更好地實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體激光器所發(fā)出光信號(hào)的透射或者反射;最后,在最外層加鍍一層保護(hù)層,保護(hù)層的組成材料具有優(yōu)良的光學(xué)性能及穩(wěn)定物理性能。本實(shí)用新型所提出的光學(xué)膜,一方面可提高半導(dǎo)體激光器的襯底材料與光學(xué)膜結(jié)合的牢固性,防止脫膜現(xiàn)象發(fā)生;另一方面,保護(hù)層可以使半導(dǎo)體激光器具有防氧化以及防水的功能,更能避免端面氧化導(dǎo)致的端面堆積熱能,進(jìn)而避免了熱能堆積,提高了靜電放電測(cè)試(electro-static?discharge,簡(jiǎn)寫為esd)能力,增加了半導(dǎo)體激光器的壽命。
1.一種光學(xué)膜,其特征在于,所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的腔面上,所述光學(xué)膜包括:層疊設(shè)置的打底層、功能層以及保護(hù)層;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜,其特征在于,所述功能層為透射層,所述透射層包括依次層疊設(shè)置的ti3o5層和sio2層,其中,所述ti3o5層設(shè)置在所述打底層上;所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的前腔面上;
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜,其特征在于,當(dāng)所述半導(dǎo)體激光器的波段為1270nm時(shí),所述ti3o5層的厚度為69.44nm~70.44nm,所述sio2層的厚度為159.98nm~160.98nm;
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜,其特征在于,所述打底層為al2o3層,所述保護(hù)層為類金剛膜層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)膜,其特征在于,所述al2o3層的厚度為15nm~20nm,所述類金剛膜層的厚度為10nm~15nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)膜,其特征在于,當(dāng)所述半導(dǎo)體激光器的波段為1310nm時(shí),所述al2o3層的折射率為1.6~1.611,所述ti3o5層的折射率為2.294~2.3,所述sio2層的折射率為1.4~1.443。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)膜,其特征在于,所述類金剛膜層包括無氫類金剛石碳膜和氫化類金剛石碳膜。
8.一種半導(dǎo)體激光器,其特征在于,包括半導(dǎo)體激光器本體,所述半導(dǎo)體激光器本體的腔面上鍍有如權(quán)利要求1~7任一項(xiàng)所述的光學(xué)膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體激光器,其特征在于,當(dāng)所述功能層為透射層時(shí),所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的前腔面上;當(dāng)所述功能層為反射層時(shí),所述光學(xué)膜設(shè)置在半導(dǎo)體激光器的后腔面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體激光器,其特征在于,所述半導(dǎo)體激光器的襯底材料為inp。