本發(fā)明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示基板、其制作方法和顯示裝置。

背景技術：

在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，顯示面板很容易與外界產(chǎn)生碰撞或跌落，或者在較為惡劣的環(huán)境下(如高溫高濕)的情況下產(chǎn)生應力，進而導致保護層開裂產(chǎn)生微裂紋，但這些情況下，保護層產(chǎn)生的微裂紋有時候是很難在初檢時就被發(fā)現(xiàn)，從而導致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入，而且一旦接觸腐蝕氣體或液體，這種缺陷就會被放大，從而損傷里面的膜層和金屬走線，導致屏幕顯示發(fā)生不良。

綜上所述，在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護層容易產(chǎn)生微裂紋，從而導致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入，損傷里面的膜層和金屬走線。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種顯示基板、其制作方法和顯示裝置，用以解決在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護層容易產(chǎn)生微裂紋，從而導致腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入，損傷里面的膜層和金屬走線的問題。

本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板，包括：襯底基板、設置在所述襯底基板上的至少一層導電層、以及設置在所述導電層上的至少一層保護層；其中，

所述保護層中包含有多個同層設置的填充物；

每個所述填充物包括多個被外壁包裹的納米級填充粒子。

較佳的，所述填充物設置在所述保護層上遠離所述襯底基板的一側；或，所述填充物設置在所述保護層之中。

較佳的，所述保護層包括鈍化層。

較佳的，所述填充物的外壁包括聚脲材料；所述填充物的填充粒子包括負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，如本發(fā)明實施例提供的上述任一顯示基板。

本發(fā)明實施例還提供了一種顯示基板的制作方法，包括：

在襯底基板上形成導電層圖案；

在所述導電層圖案上形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案；

其中，所述填充物包括多個被外壁包裹的納米級填充粒子。

較佳的，在所述導電層圖案上形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案，包括：

在所述導電層圖案上形成一層保護層薄膜；

在所述保護層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

將涂覆有混合溶液的襯底基板進行烘烤處理，使所述混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于所述保護層薄膜上的填充物；

通過構圖工藝對所述保護層薄膜和所述填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。

較佳的，將涂覆有混合溶液的襯底基板進行烘烤處理之后，通過構圖工藝對所述保護層薄膜和填充物進行刻蝕之前，還包括：

在所述填充物上再形成一層保護層薄膜；

通過構圖工藝對所述保護層薄膜和所述填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案，具體包括：

通過構圖工藝對兩層保護層薄膜和所述填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。

較佳的，所述溶劑的材料為下列材料中的一種或組合：環(huán)己烷或有機溶劑。

較佳的，所述混合溶液中填充物所占的質量比為50％-70％。

本發(fā)明有益效果如下：

本發(fā)明實施例中提供的顯示基板，在至少一層導電層上方的保護層中，設置有多個同層設置且包含納米級填充粒子的填充物，當保護層產(chǎn)生微裂紋時，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會隨著裂紋破裂，填充物內部的納米級填充粒子可以自動填補到裂紋所在的位置，進而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入顯示基板，損傷導電層，提高了顯示基板的良率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的截面結構示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的保護層產(chǎn)生裂紋的結構示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法的步驟流程圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的形成包含有填充物的保護層圖案的制作方法的步驟流程圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法的整體步驟流程圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明一部分實施例，并不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

其中，附圖中膜層厚度和區(qū)域形狀不反映其真實比例，目的只是示意說明本發(fā)明的內容。

在下述實施例中，所用的填充物優(yōu)選為填充微球，易于加工且更穩(wěn)定。然而，本領域技術人員容易認知，基于已有的加工工藝，可以將填充物加工成各種所需形狀，例如矩形、橢圓等。

本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板，適用于oled(organiclight-emittingdiode，有機發(fā)光二極管)顯示基板和lcd(liquidcrystaldisplay，液晶顯示器)顯示基板或其它各種顯示模組，主要在現(xiàn)有顯示基板的基礎上，對導電層上方的保護層進行了改進，保護層中包含有多個同層設置的填充物，當保護層產(chǎn)生微裂紋時，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會隨著裂紋破裂，填充物內部的納米級填充粒子可以自動填補到裂紋所在的位置，進而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入，損傷里面的膜層和金屬走線，提高了顯示基板的良率。下面分別對本發(fā)明實施例提供的顯示基板、其制作方法及顯示裝置進行詳細的說明。

如圖1所示，為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的截面結構示意圖；該顯示基板，包括：襯底基板100、設置在襯底基板100上的至少一層導電層101、以及設置在導電層101上的至少一層保護層102；其中，保護層102中包含有多個同層設置的填充物103；每個填充物103包括多個被外壁包裹的納米級填充粒子。

