技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種陣列基板及制造方法、顯示裝置，方法包括：在襯底基板上依次制備一層疊結構及陽極層；在層疊結構及陽極層上制備具有容置腔及凹陷結構的光阻層；在容置腔內(nèi)制備有機發(fā)光器件；在有機發(fā)光器件及光阻層上制備反射陰極層。通過上述方式，本發(fā)明能夠避免由反射陰極層引起的漏光現(xiàn)象，提升面板顯示品質。

技術研發(fā)人員：韓佰祥
受保護的技術使用者：深圳市華星光電技術有限公司
技術研發(fā)日：2017.04.24
技術公布日：2017.09.05