1.一種用于電渦流傳感器的標(biāo)定方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述修正后第一基值信號(hào)和所述第二基值信號(hào)，對(duì)所述晶圓信號(hào)進(jìn)行修正，得到所述修正后晶圓信號(hào)，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一激勵(lì)信號(hào)和所述第二激勵(lì)信號(hào)，確定所述目標(biāo)修正量的公式如下：
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述確定所述晶圓信號(hào)相對(duì)于所述第二基值信號(hào)的信號(hào)變化量的公式如下：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述修正后第一基值信號(hào)和所述信號(hào)變化量，確定修正后晶圓信號(hào)的公式如下：
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述修正后晶圓信號(hào)和所述修正后第一基值信號(hào)，確定所述標(biāo)定信息的公式如下：
9.一種厚度測(cè)量方法，其特征在于，包括：
10.一種用于電渦流傳感器的標(biāo)定裝置，其特征在于，包括：
11.一種厚度測(cè)量裝置，其特征在于，包括：
12.一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，包括：拋光盤、承載頭、供液裝置、電渦流傳感器和控制器；
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器還用于執(zhí)行以下處理：
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器執(zhí)行的所述根據(jù)所述修正后第一基值信號(hào)和所述第二基值信號(hào)，對(duì)所述晶圓信號(hào)進(jìn)行修正，得到所述修正后晶圓信號(hào)，包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器還用于執(zhí)行以下處理：
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器執(zhí)行的所述根據(jù)所述第一激勵(lì)信號(hào)和所述第二激勵(lì)信號(hào)，確定所述目標(biāo)修正量的公式如下：
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器執(zhí)行的所述確定所述晶圓信號(hào)相對(duì)于所述第二基值信號(hào)的信號(hào)變化量的公式如下：
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器執(zhí)行的所述根據(jù)所述修正后第一基值信號(hào)和所述信號(hào)變化量，確定修正后晶圓信號(hào)的公式如下：
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其特征在于，所述控制器執(zhí)行的所述根據(jù)所述修正后晶圓信號(hào)和所述修正后第一基值信號(hào)，確定所述標(biāo)定信息的公式如下：
20.一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，包括：拋光盤、承載頭、供液裝置、電渦流傳感器和控制器；
21.一種計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，該程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的方法或者如權(quán)利要求9所述的方法。
22.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其特征在于，包括計(jì)算機(jī)指令，所述計(jì)算機(jī)指令指示計(jì)算設(shè)備執(zhí)行如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的方法或者如權(quán)利要求9所述的方法。