在本申請的實施例中，較佳的，在保護層102中，至少有部分填充物103同層且均勻分布，且其在襯底基板上的投影覆蓋導電層(圖案)在襯底基板上的投影。

圖1只是簡單示意了一種可能的顯示基板結構示意圖，由于本發(fā)明是對導電層上方的保護層的改進，其中，該保護層可以是鈍化層，也可以絕緣層，具體的可以根據(jù)需要進行設置，而且本發(fā)明的構思可以適用于oled顯示基板和lcd顯示基板，在此并未畫出所有可能的顯示基板的詳細結構，同時，圖1僅畫出了顯示基板的部分主要結構，例如，圖1中并沒有畫出tft(thinfilmtransistor，薄膜晶體管)的結構、液晶層等；這些未圖示的結構為本領域技術人員公知，在此不做介紹。

在具體實施時，由于在現(xiàn)有的顯示面板制程以及后續(xù)的使用過程中，保護層容易產(chǎn)生微裂紋，為了不使腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入，損傷里面的導電層，本發(fā)明實施例提供的顯示基板，在保護層102中設置有多個同層設置的填充物103；而且是在的每個填充物103包括多個被外壁包裹的納米級填充粒子。

如圖2所示，為本發(fā)明實施例提供的保護層產(chǎn)生裂紋的結構示意圖；由于在保護層102中設置有多個包含納米級填充粒子的填充物，當保護層102產(chǎn)生微裂紋s(即圖中黑色的縫隙)時，微裂紋s所在位置的填充物的外壁1031也會隨著裂紋破裂，隨后粒徑足夠小的納米級填充粒子1032從填充物中滲出，自動填補到裂紋s所在的位置，可以填補裂紋，保證導電層始終有保護層覆蓋而不裸露在外界環(huán)境中，防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入顯示基板損傷導電層，進而提高了顯示基板的良率。

在具體實施時，填充物的位置可以根據(jù)需要進行設置，只要是設置在保護層中即可，既可以設置在保護層內部，也可以設置在保護層的表層。較佳的，填充物設置在保護層上遠離襯底基板的一側；或，填充物設置在保護層之中。

具體的，填充物設置的位置與保護層的材料和制作工藝有關系，保護層可以是絕緣層，也可以是鈍化層，較佳的，保護層包括鈍化層。由于現(xiàn)有的鈍化層一般采用pecvd(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，等離子體增強化學的氣相沉積法)工藝，利用化學反應生成sinx，形成鈍化層。因此，填充物可以通過溶液法制作到保護層上遠離襯底基板的一側；又或者是先采用pecvd工藝沉積一層鈍化層，然后在這層鈍化層上制作一層填充物，之后再在填充物上方制作一層鈍化層，即把填充物設置在保護層之中。

在具體實施時，上述填充物可以根據(jù)需要進行選取，只要是由外壁包裹用于進行填充的納米級填充粒子即可。較佳的，填充物的直徑為50微米-200微米；相應的，納米級填充粒子的直徑可以為不高于于100nm，優(yōu)選不高于50nm。而具體的填充物包括外壁和內部的填充粒子，具體的制作材料可以根據(jù)實際需要進行選取，較佳的，填充物的外壁包括聚脲材料；填充物的填充粒子包括負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

具體的，上述負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅的填充粒子，可以通過微乳液聚合的方法制作，具體的制作方法如下：

1)將ctab(十二烷基三甲基溴化銨)、mgso4(硫酸鎂)、sinx(氮化硅)加入到去離子水中，進行超聲分散；

2)以十二烷基苯磺酸鈉作為乳化劑，加入teos(正硅酸四乙酯)，進行反應；

3)待反應結束后，使用無水乙醇進行破乳，然后烘干，得到負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅。

在制作出負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅之后，通過反相細乳液法制作出填充物：

1)將二胺單體混合物(eda乙二胺和aibn偶氮二異丁腈)、nacl(氯化鈉)、以及之前的制備的負載氮化硅納米粒子的介孔氧化硅加入到去離子水中，進行超聲分散；

2)使用十二烷基苯磺酸鈉作為乳化劑，kps(過硫酸鉀)作為引發(fā)劑，對步驟1)所得分散液進行預乳化，得到混合溶液；

3)然后在混合溶液中緩慢滴加含tdi(甲苯二異氰酸酯)的環(huán)己烷溶液，反應結束后，洗滌干凈后得到包裹有氮化硅納米粒子的聚脲微球(即本發(fā)明實施例中的填充物)。

上述所提供的制備過程僅為一種示意性說明，本領域技術人員根據(jù)所提供的制備工藝結合相應的化學反應可選擇合適的反應原料用量、反應條件與反應時間，例如反應時間可以是12小時、24小時或其它所需反應時間，反應溫度可以是常溫(20-30℃)或其它有利于加快反應進行的溫度，乳化時間可以是1小時或其它可行的時間，烘干方式可以是常溫通風烘干、30-50℃熱烘干等。

