技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種陣列基板和陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括基底和形成在基底上的源極、漏極、有源層和鈍化層，通過將有源層覆蓋源極和/或漏極，且鈍化層覆蓋有源層，從而在鈍化層的沉積過程中，沉積氣體中氧離子僅與有源層接觸，且不會與源極和漏極接觸，相應(yīng)氧離子不會氧化源極和漏極的材料，進(jìn)而在保證陣列基板的電學(xué)特性的前提下，減小陣列基板的信號延遲量，相應(yīng)提高顯示面板的顯示效果。

技術(shù)研發(fā)人員：孫雙
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.08.29
技術(shù)公布日：2017.11.07