當然，上述制作填充物的過程只是一種較佳的制作方法，僅用來解釋說明如何制作填充物，并不用于限定本發(fā)明中填充物的制作方法。

基于同一發(fā)明構思，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括本發(fā)明實施例提供的上述任一顯示基板。該顯示裝置的實施可以參見上述任一顯示基板的實施例，重復之處不再贅述。

本發(fā)明實施例還提供了一種如本發(fā)明實施例提供的上述任一顯示基板的制作方法，由于該制作方法解決問題的原理與本發(fā)明實施例提供的顯示基板相似，因此該制作方法的實施可以參見顯示基板的實施，重復之處不再贅述。

如圖3所示，為本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法的步驟流程圖，具體可以采用如下步驟實現(xiàn)：

步驟301，在襯底基板上形成導電層圖案；

步驟302，在導電層圖案上形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案；其中，填充物包括多個被外壁包裹的納米級填充粒子。

在具體實施時，先在襯底基板上形成導電層的圖案，具體可以采用現(xiàn)有技術中的方式進行制作，在此不做限定。之后制作保護層的圖案，并在制作過程中，采用同一次制作工藝在保護層中形成多個填充物，下面具體介紹如何形成包含有填充物的保護層圖案。

如圖4所示，為本發(fā)明實施例提供的形成包含有填充物的保護層圖案的制作方法的步驟流程圖，具體可以采用如下步驟實現(xiàn)：

步驟3021，在導電層圖案上形成一層保護層薄膜；

步驟3022，在保護層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

步驟3023，將涂覆有混合溶液的襯底基板進行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護層薄膜上的填充物；

步驟3024，通過構圖工藝對保護層薄膜和填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。

在形成導電層的圖案之后，在上方制作保護層，首先執(zhí)行步驟3021，形成一整層的保護層薄膜；此時，先不進行構圖，而是執(zhí)行步驟3022，在保護層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；該混合溶液即通過溶劑溶解的填充物。上述溶劑的材料可以根據(jù)需要進行選取，只要能用于溶解填充物即可，但是為了防止溶劑對保護層薄膜產(chǎn)生影響，較佳的，溶劑的材料為下列材料中的一種或組合：環(huán)己烷或有機溶劑。

具體的，一般填充物在未使用前以固體粉末的形式低溫密封保存在試劑瓶中，使用時以一定的質量百分比溶解在溶劑中使用。較佳的，混合溶液中填充物所占的質量比為50％-70％。

在涂覆完混合溶液之后，需要去除溶劑，使填充物固定到保護層薄膜上，因而需要執(zhí)行步驟3023，將涂覆有混合溶液的襯底基板進行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護層薄膜上的填充物。當然，也可以根據(jù)需要采取其它的工藝去除混合溶液中的溶劑。

在去除溶劑之后，由于烘烤，填充物會固定到保護層薄膜上，可以直接對烘烤處理后的保護層薄膜進行構圖，即執(zhí)行步驟3024，通過構圖工藝對保護層薄膜和填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。此時，形成的保護層圖案中設置有填充物，當保護層產(chǎn)生微裂紋時，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會隨著裂紋破裂，填充物內部的納米級填充粒子可以自動填補到裂紋所在的位置，進而可以保護顯示基板中的導電層，提高了顯示基板的良率。

具體的，為了使填充物起到更好的保護作用，可以在填充物的上方再制作一層保護層薄膜，較佳的，在步驟3023之后，在步驟3024之前，還包括：在填充物上再形成一層保護層薄膜；即將填充物設置在保護層圖案之中。此時，則需要通過構圖工藝對兩層保護層薄膜和填充物同時進行刻蝕，進而形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。

為了清楚的說明本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法，如圖5所示，為本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法的整體步驟流程圖，具體包括如下步驟：

步驟501，在襯底基板上形成導電層圖案；

步驟502，在導電層圖案上形成一層保護層薄膜；

步驟503，在保護層薄膜上涂覆包含填充物的混合溶液；

步驟504，將涂覆有混合溶液的襯底基板進行烘烤處理，使混合溶液中的溶劑揮發(fā)，形成位于保護層薄膜上的填充物；

步驟505，在填充物上再形成一層保護層薄膜；

步驟506，通過構圖工藝對兩層保護層薄膜和填充物進行刻蝕，形成包含有多個同層設置的填充物的保護層圖案。

綜上所述，本發(fā)明實施例中提供的顯示基板，在至少一層導電層上方的保護層中，設置有多個同層設置且包含納米級填充粒子的填充物，當保護層產(chǎn)生微裂紋時，微裂紋所在位置的填充物的外壁也會隨著裂紋破裂，填充物內部的納米級填充粒子可以自動填補到裂紋所在的位置，進而可以防止腐蝕氣體或液體從微裂紋中進入顯示基板，損傷導電層，提高了顯示基板的良率。

顯然，本領域的技術人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內。